Хисамов Айрат Хамитович

Номер патента: 9514

Опубликовано: 28.02.2008

Авторы: Левчук Николай Евгеньевич, Савенко Владимир Анатольевич, Хисамов Айрат Хамитович, Ширипов Владимир Яковлевич, Хохлов Александр Евгеньевич, Марышев Сергей Павлович

МПК: H01J 37/317, C23C 14/35, C23C 14/48...

Метки: способа, способ, обработки, ионной, осуществления, поверхности, устройство, диэлектрика

Формула / Реферат:

1. Способ ионной обработки поверхности диэлектрика, включающий формирование направленного потока ионов и направленного потока электронов, воздействие ими на обрабатываемую поверхность диэлектрика, при этом поток электронов служит для нейтрализации положительного заряда, возникающего на поверхности диэлектрика, отличающийся тем, что поток электронов формируют с помощью плазменного катодного разряда и туннелеобразного магнитного поля, при этом...

Номер патента: 9303

Опубликовано: 28.12.2007

Авторы: Марышев Сергей Павлович, Ширипов Владимир Яковлевич, Хохлов Александр Евгеньевич, Левчук Николай Евгеньевич, Хисамов Айрат Хамитович

МПК: H01L 21/203, C23C 14/46

Метки: вакууме, кремния, нитрида, нанесения, пленок, варианты, способ

Формула / Реферат:

1. Способ нанесения пленок нитрида кремния в вакууме на неподвижно установленную подложку, при котором в вакуумную камеру подают смесь рабочих газов: азота и аргона, формируют ионный пучок по крайней мере из одного источника ионов, мишень из кремния распыляют направленным ионным пучком, а распыленный материал осаждают на подложку послойно путем сканирования ее поверхности, при этом источник ионов вместе с мишенью перемещают...

Номер патента: 8187

Опубликовано: 27.04.2007

Авторы: Ширипов Владимир Яковлевич, Хисамов Айрат Хамитович, Марышев Сергей Павлович

МПК: C23C 14/50, C23C 14/46, H01L 21/3065...

Метки: устройство, реализации, масок, способ, варианты, очистки, дисплеев, теневых, производстве

Формула / Реферат:

1. Способ очистки теневых масок в производстве дисплеев, включающий формирование ионного пучка в вакуумной камере с помощью источника ионов, размещение маски в камере напротив эмиссионной поверхности источника ионов, отличающийся тем, что в вакуумной камере устанавливают охлаждаемый держатель, в котором размещают маску, при этом обрабатываемую поверхность маски, обращенную в сторону эмиссионной поверхности источника ионов, сканируют...

Номер патента: 7701

Опубликовано: 29.12.2006

Авторы: Левчук Николай Евгеньевич, Марышев Сергей Павлович, Хисамов Айрат Хамитович, Ширипов Владимир Яковлевич

МПК: C23C 14/56, H01J 37/317

Метки: варианты, кластер, вакуумный, подложку, нанесения, покрытий

Формула / Реферат:

1. Вакуумный кластер для нанесения покрытий на подложку, включающий вакуумную камеру, подложкодержатель, предназначенный для установки подложки, технологическое устройство для нанесения покрытий на подложку и механизм перемещения технологического устройства, установленный с возможностью возвратно-поступательного движения параллельно поверхности подложкодержателя и/или подложки, отличающийся тем, что вакуумная камера снабжена основным и по...