Способ формования волокна из жидкой матрицы, устройство для производства нановолокон электростатическим методом формования волокна из жидкой матрицы и волокнообразующий электрод для такого устройства

СПОСОБ ФОРМОВАНИЯ ВОЛОКНА ИЗ ЖИДКОЙ МАТРИЦЫ, УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПРОИЗВОДСТВА НАНОВОЛОКОН ЭЛЕКТРОСТАТИЧЕСКИМ МЕТОДОМ ФОРМОВАНИЯ ВОЛОКНА ИЗ ЖИДКОЙ МАТРИЦЫ И ВОЛОКНООБРАЗУЮЩИЙ ЭЛЕКТРОД ДЛЯ ТАКОГО УСТРОЙСТВА Способ формования волокна из жидкой матрицы (38) в электростатическом поле между по крайней мере одним волокнообразующим электродом (3) и противоположно расположенным осадительным электродом (4), причм один из электродов подключн к одному полюсу источника высокого напряжения, а второй электрод подключн к противоположному полюсу источника высокого напряжения или заземлн, при котором жидкая матрица (38), из которой формуются волокна, находится в электростатическом поле на активной волокнообразующей зоне (3100) струны (310) волокнообразующего средства (31) волокнообразующего электрода (3). Активная волокнообразующая зона (3100) струны в ходе процесса формования волокна имеет постоянное положение по отношению к осадительному электроду (4), а жидкая матрица (38) податся на активную волокнообразующую зону (3100) струны или путм нанесения на активную волокнообразующую зону (3100) струны, или за счт движения струны (310) в направлении е длины. 016331 Область техники Изобретение касается способа формования волокна из жидкой матрицы в электростатическом поле между по крайней мере одним волокнообразующим электродом и противоположно расположенным осадительным электродом, причм один из электродов подключн к одному полюсу источника высокого напряжения, а второй электрод заземлн, при котором жидкая матрица, из которой формуются волокна,находится в электростатическом поле на активной волокнообразующей зоне струны волокнообразующего средства волокнообразующего электрода. Далее изобретение касается также устройства для производства нановолокон электростатическим методом формования волокна из жидкой матрицы в электрическом поле между по крайней мере одним волокнообразующим электродом и противоположно расположенным осадительным электродом, причм один из электродов подключн к одному полюсу источника высокого напряжения, а второй электрод подключн к противоположному полюсу источника высокого напряжения или заземлн, при этом волокнообразующий электрод содержит по крайней мере один волокнообразующий элемент, содержащий струну, которая имеет прямую часть, параллельную плоскости укладывания нановолокон и/или осадительному электроду, и образует активную волокнообразующую зону струны. Далее изобретение касается также волокнообразующего электрода устройства для производства нановолокон электростатическим методом формования волокна из жидкой матрицы в электрическом поле между по крайней мере одним волокнообразущим электродом и по крайней мере одним противоположно расположенным осадительным электродом, причм один из электродов подключн к одному полюсу источника высокого напряжения, а второй электрод подключн к противоположному полюсу источника высокого напряжения или заземлн, а волокнообразующий электрод содержит по крайней мере один расположенный в несущем корпусе волокнообразующего электрода волокнообразующий элемент, содержащий струну, которая имеет прямую часть, параллельную плоскости укладывания нановолокон и/или осадительному электроду. Уровень техники Из DE 10136255 В 4 известно устройство для производства волокон из раствора или расплава полимера с волокнообразующим электродом, состоящим из системы параллельных проволочных стержней,расположенных на паре бесконечных лент, опоясывающих два направляющих цилиндра, которые расположены один над другим, при этом нижний направляющий цилиндр погружается в раствор или расплав полимера. Волокнообразующий электрод подключн к источнику высокого напряжения вместе с противоположным электродом, представляющим собой электропроводную циркулирующую ленту. При помощи проволочных стержней раствор или расплав полимера выносится в электрическое поле между волокнообразующим и противоположным электродами, где из раствора или расплава полимера формуются волокна, которые уносятся к противоположному электроду и укладываются на холст, расположенный на противоположном электроде. Недостатком этого решения является длительное время нахождения раствора или расплава полимера в электрическом поле, а ввиду того, что раствор и расплав полимера сравнительно быстро стареют, их свойства в ходе процесса формования волокна изменяются, а в результате изменяются также параметры образующихся волокон, в частности их диаметр. Следующим недостатком является расположение проводов волокнообразующего электрода на паре бесконечных лент, которые должны быть электропроводными и поэтому оказывают большое отрицательное влияние на электрическое поле, создаваемое между волокнообразующим и противоположным электродами. Из US 4144533 известно устройство для электродинамического нанесения растворов, дисперсий и смесей тврдых веществ на подкладочный материал при помощи соответствующего электрического поля. Устройство содержит два резервуара с наносимым субстратом, в которых расположены блоки, опоясанные бесконечной лентой, при помощи которой субстрат транспортируется в электрическое поле, где наносится на подкладочный материал, проходящий рядом с одной боковой или обеими боковыми сторонами бесконечной ленты. Это устройство не способно вырабатывать волокна, оно предназначено только для нанесения растворов, дисперсий и т.