Аосима Юки
Способ формирования тонкой пленки
Номер патента: 13222
Опубликовано: 30.04.2010
Авторы: Кугимия Тосихиро, Аомине Нобутака, Аосима Юки, Хаяси Казуси, Кобори Такаси
МПК: C23C 16/505, H01L 21/31
Метки: тонкой, способ, пленки, формирования
Формула / Реферат:
1. Способ формирования тонкой пленки в атмосфере с давлением по меньшей мере 900 ГПа, в котором подают реакционный газ и подают электрическое питание на цилиндрический вращающийся электрод, центральная ось вращения которого параллельна подложке, для генерирования плазмы в промежутке между этим вращающимся электродом и подложкой, причем плазма химически активирует подаваемый реакционный газ с образованием тонкой пленки на подложке, при этом зазор...