Ишервуд Роланд

Номер патента: 14139

Опубликовано: 29.10.2010

Авторы: Клинч Дэвид Стюарт, Ишервуд Роланд

МПК: B42D 15/00, D21H 21/42

Метки: защитное, подложек, защитных, устройство

Формула / Реферат:

1. Защитное устройство (10) для защитной подложки, при этом упомянутое устройство содержит носитель (11), по меньшей мере, из частично светопропускающего полимерного материала, причем упомянутый носитель (11) снабжен знаками, при этом упомянутые знаки содержат первый компонент, представляющий собой по меньшей мере один небуквенно-цифровой рисунок (13), который повторяется по длине устройства (10) и сформирован по меньшей мере из одной тонкой...

Номер патента: 12512

Опубликовано: 30.10.2009

Авторы: Коммандер Лоуренс Джордж, Холмс Брайан Уилльям, Истелл Кристофер Джон, Ишервуд Роланд

МПК: B42D 15/00, B44F 1/10, B44F 1/04...

Метки: способ, защитное, устройство, изготовления

Формула / Реферат:

1. Защитное устройство, содержащее прозрачную подложку, на одной стороне которой размещена решетка микролинз, а на другой - одна или более соответствующих решеток микроизображений, при этом толщина подложки выбирается таким образом, что микроизображения размещены на расстоянии от микролинз, равном их фокусному расстоянию, отличающееся тем, что каждое микроизображение выполнено в виде просветляющей структуры и сформировано из периодической...

Номер патента: 11968

Опубликовано: 30.06.2009

Авторы: Истелл Кристофер Джон, Холмс Брайан Уилльям, Коммандер Лоуренс Джордж, Ишервуд Роланд

МПК: B44F 1/10, B44F 1/04, B42D 15/00...

Метки: защитное, устройство

Формула / Реферат:

1. Защитное устройство, содержащее оптически прозрачную подложку, на одной стороне которой размещена решетка микролинз, а на другой - по меньшей мере две соответствующие решетки микроизображений, причем толщина подложки выбирается таким образом, что изображения размещены на расстоянии от микролинз, равном их фокусному расстоянию, изображения в каждой решетке выполнены одинаковыми, но отличными от изображений в каждой другой решетке, при этом по...

Номер патента: 5710

Опубликовано: 28.04.2005

Авторы: Ишервуд Роланд, Коммандер Лоуренс Джордж

МПК: B42D 15/00, D21H 21/42, B41M 3/14...

Метки: подложек, способы, изготовления, усовершенствованные

Формула / Реферат:

1. Способ изготовления подложки (10), содержащий операции, в соответствии с которыми наносят резист (13) по меньшей мере на часть слоя (12) металла на первой стороне, по существу, прозрачной полимерной пленки (11), удаляют металл из областей, не покрытых резистом (13), формируя деметаллизированные области, отличающийся тем, что вышеупомянутый резист (13) окрашен в темный цвет, при этом наносят слой полимерного жидкокристаллического вещества (15)...