п. Известны устройства для производства нановолокон электростатическим методом формования волокна из раствора полимера, которые содержат вращающиеся волокнообразующие электроды продолговатой формы, например устройство по WO 2005/024101 А 1. Это устройство содержит волокнообразующий электрод в форме цилиндра, вращающегося вокруг своей главной оси, нижняя часть поверхности которого смачивается погружением в полимерный раствор. Раствор полимера выносится по поверхности цилиндра в электрическое поле между волокнообразующим и осадительным электродами, где происходит формование нановолокон, которые уносятся в направлении к осадительному электроду и перед ним укладываются на подкладочный материал. Это устройство способно хорошо формовать нановолокна из водных полимерных растворов, но обрабатывать растворы полимеров, растворимых в безводных растворителях, в таком устройстве сравнительно трудно. Кроме того, слой нановолокон, нанеснный на подкладочный материал, оказывается неравномерным по всей длине волокнообразующего электрода. Более равномерное распределение создаваемого слоя нановолокон может быть достигнуто устройством по заявке CZ PV 2005-360, в которой приведено описание волокнообразующего электрода, содержащего систему пластинок, радиально и продольно расположенных относительно оси вращения волок-1 016331 нообразующего электрода, при этом части поверхности волокнообразующего электрода, служащие для вынесения полимерного раствора в электрическое поле, имеют огибающую поверхность, которая в плоскости, проходящей через ось волокнообразующего электрода и перпендикулярной к плоскости подкладочного материала, имеет форму, образуемую эквипотенциальной линией наибольшей напряжнности электрического поля между волокнообразующим и осадительным электродами. Такой волокнообразующий электрод способен выносить достаточное количество полимерного раствора в наиболее пригодные места электрического поля между волокнообразующим и осадительным электродами и одновременно хорошо формовать волокна также из безводных растворов полимеров и образовывать равномерный слой нановолокон. Однако недостатком его является сложность изготовления такого волокнообразующего электрода и, следовательно, его цена. Более выгодным с точки зрения затрат на изготовление представляется волокнообразующий электрод по заявке CZ PV 2006-545, содержащий пару торцовых деталей, между которыми уложены выполненные из проволоки волокнообразующие элементы, равномерно расположенные по окружности торцовых деталей, при этом торцовые детали сделаны из неэлектропроводного материала, а все волокнообразующие элементы взаимно соединены электропроводящим способом. Вращающийся волокнообразующий электрод такой конструкции способен формовать волокна из водных и безводных растворов полимеров и обеспечивает высокую степень равномерности процесса формования волокна по всей своей длине, при этом электрическое поле для формования волокна создатся между отдельными волокнообразующими элементами после их выхода из полимерного раствора, при постепенном приближении к осадительному электроду. Недостатком всех вращающихся волокнообразующих электродов продолговатой формы и устройств для производства нановолокон электростатическим методом формования волокна из растворов полимеров, в конструкции которых применены вращающиеся волокнообразующие электроды продолговатой формы, является главным образом большое количество раствора полимера в резервуаре с раствором полимера, в который частью своей поверхности погружаются волокнообразующие электроды. Резервуары имеют большую поверхность открытого уровня, на которой происходит значительное испарение растворителя из раствора полимера, а также, например, в случае растворов с гигроскопическими растворителями, раствор полимера быстро загустевает и стареет, и поэтому его нужно непрерывно дополнять и заменять. Следствием является увеличение затрат на производство нановолокон, а также снижение качества вырабатываемого нановолокна. Раствор полимера податся в электростатическое поле для формования волокна по поверхности вращающегося цилиндрического электрода относительно медленно, поэтому раствор постепенно засыхает на поверхности, а при последующем смачивании соответствующего места на поверхности вращающегося волокнообразующего электрода на не налипает большее количество раствора полимера, что постепенно приводит к деградации процесса формования волокна, и необходимо выполнить очистку поверхности волокнообразующего электрода. Для выполнения очистки волокнообразующего электрода необходимо прервать процесс формования волокна. В случае применения струнного вращающегося волокнообразующего электрода раствор полимера податся в электростатическое поле на отдельных струнах, которые представляют собой активные волокнообразующие зоны и в ходе процесса формования волокна изменяют сво положение в электростатическом поле. С этим связан следующий недостаток, так как в процессе формования волокна в активной волокнообразующей зоне волокнообразующего электрода изменяется напряжнность электростатического поля, что приводит к образованию нановолокон разных диаметров и снижению равномерности вырабатываемых нановолокон. Целью изобретения является предложение способа и создание устройства для производства нановолокон электростатическим методом формования волокна в электростатическом поле из растворов полимеров или же жидких матриц, содержащих преимущественно растворы полимеров, которое при промышленном использовании было бы способно обеспечить длительную выработку нановолокон постоянного качества при минимальных требованиях к техническому обслуживанию и наладке, а также предложение конструкции волокнообразующего электрода, которая бы позволила устранить или по крайней мере минимизировать отмеченные недостатки современного уровня техники. Сущность изобретения Цель изобретения достигается способом формования волокна