C23C 14/35 — с использованием магнитного поля, например распыление магнетроном

Номер патента: 24663

Опубликовано: 31.10.2016

Авторы: Рамунни Энрико, Мартелли Джан Никола, Гулла Андреа Франческо, Антоцци Антонио Лоренцо, Якопетти Лучано, Урджеге Кристиан

МПК: C23C 14/08, C23C 14/16, C23C 14/22...

Метки: осаждения, вакуумного, поверхностей, активация, методов, помощью, процессе, электродов, непрерывном

Формула / Реферат:

1. Способ получения электродов для электролитических процессов, включающий осаждение в непрерывном режиме плотного слоя благородных металлов или их оксидов на металлическую подложку методом физического осаждения из паровой фазы, причем указанный способ включает этапывведения указанной металлической подложки в виде заготовок деталей в камеру кондиционирования устройства физического осаждения из паровой фазы;гидравлического соединения указанной...

Номер патента: 23891

Опубликовано: 29.07.2016

Автор: Фидлер Марио

МПК: C23C 14/35, C23C 14/56

Метки: напыления, нанесения, методоm, устройство, вакуумного, обработки, способ, подложек, покрытия, поверхности

Формула / Реферат:

1. Устройство для обработки и/или нанесения покрытия на поверхности подложек методом вакуумного напыления, содержащее вакуумную камеру, в которой установлены несколько держателей (26) подложек, выполненных с возможностью приведения во вращение, по меньшей мере одно экранирующее приспособление (48, 50, 52, 54) и несколько блоков (12, 14, 16) обработки и/или нанесения покрытия, включающих по меньшей мере один из источника испарения, катода,...

Номер патента: 22113

Опубликовано: 30.11.2015

Автор: Ламмер Йоханнес

МПК: A61L 31/08, A61L 27/30, C23C 14/02...

Метки: имплантатов, медицинских, защитные, покрытия

Формула / Реферат:

1. Подложка с однослойным покрытием, включающим ионно-имплантированную область адгезии (1, 2), расположенную на внутренней стороне слоя, промежуточную область (3, 4, 5а, 5b, 6, 7, 8, 9), характеризующуюся изменением состава по поперечному сечению, расположенному между указанной областью адгезии и наружной областью (10, 11), причемтолщина ионно-имплантированной области адгезии (1, 2) составляет 0,1-10 нм,промежуточная область (3, 4, 5а, 5b, 6, 7,...

Номер патента: 18194

Опубликовано: 28.06.2013

Автор: Мешков Федор Васильевич

МПК: C23C 14/02, C23C 14/35, C23C 14/56...

Метки: металлическим, способ, декоративно-защитным, покрытием, изготовления, сплавов, линия, алюминиевых, изделий

Формула / Реферат:

1. Способ изготовления изделий из алюминиевых сплавов, преимущественно из силумина, с декоративно-защитным металлическим покрытием, включающий получение отливки заданной формы с использованием соответствующей пресс-формы, подготовку отливки к нанесению декоративно-защитного металлического покрытия и нанесение декоративно-защитного металлического покрытия, при этом при подготовке к нанесению декоративно-защитного металлического покрытия...

Номер патента: 16704

Опубликовано: 30.06.2012

Авторы: Беляев Геннадий Яковлевич, Вершина Алексей Константинович, Агеев Виталий Александрович

МПК: B23P 15/28, C23C 14/02, B23B 27/10...

Метки: инструмента, упрочнения, лезвийного, способ

Формула / Реферат:

1. Способ упрочнения лезвийного инструмента, режущая часть которого выполнена из сплавов на основе железа, включающий нанесение износостойкого покрытия, содержащего титан и инертный тугоплавкий материал на основе соединения титана, например оксид и/или оксикарбонитрид титана, отличающийся тем, что перед нанесением износостойкого покрытия осуществляют кипячение инструмента в течение 25-35 мин в водном растворе, содержащем 50-150 г/л молибденового...

Номер патента: 9514

Опубликовано: 28.02.2008

Авторы: Левчук Николай Евгеньевич, Хисамов Айрат Хамитович, Хохлов Александр Евгеньевич, Ширипов Владимир Яковлевич, Савенко Владимир Анатольевич, Марышев Сергей Павлович

МПК: C23C 14/48, C23C 14/35, H01J 37/317...

Метки: поверхности, осуществления, обработки, способа, способ, устройство, диэлектрика, ионной

Формула / Реферат:

1. Способ ионной обработки поверхности диэлектрика, включающий формирование направленного потока ионов и направленного потока электронов, воздействие ими на обрабатываемую поверхность диэлектрика, при этом поток электронов служит для нейтрализации положительного заряда, возникающего на поверхности диэлектрика, отличающийся тем, что поток электронов формируют с помощью плазменного катодного разряда и туннелеобразного магнитного поля, при этом...