Мотль Давид
Способ и устройство анализа материалов с помощью сфокусированного пучка электронов с использованием характеристического рентгеновского излучения и обратноотраженных электронов
Номер патента: 21273
Опубликовано: 29.05.2015
Авторы: Филип Войтех, Докулилова Сильвиэ, Мотль Давид
МПК: G01N 23/22
Метки: пучка, анализа, рентгеновского, способ, помощью, материалов, излучения, устройство, сфокусированного, обратноотраженных, использованием, характеристического, электронов
Формула / Реферат:
1. Способ анализа материалов с помощью сфокусированного электронного пучка при использовании характеристического рентгеновского излучения и обратноотраженных электронов, где сначала при экспертной оценке формируют достаточно большой набор Р химических элементов, которые могут присутствовать в исследуемом образце, и для каждого элемента pi из набора Р определяют интервал Ii энергии рентгеновских фотонов в соответствии с одной эмиссионной линией...