из жидкой матрицы в электростатическом поле согласно изобретению, сущность которого заключается в том, что активная волокнообразующая зона струны имеет в ходе процесса формования волокна постоянное положение по отношению к осадительному электроду, а жидкая матрица податся в активную волокнообразующую зону струны или путм нанесения на активную волокнообразующую зону струны, или за счт движения струны в направлении е длины. Благодаря постоянству и неизменности положения активной волокнообразующей зоны струны в процессе формования волокна обеспечивается равномерное формование нановолокон в узком интервале диаметров, за счт чего существенно повышается качество создаваемых нановолоконных слоев. Общее повышение качества формования волокна достигается способом транспортирования жидкой матрицы в активную волокнообразующую зону, который обеспечивает формование волокна из постоянной свежей качественной жидкой матрицы и оптимизирует процесс формования. Процесс формования волокна не-2 016331 нужно прерывать с целью выполнения очистки волокнообразующего электрода от жидкой матрицы,обедннной в течение предыдущих циклов формования волокна и/или налипшей на активных волокнообразующих зонах волокнообразующих элементов волокнообразующего электрода под действием окружающей среды. Целесообразно, чтобы жидкая матрица наносилась на станционарную активную волокнообразующую зону струны в электростатическом поле в ходе процесса формования волокна, обедннная в процессе формования волокна и/или под действием окружающей среды, стиралась с стационарной активной волокнообразующей зоны струны. На стационарной активной волокнообразующей зоне струны нанесение свежей жидкой матрицы и очистка поверхности струны от остатков жидкой матрицы осуществляются в ходе процесса формования волокна, благодаря чему повышается производительность процесса формования волокна. Для обеспечения оптимизации процесса формования волокна выгодно, если жидкая матрица наносится с возможностью выбора интервалов с целью обеспечения достаточного е количества, а в других выбираемых интервалах обедннная жидкая матрица стирается. При этом с точки зрения качества процесса формования волокна выгодно, если стирание обедннной жидкой матрицы осуществляется перед нанесением жидкой матрицы, так как в таком случае устаревшая и свежая жидкие матрицы не смешиваются. При этом стирание осуществляется преимущественно перед каждым нанесением жидкой матрицы,следовательно, на активной волокнообразующей зоне всегда находится достаточное количество свежей жидкой матрицы без остатков обедннной жидкой матрицы. В случае волокнообразующего электрода, содержащего большее количество активных волокнообразующих зон, расположенных рядом в одной плоскости, для повышения эффективности процесса формования волокна имеет преимущество способ, когда одновременно стирается несколько активных волокнообразующих зон, не расположенных рядом, так что при стирании проходит процесс формования волокна на смежных активных волокнообразующих зонах. Возможно осуществление способа по изобретению, когда активная волокнообразующая зона совершает непрерывное или прерывистое движение в электростатическом поле в направлении своей длины, что предоставляет дальнейшие возможности нанесения жидкой матрицы на активную волокнообразующую зону и другие возможности стирания обедннной жидкой матрицы с поверхности струны, а также позволяет пропускать стирание обедннной жидкой матрицы. Аналогично предыдущему исполнению, жидкую матрицу можно наносить на активную волокнообразующую зону струны в электростатическом поле в ходе процесса формования волокна как на стоящую, так и на движущуюся струну. Сущность устройства по изобретению состоит в том, что активная волокнообразующая зона струны волокнообразующего элемента имеет по отношению к осадительному электроду постоянное положение. Некоторые решения, отвечающие современному уровню техники, уже показали, что струна из тонкой проволоки является весьма пригодным средством для электростатического формования волокна из жидких матриц. Благодаря постоянному положению активной волокнообразующей зоны струны по отношению к осадительному электроду обеспечивается постоянство условий формования волокна, а в результате повышается качество вырабатываемых нановолокон, и главным образом постоянство их диаметра. Выгодно, если струна стационарна, а активной волокнообразующей зоне струны соответствуют устройство для нанесения жидкой матрицы на активную волокнообразующую зону и устройство для стирания жидкой матрицы с активной волокнообразующей зоны струны. Стационарная струна упрощает конструкцию волокнообразующего электрода, так как такой волокнообразующий электрод не содержит средств для привода струны и не нуждается в средствах для постоянного натяжения струны. Для обеспечения качественно мало изменяющейся жидкой матрицы для формования волокна выгодно, если устройства для нанесения жидкой матрицы на активную волокнообразующую зону струны и устройства для стирания жидкой матрицы с активной волокнообразующей зоны расположены с возможностью возвратного перемещения вдоль активной волокнообразующей зоны струны. В случаях, когда струна соединена с источником высокого напряжения непосредственно, а не через подводимую жидкую матрицу, выгодно, если устройства для нанесения и устройства для стирания жидкой матрицы расположены с возможностью возвратного перемещения к активной волокнообразующей зоне струны, так как в положении, удалнном от активной волокнообразующей зоны струны, эти устройства не оказывают влияния на электростатическое поле между волокнообразующим и осадительным электродами и, следовательно, не оказывают отрицательного влияния на формование нановолокон и на их параметры. В