C23C 16/505 — с использованием радиочастотных разрядов

Номер патента: 13222

Опубликовано: 30.04.2010

Авторы: Аомине Нобутака, Кобори Такаси, Хаяси Казуси, Аосима Юки, Кугимия Тосихиро

МПК: H01L 21/31, C23C 16/505

Метки: способ, формирования, пленки, тонкой

Формула / Реферат:

1. Способ формирования тонкой пленки в атмосфере с давлением по меньшей мере 900 ГПа, в котором подают реакционный газ и подают электрическое питание на цилиндрический вращающийся электрод, центральная ось вращения которого параллельна подложке, для генерирования плазмы в промежутке между этим вращающимся электродом и подложкой, причем плазма химически активирует подаваемый реакционный газ с образованием тонкой пленки на подложке, при этом зазор...