C23C 16/00 — Химическое нанесение покрытия путем разложения газообразных соединений, причем продукты реакции материала поверхности не остаются в покрытии, т.е. способы химического осаждения паров (ХОП)

Номер патента: 15231

Опубликовано: 30.06.2011

Авторы: Снек Сами, Соининен Пекка

МПК: C23C 16/458, C23C 16/00, C23C 16/455...

Метки: устройство, атомного, реактора, осаждения, послойного

Формула / Реферат:

1. Реактор послойного атомного осаждения, содержащий вакуумную камеру (2) и реакционную камеру (4), расположенную внутри вакуумной камеры (2), где реакционная камера (4) снабжена открываемой стенкой (24), загрузочное отверстие (12), образованное в боковой стенке/корпусе (22) или в торцевой стенке (6, 20) вакуумной камеры (2), загрузочное устройство, сообщающееся с загрузочным отверстием, установленное в первой или второй торцевой стенке (6, 20)...

Номер патента: 12961

Опубликовано: 26.02.2010

Авторы: Кето Лейф, Соининен Пекка

МПК: C23C 16/00, C23C 16/44, C23C 16/455...

Метки: осаждения, атомного, реактор, послойного

Формула / Реферат:

1. Реакционная камера реактора послойного атомного осаждения, содержащая нижнюю стенку, верхнюю стенку и боковые стенки, проходящие между верхней стенкой и нижней стенкой и определяющие контур реакционной камеры с образованием внутренней части (28) реакционной камеры, причем реактор содержит также одно или несколько впускных отверстий (30) для подачи газа в реакционную камеру и одно или несколько выпускных отверстий (40) для отвода поданного в...

Номер патента: 10965

Опубликовано: 30.12.2008

Автор: Нолан Джеймс Ф.

МПК: C23C 16/455, C23C 16/448, C23C 16/00...

Метки: материала, способ, подложке, осаждения, установка

Формула / Реферат:

1. Установка для осаждения материала на подложке, содержащая проницаемый элемент трубчатой формы, снабженный средством нагрева до температуры подачи; трубопровод для подачи транспортирующего газа и материала в полость проницаемого элемента; источник вспомогательного газа с множеством отверстий, размещенный в полости проницаемого элемента и обеспечивающий равномерное распределение паров материала, прошедших через проницаемый элемент; и...