одном из исполнений устройства по изобретению предусмотрена подвижная струна, совершающая движение в направлении своей длины, при этом несущественно, какое движение - непрерывное или прерывистое. В сопоставлении с современным уровнем техники, при формовании волокна за счт движения струны в электростатическом поле в направлении длины струны достигается то, что в электростатиче-3 016331 ское поле, в котором проходит процесс формования волокна, входит чистая струна без жидкой матрицы,обедннной в предыдущих циклах формования волокна, и таким образом, в ходе процесса формования волокна на поверхности струны находится только свежая жидкая матрица, и поэтому нет необходимости прерывать процесс формования с целью очистки волокнообразующего электрода от жидкой матрицы,обедннной в течение предыдущих циклов формования волокна и/или под действием окружающей среды и налипшей на активных волокнообразующих зонах волокнообразующих элементов волокнообразующего электрода. Струна волокнообразующего элемента имеет конечную длину, которая в несколько раз больше длины активной волокнообразующей зоны струны, начало струны уложено на отматывающей катушке, а е конец - на наматывающей катушке, при этом по крайней мере одна наматывающая катушка соединена с наматывающим приводом. В этом исполнении в активную волокнообразующую зону струны в случае необходимости входит струна без остатков жидкой матрицы, обедннной в течение предыдущих циклов формования волокна и/или под действием окружающей среды. Для обеспечения достаточного натяжения струны, особенно в е активной волокнообразующей зоне, выгодно, если отматывающая катушка соединена с отматывающим приводом. Возможно использование струны при обратном движении после достижения конечной длины струны, когда перед наматывающей катушкой расположена ракля, служащая для удаления остатков обедннной жидкой матрицы со струны перед е наматыванием на наматывающую катушку. Возможно исполнение струны, способной двигаться в направлении своей длины, когда струна выполнена в виде бесконечной петли, обхватывающей по крайней мере приводной блок и натяжной блок. За счт такого исполнения, по сравнению с предыдущим, сокращается общая длина струны, но в сопоставлении со стационарной струной здесь должен быть предусмотрен привод, соответствующий приводному блоку. Устройство со струной конечной длины и устройство с бесконечной струной, выполненной в виде бесконечной петли, могут быть преимущественно исполнены с двумя активными волокнообразующими зонами, в которых струна совершает движение в обратном направлении. Обе волокнообразующие зоны расположены в плоскости, параллельной плоскости укладывания нановолокон и/или осадительному электроду. Такое расположение, кроме прочего, позволяет одной такой струной формовать волокно из двух жидких матриц. Нанесение жидкой матрицы на активную волокнообразующую зону струны может преимущественно осуществляться в исполнениях с возможностью движения струны в направлении е длины. Устройство с возможностью возвратного перемещения для нанесения жидкой матрицы на активную волокнообразующую зону струны наносит жидкую матрицу на струну в установленное время и в нужном количестве,при этом нужное количество жидкой матрицы, нанеснное на стержень, можно получить за счт многократного движения устройства для нанесения матрицы вдоль активной волокнообразующей зоны струны. В случаях, когда струна соединена с источником высокого напряжения непосредственно, а не через подводимую жидкую матрицу, выгодно, если устройство для нанесения жидкой матрицы расположено с возможностью возвратного перемещения к активной волокнообразующей зоне струны, так как в положении, удалнном от активной волокнообразующей зоны струны, такие устройства не влияют на электростатическое поле между волокнообразующим и осадительным электродами и, следовательно, не оказывают отрицательного влияния на формование нановолокон и на их параметры. Устройство для изготовления слоя нановолокон электростаическим методом формования волокна из жидкой матрицы в электростатическом поле обычно содержит большее число волокнообразующих элементов, расположенных рядом. Благодаря параллельности с осадительным электродом или плоскостью осадительных электродов обеспечивается равномерность получаемого слоя нановолокон. Возможно упрощенное осуществление устройств для нанесения жидкой матрицы на струну, когда жидкая матрица наносится на струну перед активной волокнообразующей зоной. Такое расположение хотя и упрощает организацию самого пространства формования волокна, в котором электростатическое поле не подвергается влиянию устройства для нанесения жидкой матрицы, но несколько меньше удовлетворяет условию поддержания одинаковой свежести жидкой матрицы на активной волокнообразующей зоне струны. По отношению к направлению отвода образуемого слоя нановолокон активная волокнообразующая зона может быть расположена параллельно этому направлению, перпенцикулярно к этому направлению или может пересекаться с этим направлением. Во всех вышеприведнных вариантах осуществления устройства по изобретению струна может быть выполнена из электропроводного или неэлектропроводного материала, при этом в случае струны из неэлектропроводного материала она постоянно соприкасается с жидкой матрицей, в которую подводится электрический ток. Список фигур на чертеже Устройство по изобретению схематически изображено на приложенных чертежах, где фиг. 1 - продольный разрез первого варианта исполнения устройства с тремя волокнообразующими узлами; фиг. 2 -4 016331 разрез А-А устройства по фиг. 1 с волокнообразующими электродами, волокнообразующие элементы которых содержат струны конечной длины, расположенные параллельно направлению движения подкладочного