Дюрандо Анн
Фотокаталитический материал
Номер патента: 23178
Опубликовано: 31.05.2016
Авторы: Лоран Стефан, Дюрандо Анн, Валентэн Эмманюэль
МПК: C03C 17/34
Метки: фотокаталитический, материал
Формула / Реферат:
1. Фотокаталитический материал, содержащий подложку, покрытую по меньшей мере на части по меньшей мере одной из своих сторон набором, содержащим фотокаталитический слой, геометрическая толщина которого заключена между 2 и 30 нм, и по меньшей мере одну пару слоев соответственно с высоким и низким показателем преломления, расположенную под упомянутым фотокаталитическим слоем таким образом, чтобы в этой или в каждой паре слой или каждый слой с...
Способ нанесения тонкого слоя на подложку
Номер патента: 22598
Опубликовано: 29.01.2016
Авторы: Харченко Андрий, Дюрандо Анн, Надо Николя
МПК: C03C 17/00, C03C 17/245, C23C 14/58...
Метки: нанесения, тонкого, слоя, способ, подложку
Формула / Реферат:
1. Способ покрытия по меньшей мере части поверхности подложки по меньшей мере одним слоем из оксида металла М, содержащий следующие операции:наносят катодным напылением по меньшей мере на часть поверхности подложки по меньшей мере один материал, выбранный из металла М, нитрида металла М или карбида металла М, для получения на поверхности подложки промежуточного слоя, имеющего физическую толщину меньше или равную 20 нм,осуществляют термическую...
Материал и остекление, содержащее этот материал
Номер патента: 20943
Опубликовано: 27.02.2015
Авторы: Толла Эмили, Жилле Пьер-Ален, Дюрандо Анн, Мовернэ Брюно, Харченко Андрий, Сандр-Шардонналь Этьенн, Биллерт Ульрих
МПК: C03C 17/34, C03C 17/36
Метки: содержащее, остекление, материал
Формула / Реферат:
1. Материал, содержащий стеклянную основу, покрытую по меньшей мере на одной из своих сторон укладкой тонких слоев, содержащей в направлении от указанной основы по меньшей мере один нижний диэлектрический слой, по меньшей мере один функциональный слой из металла или нитрида металла, по меньшей мере один верхний диэлектрический слой, по меньшей мере один слой оксида титана, по меньшей мере, частично кристаллизованный в форме анатаза, причем...
Способ осаждения тонкого слоя
Номер патента: 17676
Опубликовано: 28.02.2013
Авторы: Харченко Андрий, Дюрандо Анн, Надо Николя
МПК: C03C 17/34, C03C 17/36, C03C 17/245...
Метки: тонкого, слоя, способ, осаждения
Формула / Реферат:
1. Способ получения материала, содержащего подложку и по меньшей мере один тонкий слой на основе оксида титана, по меньшей мере, частично кристаллизованный и осажденный на первую сторону указанной подложки, причем указанный способ содержит следующие этапы:осаждают указанный, по меньшей мере один, тонкий слой на основе оксида титана;подвергают указанный, по меньшей мере один, тонкий слой на основе оксида титана кристаллизационной обработке,...