C23C 16/455 — характеризуемые способом, используемым для введения газов в реакционную камеру или для модифицирования газовых потоков в реакционной камере

Номер патента: 24073

Опубликовано: 31.08.2016

Автор: Маула Ярмо

МПК: C23C 16/44, B01J 2/00, C23C 16/455...

Метки: нанесения, устройство, способ, покрытий

Формула / Реферат:

1. Способ нанесения покрытия на один или более объектов (1), включающий введение по меньшей мере двух предшественников в реакционную камеру (2, 40) и проведение попеременно повторяющихся поверхностных реакций объекта (1) с двумя или более газообразными предшественниками внутри реакционной камеры (2, 40), отличающийся тем, что подача предшественника осуществляется таким образом, что имеет местоформирование по меньшей мере одной отдельной области...

Номер патента: 23563

Опубликовано: 30.06.2016

Авторы: Раяла Маркку, Тикканен Юха

МПК: B05D 1/10, B05D 1/02, C03C 17/00...

Метки: способ, процесса, методоm, контроля, покрытия, осаждения, устройство

Формула / Реферат:

1. Способ контроля процесса покрытия методом осаждения из паровой фазы, при котором осуществляют мониторинг концентрации ультратонких частиц, включающий зарядку частиц и измерение электрического тока, возникающего вследствие движения заряженных частиц, и на основе этого мониторинга регулируют в режиме реального времени по меньшей мере один из параметров процесса, влияющих на образование частиц.2. Способ по п.1, в котором измерение электрического...

Номер патента: 22825

Опубликовано: 31.03.2016

Авторы: Энхолм Робин, Соининен Пекка

МПК: C23C 16/455

Метки: распылительная, головка

Формула / Реферат:

1. Распылительная головка (2) для обработки поверхности (4) подложки (6) последовательными поверхностными реакциями по меньшей мере одного первого прекурсора (А) и второго прекурсора (В), причем распылительная головка (2) имеет выходную сторону (5), содержащую один или более первых подающих каналов (40) для подачи на поверхность (4) подложки (6) первого прекурсора (А); один или более вторых подающих каналов (44) для подачи на поверхность (4)...

Номер патента: 22723

Опубликовано: 29.02.2016

Авторы: Сёдерлунд Микко, Путконен Матти, Исомяки Нора, Маула Ярмо, Тёрнквист Рунар, Снек Сами, Йюльхя Олли

МПК: C23C 16/455, C23C 16/40

Метки: изготовления, способ, многослойного, покрытие, многослойное, покрытия

Формула / Реферат:

1. Способ изготовления многослойного покрытия на подложке (3), включающий введение подложки (3) в реакционное пространство, нанесение слоя первого материала (1) на подложку (3) и нанесение слоя второго материала (2) на слой первого материала (1), отличающийся тем, что нанесение слоя первого материала (1) включает стадиивведения первого предшественника в реакционное пространство так, чтобы по меньшей мере часть первого предшественника...

Номер патента: 21602

Опубликовано: 30.07.2015

Автор: Маула Ярмо

МПК: C23C 16/40, C23C 16/08, C23C 16/18...

Метки: способ, электропроводная, получения, электропроводной, пленки, применение, пленка, оксидной, оксидная

Формула / Реферат:

1. Способ получения электропроводной оксидной пленки (1) на подложке (2), включающий стадии введения подложки (2) в реакционное пространство, образования предварительного осажденного слоя на поверхности осаждения подложки (2) и обработки поверхности осаждения химическим реагентом, отличающийся тем, что стадия образования предварительного осажденного слоя на поверхности осаждения подложки (2) включает образование предварительного осажденного слоя...

Номер патента: 20440

Опубликовано: 28.11.2014

Авторы: Райяла Маркку, Путконен Матти

МПК: B32B 17/10, C03C 17/245, C03C 17/22...

Метки: прочности, содержащее, повышения, покрытие, покрытия, способ, стекло, помощью, изгиб, стекла

Формула / Реферат:

1. Способ повышения прочности на изгиб стекла (1) с помощью покрытия, отличающийся тем, что наносят на стекло (1) попеременным повторением, по существу, самоограничивающихся поверхностных реакций путем осаждения атомного слоя оксидное покрытие, содержащее оксид по меньшей мере одного элемента, или нитридное покрытие, содержащее нитрид по меньшей мере одного элемента, тонкими слоями (4-6), каждый из которых имеет толщину менее 5 нм, причем...