материала; фиг. 3 - разрез А-А устройства по фиг. 1 с волокнообразующими электродами,волокнообразующие элементы которых содержат струны конечной длины, расположенные под углом к направлению движения подкладочного материала; фиг. 4 - разрез А-А устройства по фиг.1 с волокнообразующими электродами, волокнообразующие элементы которых содержат струны конечной длины,расположенные перпендикулярно к направлению движения подкладочного материала; фиг. 5 - разрез аксонометрического изображения волокнообразующего электрода с волокнообразующими элементами со струнами бесконечной длины и перемещаемым устройством для нанесения жидкой матрицы; фиг. 6 разрез аксонометрического изображения волокнообразующего электрода с волокнообразующими элементами со струнами бесконечной длины и устройством для нанесения жидкой матрицы, представляющим собой резервуар с жидкой матрицей; фиг. 7 - деталь волокнообразующего элемента со струной конечной длины и перемещаемым устройством для нанесения жидкой матрицы, созданным из капилляров; фиг. 8 - деталь волокнообразующего элемента со струной конечной длины и перемещаемым устройством для нанесения жидкой матрицы, созданным из вращающегося валика; фиг. 9 - деталь волокнообразующего элемента с бесконечной струной, обе ветви которой образуют активную волокнообразующую зону; фиг. 10 - продольный разрез устройства с волокнообразующими электродами с неподвижными струнами; фиг. 11 - разрез А-А устройства по фиг. 10. Примеры осуществления изобретения Показанное на фиг. 1 и 2 примерное исполнение устройства для производства нановолокон электростатическим методом формования волокна из жидкой матрицы, существенной частью которой является раствор или расплав полимера, или смеси полимеров, содержит камеру формования волокна 1, которая при помощи изоляционных перегородок 11, 12 разделена на три пространства формования волокна, в которых размещены волокнообразующие узлы 2, каждый из которых содержит волокнообразующий электрод 3 и противоположно расположенный осадительный электрод 4. Между волокнообразующим электродом 3 и осадительным электродом 4 известным способом создатся электростатическое поле высокой напряжнности. В камере формования волокна 1 известным, не приведнным здесь способом выполнен проход для подкладочного материала 5, который отматывается в известном, не показанном здесь отмоточном приспособлении и подводится в камеру формования волокна 1 при помощи подающих валиков 61, 62. Из камеры формования волокна 1 подкладочный материал 5 отводится оттягивающими валиками 71, 72, за которыми известным, не показанным здесь способом наматывается в непоказанном здесь намоточном приспособлении. Вышеупомянутые изоляционные перегородки 11, 12 служат только для взаимного экранирования следующих друг за другом волокнообразующих узлов 2 и не имеют существенного значения для представляемого изобретения. Волокнообразующий электрод 3 содержит несколько волокнообразующих элементов 31, расположенных в несущем корпусе 32. Каждый волокнообразующий элемент 31 содержит одну струну 310, которая расположена на отматывающей катушке 311 и наматывающей катушке 312, при этом отматывающая катушка 311 и наматывающая катушка 312 одновременно являются натяжными средствами струны 310. Прямая часть струны 310 между отматывающей катушкой 311 и наматывающей катушкой 312 параллельна направлению движения подкладочного материала 5 и образует активную волокнообразующую зону 3100 струны 310 волокнообразующего элемента 31. Струна 310 выполнена из тонкой металлической электропроводной проволоки или пластмассовой неэлектропроводной нити. Отматывающие катушки 311 волокнообразующих элементов 31 одного волокнообразующего электрода 3 расположены на общем отматывающем валу 33, который расположен в несущем корпусе электрода 32 и соединн с отматывающим приводом 34. Наматывающие катушки 312 волокнообразующих элементов 31 одного волокнообразующего электрода 3 расположены на общем наматывающем валу 35,который расположен в несущем корпусе 32 и соединн с наматывающим приводом 36. Отматывающий привод 34 и наматывающий привод 36 известным способом - механическим или электрическим - соединены для обеспечения необходимого натяжения струны 310 в е активной волокнообразующей зоне 3100 и для обеспечения непрерывного или прерывистого переднего движения струны 310 в е активной волокнообразующей зоне 3100. Таким образом струна 310 каждого волокнообразующего элемента 31 расположена с возможностью перемещения в направлении своей длины, следовательно, активная волокнообразующая зона 3100 каждой струны движется в электростатическом поле непрерывно или прерывисто в направлении своей длины. Активные волокнообразующие зоны 3100 струн 310 всех волокнообразующих элементов 31 одного волокнообразующего электрода 3 расположены в плоскости, параллельной осадительному электроду 4 и подкладочному материалу 5. Под активными волокнообразующими зонами 3100 струн 310 волокнообразующих элементов 31 одного волокнообразующего электрода 3 на несущем корпусе 32 расположено устройство 37 для нанесения жидкой матрицы 38 на активные волокнообразующие зоны 3100 струн. Следовательно, каждая из струн 310 образует несущее средство жидкой матрицы 38. Устройство 37 для нанесения жидкой матрицы содержит балку 371, расположенную с возможностью перемещения на несущем корпусе 32 и соединнную с известным, не показанным здесь приводом для обеспечения возвратного движения вдоль активных-5 016331 волокнообразующих зон 3100 струн. На балке 371 под каждой активной волокнообразующей зоной 3100 струны расположено одно наносящее средство 372, которое в изображнном исполнении образовано капиллярным наносящим средством 3721. Полость капиллярного наносящего средства 3721 соединена