C23C 16/40 — оксиды

Номер патента: 24976

Опубликовано: 30.11.2016

Авторы: Тумазе Клер, Ланте Рафаэль, Юиньяр Арно, Мельхер Мартин

МПК: C03C 17/34, C23C 16/40

Метки: барьерный, металлов, основе, слой, щелочных

Формула / Реферат:

1. Остекление, содержащее прозрачную стеклянную подложку, содержащую ионы по меньшей мере одного щелочного металла, и прозрачный слой оксикарбида кремния (SiOxCy) общей толщиной E, включающее:(a) глубокую зону с высоким содержанием углерода, идущую от глубины P3 до глубины P4, где атомное отношение C/Si больше или равно 0,5, и(b) поверхностную зону с низким содержанием углерода, идущую от глубины P1 до глубины P2, где атомное отношение C/Si...

Номер патента: 22723

Опубликовано: 29.02.2016

Авторы: Маула Ярмо, Путконен Матти, Йюльхя Олли, Снек Сами, Тёрнквист Рунар, Сёдерлунд Микко, Исомяки Нора

МПК: C23C 16/455, C23C 16/40

Метки: покрытия, покрытие, многослойного, способ, многослойное, изготовления

Формула / Реферат:

1. Способ изготовления многослойного покрытия на подложке (3), включающий введение подложки (3) в реакционное пространство, нанесение слоя первого материала (1) на подложку (3) и нанесение слоя второго материала (2) на слой первого материала (1), отличающийся тем, что нанесение слоя первого материала (1) включает стадиивведения первого предшественника в реакционное пространство так, чтобы по меньшей мере часть первого предшественника...

Номер патента: 21602

Опубликовано: 30.07.2015

Автор: Маула Ярмо

МПК: C23C 16/40, C23C 16/08, C23C 16/18...

Метки: пленка, пленки, оксидной, электропроводная, электропроводной, получения, способ, применение, оксидная

Формула / Реферат:

1. Способ получения электропроводной оксидной пленки (1) на подложке (2), включающий стадии введения подложки (2) в реакционное пространство, образования предварительного осажденного слоя на поверхности осаждения подложки (2) и обработки поверхности осаждения химическим реагентом, отличающийся тем, что стадия образования предварительного осажденного слоя на поверхности осаждения подложки (2) включает образование предварительного осажденного слоя...

Номер патента: 16692

Опубликовано: 30.06.2012

Авторы: Маула Ярмо, Хяркенен Кари

МПК: C23C 16/40, C23C 16/455, H01L 21/314...

Метки: осаждения, оксидов, способ, материалов, металлов

Формула / Реферат:

1. Способ снижения или исключения неоднородности слоя для метода послойного атомного осаждения или метода типа послойного атомного осаждения, включающий следующие фазы:a) воздействие на поверхность первым предшественником или смесью предшественников, включающих в себя по меньшей мере один галогенид металла,b) воздействие на полученную поверхность вторым предшественником, выбранным из группы, состоящей из воды, перекиси водорода, трет-бутанола и...

Номер патента: 4759

Опубликовано: 26.08.2004

Авторы: Аммерлаан Йоханнес Андреас Мариа, Мак-Курди Ричард Джозеф, Хурст Саймон Джеймс

МПК: C03C 17/245, C23C 16/40

Метки: подложках, изготовления, покрытий, способ, фотокаталитических

Формула / Реферат:

1. Способ изготовления стекла с износостойким активным фотокаталитическим покрытием, который включает осаждение на поверхность стеклянной подложки активного фотокаталитического титаноокисного слоя толщиной менее 40 нм путем приведения поверхности подложки, имеющей температуру в диапазоне 645-720шC, в соприкосновение с текучей смесью, содержащей источник титана. 2. Способ по п.1, в котором подложка имеет температуру в диапазоне 670-720шC. 3....