Номер патента: 18887

Опубликовано: 29.11.2013

Авторы: Яухиайнен Мика, Соининен Пекка

МПК: C23C 16/455, C30B 25/14

Метки: устройство, реактора, атомного, осаждения, послойного

Формула / Реферат:

1. Устройство для реактора послойного атомного осаждения, включающего реакционную камеру, средний элемент, два реверсивных элемента, патрубки для подачи реакционного газа и его отвода и патрубки для подачи барьерного газа, при этом патрубки для подачи и отвода реакционного газа и подачи барьерного газа содержат средний элемент (3), имеющий множество параллельных каналов (4 и 6), проходящих через этот элемент, и первый и второй реверсивные...

Номер патента: 16692

Опубликовано: 30.06.2012

Авторы: Маула Ярмо, Хяркенен Кари

МПК: C23C 16/40, C23C 16/455, H01L 21/314...

Метки: способ, оксидов, материалов, металлов, осаждения

Формула / Реферат:

1. Способ снижения или исключения неоднородности слоя для метода послойного атомного осаждения или метода типа послойного атомного осаждения, включающий следующие фазы:a) воздействие на поверхность первым предшественником или смесью предшественников, включающих в себя по меньшей мере один галогенид металла,b) воздействие на полученную поверхность вторым предшественником, выбранным из группы, состоящей из воды, перекиси водорода, трет-бутанола и...

Номер патента: 16639

Опубликовано: 30.06.2012

Авторы: Райяла Маркку, Снек Сами, Сойнинен Пекка

МПК: G02B 1/10, C23C 16/455, C03C 17/36...

Метки: стеклянное, изделие, изделия, изготовления, способ, стеклянного

Формула / Реферат:

1. Стеклянное изделие (1), включающее стеклянную подложку (2); отражающий металлический слой (3), осажденный на стеклянную подложку; и пассивирующий слой (4), осажденный на отражающий металлический слой, отличающееся тем, что отражающий металлический слой содержит серебро, а пассивирующий слой (4) осажден с применением процесса осаждения атомных слоев.2. Стеклянное изделие (1) по п.1, отличающееся тем, что пассивирующий слой (4) осажден...

Номер патента: 15231

Опубликовано: 30.06.2011

Авторы: Соининен Пекка, Снек Сами

МПК: C23C 16/00, C23C 16/455, C23C 16/458...

Метки: осаждения, реактора, атомного, устройство, послойного

Формула / Реферат:

1. Реактор послойного атомного осаждения, содержащий вакуумную камеру (2) и реакционную камеру (4), расположенную внутри вакуумной камеры (2), где реакционная камера (4) снабжена открываемой стенкой (24), загрузочное отверстие (12), образованное в боковой стенке/корпусе (22) или в торцевой стенке (6, 20) вакуумной камеры (2), загрузочное устройство, сообщающееся с загрузочным отверстием, установленное в первой или второй торцевой стенке (6, 20)...

Номер патента: 12990

Опубликовано: 26.02.2010

Авторы: Снек Сами, Мякеля Милья, Соининен Пекка

МПК: A44C 27/00, C23C 16/455, C03C 17/36...

Метки: серебра, покрытие, защитное

Формула / Реферат:

1. Способ защиты от потускнения продуктов, изделий или деталей из серебра, отличающийся тем, что наносят тонкое покрытие защитного материала, имеющее толщину между 1 и 100 нм по меньшей мере на часть поверхности продукта, изделия или детали из серебра с использованием метода послойного атомного осаждения.2. Способ по п.1, отличающийся тем, что наносят тонкое покрытие, имеющее толщину между 2 и 20 нм.3. Способ по п.1, отличающийся тем, что...

Номер патента: 12961

Опубликовано: 26.02.2010

Авторы: Кето Лейф, Соининен Пекка

МПК: C23C 16/455, C23C 16/00, C23C 16/44...

Метки: атомного, послойного, осаждения, реактор

Формула / Реферат:

1. Реакционная камера реактора послойного атомного осаждения, содержащая нижнюю стенку, верхнюю стенку и боковые стенки, проходящие между верхней стенкой и нижней стенкой и определяющие контур реакционной камеры с образованием внутренней части (28) реакционной камеры, причем реактор содержит также одно или несколько впускных отверстий (30) для подачи газа в реакционную камеру и одно или несколько выпускных отверстий (40) для отвода поданного в...

Номер патента: 10965

Опубликовано: 30.12.2008

Автор: Нолан Джеймс Ф.

МПК: C23C 16/00, C23C 16/455, C23C 16/448...

Метки: материала, способ, подложке, установка, осаждения

Формула / Реферат:

1. Установка для осаждения материала на подложке, содержащая проницаемый элемент трубчатой формы, снабженный средством нагрева до температуры подачи; трубопровод для подачи транспортирующего газа и материала в полость проницаемого элемента; источник вспомогательного газа с множеством отверстий, размещенный в полости проницаемого элемента и обеспечивающий равномерное распределение паров материала, прошедших через проницаемый элемент; и...