с полостью в балке 371, которая известным, не показанным здесь способом присоединена к неизображнному резервуару с жидкой матрицей 38. Прежде чем жидкая матрица 38 приблизится к полости капиллярного наносящего средства 3721, она проходит через известный, неизображнный электрический элемент, подключнный к одному полюсу источника электрического потенциала, а затем жидкая матрица 38 подат необходимый электрический потенциал в активную волокнообразующую зону 3100 струны, за счт чего возникает электростатическое поле высокой напряжнности между активной волокнообразующей зоной 3100 струны соответствующего волокнообразующего элемента 31 и осадительным электродом 4 соответствующего волокнообразующего узла 2. Это электростатическое поле высокой напряжнности способно из жидкой матрицы 38, находящейся на активной волокнообразующей зоне 3100 струны, известным способом вытягивать струйки жидкой матрицы 38, которые в электростатическом поле высокой напряжнности распадаются на нановолокна 8, которые под действием электростатического поля высокой напряжнности уносятся к осадительному электроду 4 и укладываются на подкладочный материал 5, на котором образуют нановолоконный слой 51. Жидкая матрица 38 может содержать также другие вещества, которые нужным способом окончательно определяют свойства вырабатываемых нановолокон. Жидкая матрица 38 наносится на активную волокнообразующую зону 3100 в электростатическом поле в ходе процесса формования волокна за счт движения устройства 37 для нанесения жидкой матрицы 38 под активными волокнообразующими зонами 3100 струн. В примере исполнения, приведнном на рис. 1, в процессе нанесения движется наносящее средство 372, находящееся в контакте с активной волокнообразующей зоной 3100 стоящей струны 310. Но движение струны 310 или же е активной волокнообразующей зоны 3100 в процессе нанесения жидкой матрицы 38 не исключено. В исполнении по фиг. 2, в направлении движения подкладочного материала 5 последовательно расположены три волокнообразующих узла 2, а на рисунке изображены три волокнообразующих электрода 3 этих узлов. Первый волокнообразующий электрод 3 содержит четыре волокнообразующих элемента 31, расположенных в несущем корпусе 32 на одинаковом расстоянии друг от друга. Второй и третий волокнообразующие электроды 3 содержат три волокнообразующих элемента 31 каждый, расположенных на одинаковом расстоянии друг от друга, при этом в направлении движения несущего материала 5 волокнообразующие элементы 31 последовательно расположенных волокнообразующих электродов 3 расположены в пространстве между волокнообразующими элементами 31 предыдущего волокнообразующего электрода 3, за счт чего уменьшается полосатость нановолоконного слоя 51 или полностью предупреждается образование полос. Устранение полосатости вырабатываемого нановолоконного слоя 51 может быть достигнуто и другими способами, например, в непоказанном исполнении, которое содержит по крайней мере два волокнообразующих электрода 3 с одинаковым количеством волокнообразующих элементов 31, расположенных в несущих корпусах 32 в одинаковом положении и на одинаковом расстоянии друг от друга. Разное положение волокнообразующих элементов 31 последовательно расположенных волокнообразующих электродов 3 достигается путм установки положения несущих корпусов 32 последовательно расположенных волокнообразующих электродов 3. В примере исполнения, показанном на рис. 3, в камере формования волокна 1 размещены три волокнообразующих узла, а на рисунке изображены волокнообразующие электроды 3 этих узлов, при этом внутреннее пространство камеры формования волокна 1, в отличие от предыдущего исполнения, не разделено изоляционными перегородками между волокнообразующими узлами. Волокнообразующие электроды 3 содержат несущие корпуса 32, в которых под углом к направлению 52 движения подкладочного материала расположены волокнообразующие элементы 31, созданные таким же способом, как и в предыдущем исполнении. Отматывающие катушки 311 и наматывающие катушки 312 волокнообразующих элементов снабжены известными, здесь не изображнными индивидуальными приводами, которые сопряжены для обеспечения необходимого натяжения струны 310 в активной волокнообразующей зоне 3100 и обеспечения непрерывного или прерывистого движения струны 310 в направлении е длины. Наносящие средства 372 жидкой матрицы 38 расположены с возможностью перемещения под активными волокнообразующими зонами 3100 струн. Устройство работает так же, как и в вышеприведнном исполнении по фиг. 1 и 2. В примере исполнения, показанном на фиг. 4, камера формования волокна 1 содержит три волокнообразующих узла 2, взаимно отделнных изоляционными перегородками 11. Изображены волокнообразующие электроды 3 этих волокнообразующих узлов, содержащие несущие корпуса 32, в которых перпендикулярно к направлению 52 движения подкладочного материала 5 расположены волокнообразующие элементы 31, созданные таким же способом, как и в исполнении по фиг. 1 и 2. Отматывающие катушки 311 волокнообразующих элементов 31 одного волокнообразующего электрода 3 расположены на общем отматывающем валу 33, который расположен в несущем корпусе 32 и соединн с отматывающим приводом 34. Наматывающие катушки 312 волокнообразующих элементов 31 одного волокнообразую-6 016331 щего электрода 3 расположены на общем наматывающем валу 35, который расположен в несущем корпусе 32 и соединн с наматывающим приводом 36. Необходимое натяжение струны 310 в активной волокнообразующей зоне 3100 достигается связью между отматывающим приводом 34 и наматывающим приводом 36 волокнообразующего электрода 3. Активные волокнообразующие зоны 3100 струн 310 всех волокнообразующих элементов 31 одного волокнообразующего электрода 3 расположены в