B44F 1/10 — с меняющимся растром, занимательные или потайные рисунки
Упаковочный материал с цветным элементом, который частично обесцвечивается при заданной температуре, открывая метку, и способ для производства такого материала
Номер патента: 18563
Опубликовано: 30.08.2013
Автор: Машамбруни Роберто
МПК: B44F 1/10, B41M 3/00, B41M 5/28...
Метки: материала, материал, цветным, заданной, производства, метку, обесцвечивается, открывая, температуре, частично, такого, упаковочный, элементом, способ
Формула / Реферат:
1. Упаковочный материал (1, 11) для фармацевтического продукта, содержащий цветной элемент (2, 12), который при заданной температуре, ниже которой требуется содержать фармацевтический продукт, частично обесцвечивается, открывая метку (2, 12'), в котором:(a) упомянутый элемент (2) сформирован первым участком, который формирует упомянутую метку (2', 12'), напечатанную обычными чернилами, и вторым участком (2", 12"), который напечатан...
Защитное устройство и способ его изготовления
Номер патента: 12512
Опубликовано: 30.10.2009
Авторы: Ишервуд Роланд, Холмс Брайан Уилльям, Коммандер Лоуренс Джордж, Истелл Кристофер Джон
МПК: B44F 1/04, B44F 1/10, B42D 15/00...
Метки: устройство, способ, изготовления, защитное
Формула / Реферат:
1. Защитное устройство, содержащее прозрачную подложку, на одной стороне которой размещена решетка микролинз, а на другой - одна или более соответствующих решеток микроизображений, при этом толщина подложки выбирается таким образом, что микроизображения размещены на расстоянии от микролинз, равном их фокусному расстоянию, отличающееся тем, что каждое микроизображение выполнено в виде просветляющей структуры и сформировано из периодической...
Защитное устройство
Номер патента: 11968
Опубликовано: 30.06.2009
Авторы: Ишервуд Роланд, Коммандер Лоуренс Джордж, Холмс Брайан Уилльям, Истелл Кристофер Джон
МПК: B44F 1/04, B42D 15/00, B44F 1/10...
Метки: защитное, устройство
Формула / Реферат:
1. Защитное устройство, содержащее оптически прозрачную подложку, на одной стороне которой размещена решетка микролинз, а на другой - по меньшей мере две соответствующие решетки микроизображений, причем толщина подложки выбирается таким образом, что изображения размещены на расстоянии от микролинз, равном их фокусному расстоянию, изображения в каждой решетке выполнены одинаковыми, но отличными от изображений в каждой другой решетке, при этом по...