Лерген Маркус
Остекление из многослойного стекла с повышенной избирательностью
Номер патента: 15988
Опубликовано: 30.01.2012
Авторы: Фишер Клаус, Лерген Маркус, Янзен Манфред, Лаброт Михель, Бланшар Ариан
МПК: B32B 17/10, C03C 17/36, B62D 25/06...
Метки: остекление, избирательностью, многослойного, стекла, повышенной
Формула / Реферат:
1. Многослойное стекло для окон, содержащее внешнее твердое стекло и внутреннее твердое стекло, которые связаны одно с другим промежуточным слоем, и слоистую систему, частично прозрачную для видимого излучения, размещенную внутри многослойного стекла, отличающееся тем, что внешнее и внутреннее стекла тонированы и частично поглощают инфракрасное излучение и видимое излучение, каждое из них имеет пропускание света от 15 до 71% и пропускание...
Подложка, покрытая слоем диэлектрика, способ и устройство для её изготовления
Номер патента: 12048
Опубликовано: 28.08.2009
Авторы: Фишер Клаус, Бобе Кароль, Руссо Жан-Поль, Маттман Эрик, Лерген Маркус, Надо Николя, Янзен Манфред, Жирон Жан-Кристоф, Хофрихтер Альфред
МПК: C03C 17/245, C23C 14/34, C03C 17/22...
Метки: диэлектрика, устройство, слоем, способ, покрытая, изготовления, подложка
Формула / Реферат:
1. Подложка (1) для остеклений, покрытая по меньшей мере одним тонким слоем диэлектрика, полученным нанесением катодного напыления, реакционноспособным в присутствии кислорода, и облучением по меньшей мере одним пучком ионов (3), происходящим из ионного источника (4) при условиях, приводящих к получению кристаллического слоя, вышеупомянутый слой диэлектрика представляет собой слой из оксида металла или кремния, стехиометрического или...
Подложка, покрытая слоем диэлектрика, и способ и устройство для её изготовления
Номер патента: 11247
Опубликовано: 27.02.2009
Авторы: Надо Николя, Жирон Жан-Кристоф, Лерген Маркус, Маттман Эрик, Фишер Клаус, Хофрихтер Альфред, Янзен Манфред, Руссо Жан-Поль, Бобе Кароль
МПК: C03C 17/245, C03C 17/22, C03C 17/36...
Метки: изготовления, диэлектрика, устройство, подложка, способ, покрытая, слоем
Формула / Реферат:
1. Способ нанесения покрытия на подложку (1), включающий формирование по меньшей мере одного тонкого слоя диэлектрика на подложку катодным напылением в камере напыления (2) и облучение его по меньшей мере одним пучком ионов (3), отличающийся тем, что пучок ионов в камере напыления формируют при помощи линейного ионного источника, при этом требуемое значение показателя преломления вышеупомянутого слоя диэлектрика задают посредством изменения...