плоскости,параллельной осадительному электроду 4 и подкладочному материалу 5. Устройство работает так же,как и в исполнении по фиг. 1 и 2. На фиг. 10 и 11 изображено следующее вариантное исполнение устройства по изобретению, в котором в камере формования волокна 1 расположены два волокнообразующих узла 2, каждый из которых содержит волокнообразующий электрод 3 и противоположно расположенный осадительный электрод 4,между которыми известным способом создано электростатическое поле высокой напряжнности. В камере формования волокна 1 выполнен проход для подкладочного материала 5, на который в ходе процесса формования волокна укладываются нановолокна 8 в слой 51, нановолокон. Каждый волокнообразующий электрод 3 содержит несущий корпус 32, между боковыми стенками которого на определнном расстоянии друг от друга натянуты отдельные струны 310, которые неподвижно уложены в боковых стенках несущего корпуса 32, имеют конечную постоянную длину и расположены параллельно плоскости подкладочного материала 5. Отдельные струны 310 образуют волокнообразующие элементы 31, и почти полная их длина представляет собой активную волокнообразующую зону 3100 струны. В изображнном исполнении, в направлении отвода вырабатываемого нановолоконного слоя 52 струны 310 последующего волокнообразующего электрода 3 расположены между струнами 310 предыдущего волокнообразующего электрода 3, что способствует уменьшению полосатости возникающего нановолоконного слоя 52 или полному устранению полосатости. Под активными волокнообразующими зонами 3100 струн 310 каждого волокнообразующего электрода 3, на несущем корпусе 32 расположено с возможностью перемещения устройство 37 для нанесения жидкой матрицы 38 на активные волокнообразующие зоны 3100 струн. Устройство 37 для нанесения жидкой матрицы содержит балку 371, расположенную с возможностью перемещения на несущем корпусе 32 и соединнную с неизображнным приводом для обеспечения е возвратного движения вдоль активных волокнообразующих зон 3100 струн. Под каждой активной волокнообразующей зоной 3100 на балке 371 расположено одно средство нанесения 372 жидкой матрицы 38, в показанном исполнении это капиллярное наносящее средство 3721, которое одновременно расположено с возможностью возвратного перемещения в направлении к активной волокнообразующей зоне 3100 струны и от не. Кроме этого, на балке 371 расположено устройство 370 для стирания жидкой матрицы 38 с активной волокнообразующей зоны 3100 струны, которое одновременно расположено независимо от средства нанесения 372 с возможностью возвратного перемещения в направлении к активной волокнообразующей зоне 3100 струны и от не. Электрический потенциал податся в активные волокнообразующие зоны 3100 путм их присоединения к одному полюсу источника или за счт заземления. В случае, когда электрический потенциал податся в активные волокнообразующие зоны 3100 струны при помощи жидкой матрицы 38, как приведено в подробном описании исполнения по фиг. 1,средство нанесения 372 находится в постоянном контакте с соответствующей активной волокнообразующей зоной 3100 струны. В неизображнном исполнении средства нанесения 372 жидкой матрицы 38 расположены отдельно для каждой активной волокнообразующей зоны 3100 струны. Устройства 370 для стирания жидкой матрицы 38 для каждой активной волокнообразующей зоны 3100 расположены отдельно, независимо от наносящих средств 372 или совместно с ними. В зависимости от способа расположения средств нанесения 372 жидкой матрицы и устройств 370 для стирания жидкой матрицы 38 возможны различные комбинации их действия. Например, жидкая матрица 38 наносится на стационарную активную волокнообразующую зону 3100 в процессе формования волокна, а активная волокнообразующая зона 3100 находится в постоянном контакте с соответствующим ей средством нанесения 372 жидкой матрицы 38, посредством которой одновременно податся электрический потенциал в активную волокнообразующую зону 3100. Жидкая матрица 38, обедннная в процессе формования волокна и/или под действием окружающей среды, стирается с активной волокнообразующей зоны 3100 по мере необходимости. Или жидкая матрица 38 наносится на стационарную активную волокнообразующую зону 3100 в процессе формования волокна, а активная волокнообразующая зона 3100 находится в контакте с соответствующим ей наносящим средством 372 только в течение времени нанесения матрицы, а потом наносящее средство 372 удаляется от активной волокнообразующей зоны 3100 струны и не соприкасается с ней. Жидкая матрица 38, обедннная в процессе формования волокна и/или под действием окружающей среды, стирается с активной волокнообразующей зоны 3100 таким же способом, как и в предыдущем исполнении, по мере необходимости. Жидкая матрица 38 может наноситься на стационарную активную волокнообразующую зону 3100 струны в электростатическом поле с возможностью выбора интервалов, а в других выбираемых интерва-7 016331 лах обедннная жидкая матрица 38 стирается с активной волокнообразующей зоны. При этом стирание обедннной жидкой матрицы 38 может осуществляться перед нанесением жидкой матрицы 38 на активную волокнообразующую зону 3100 струны и может быть предусмотрено перед каждым нанесением жидкой матрицы 38. Стирание налипшей обедннной жидкой матрицы 38 с активной волокнообразующей зоны 3100 струны в случае волокнообразующих электродов 3, содержащих большее число активных волокнообразующих зон 3100 струн, расположенных рядом в одной плоскости, осуществляется одновременно на нескольких активных волокнообразующих зонах 3100 струн, при этом между последовательно идущими стираемыми активными волокнообразующими зонами 3100 струн всегда находится по крайней мере одна активная волокнообразующая зона 3100 струны с нанеснной жидкой