H01L 21/314 — из неорганических веществ
Способ осаждения материалов из оксидов металлов
Номер патента: 16692
Опубликовано: 30.06.2012
Авторы: Хяркенен Кари, Маула Ярмо
МПК: H01L 21/314, C23C 16/455, C23C 16/40...
Метки: способ, материалов, оксидов, металлов, осаждения
Формула / Реферат:
1. Способ снижения или исключения неоднородности слоя для метода послойного атомного осаждения или метода типа послойного атомного осаждения, включающий следующие фазы:a) воздействие на поверхность первым предшественником или смесью предшественников, включающих в себя по меньшей мере один галогенид металла,b) воздействие на полученную поверхность вторым предшественником, выбранным из группы, состоящей из воды, перекиси водорода, трет-бутанола и...