матрицей 38, которая в это время не стирается. Активная волокнообразующая зона 3100 струны, которая неподвижно, без возможности перемещения расположена в несущем корпусе 32 волокнообразующего электрода 3, может быть расположена параллельно направлению 52 движения подкладочного материала 5 или же направлению отвода вырабатываемого нановолоконного слоя 52, как показано на рис. 10 и 11. Или активная волокнообразующая зона 3100 может быть расположена перпендикулярно к вышеупомянутому направлению 52 движения подкладочного материала 5, или может образовывать с этим направлением произвольно выбранный угол. Волокнообразующий электрод 3, изображнный на фиг. 5, содержит несущий корпус 32, в котором расположены волокнообразующие элементы 31. Каждый волокнообразующий элемент 31 содержит приводной блок 313 и натяжной блок 314, обхваченные бесконечной струной 310, прямая часть которой,поврнутая к осадительному электроду 4, образует активную волокнообразующую зону 3100. Активные волокнообразующие зоны 3100 струн 310 всех волокнообразующих элементов 31 одного волокнообразующего электрода 3 расположены в плоскости. Находящийся в камере формования волокна 1 устройства волокнообразующий электрод 3 расположен параллельно осадительному электроду 4 и подкладочному материалу 5. Приводные блоки 313 всех волокнообразующих элементов 31. одного волокнообразующего электрода 3 расположены на общем валу 3131 приводных блоков, который поворотно расположен в несущем корпусе 32 и соединн с приводом 3132 приводных блоков. Привод 3132 служит для создания непрерывного или прерывистого вращательного движения вала 3131 приводных блоков 313. Каждый натяжной блок 314 отдельных волокнообразующих элементов 31 установлен на натяжном устройстве 3141, которое обеспечивает положение натяжного блока 314 и необходимое натяжение бесконечной струны 310. Между волокнообразующими элементами 31 на несущем корпусе 32 установлены по крайней мере две опоры 321, на которых через все волокнообразующие элементы 31 расположена балка 371, на которой тоже через все волокнообразующие элементы 31 уложено устройство 37 для нанесения жидкой матрицы 38 на активные части волокнообразующих зон 3100 струн 310. Устройство 37 для нанесения жидкой матрицы 38 в исполнении по рис. 5 содержит наносящее средство 372, расположенное с возможностью возвратного перемещения в направлении длины активных волокнообразующих зон 3100 струн 310,состоящее из открытого сверху резервуара 3722 с жидкой матрицей 38, в котором поворотно расположен наносящий валик 3723, верхняя часть которого находится в контакте с активными волокнообразующими зонами 3100 всех струн 310 волокно-образующих элементов 31 соответствующего волокнообразующего электрода 3. Наносящий валик 3723 соединн с приводом 3724 наносящего валика. Резервуар 3722 с жидкой матрицей 38 соединн с известным, неизображнным приводом, который обеспечивает возвратное непрерывное или прерывистое движение резервуара под активными волокнообразующими зонами 3100 струн. За счт движения резервуара 3722 или всего устройства 37 для нанесения жидкой матрицы 38 вдоль активной волокнообразующей зоны 3100 струны обеспечивается нанесение жидкой матрицы на активную волокнообразующую зону 3100 струны. В вариантном, не показанном здесь исполнении наносящий валик 3723 может быть заменн системой дисков, нижняя часть окружности которых погружена в жидкую матрицу 38, а верхняя часть их окружности находится в контакте с активной волокнообразующей зоной 3100 соответствующей струны 310. Или устройство 37 для нанесения жидкой матрицы 38 может содержать капиллярное наносящее средство 3721 как в исполнении на фиг. 1-4, или другое пригодное наносящее средство. В показанном исполнении нижней части каждого натяжного блока 314 соответствуют средства 3142 для стирания неиспользованной жидкой матрицы 38, из которой не было сформовано волокно в активной волокнообразующей зоне 3100. Стирающие средства 3142 выведены во вспомогательный резервуар 3143. В этом исполнении в процессе формования волокна струна 310 может в своей активной волокнообразующей зоне 3100 совершать постоянное и непрерывное движение или прерывистое движение. В случае непрерывного движения струны 310 устройство 37 для нанесения жидкой матрицы 38 располагается вблизи от приводных блоков 313, а жидкая матрица 38 непрерывно наносится на медленно движущиеся струны 310 отдельных волокнообразующих элементов 31. Нанесение жидкой матрицы 38 осуществляется за счт вращения наносящего валика 3723, который по своей окружности выносит жидкую матрицу 38 из резервуара 3722. Струны 310 приводятся в движение приводными блоками 313 и натягиваются на-8 016331 тяжными устройствами 3141. После прохождения струны 310 через е активную волокнообразующую зону 3100 несформованная жидкая матрица 38, обедннная в процессе формования волокна и/или под действием окружающей среды, стирается при помощи стирающего средства 3142, соответствующего натяжному блоку 314, и отводится во вспомогательный резервуар 3143. В случае прерывистого движения струны 310 нанесение жидкой матрицы 38 осуществляется за счт движения устройства 37 для нанесения жидкой матрицы вдоль активных волокнообразующих зон 3100 струн, при этом наносящий валик 3723 вращается и выносит по своей окружности жидкую матрицу 38 из резервуара 3722. После нанесения жидкой матрицы 38 на активные волокнообразующие зоны 3100 струн устройство 37 для нанесения жидкой матрицы устанавливается в одно из своих крайних положений, а потом или остатся в контакте со струной 310, выполненной из электропроводного или неэлектропроводного материала, и передат ей электрический потенциал, или удаляется от струны 310 в случаях, когда электрический потенциал на активную волокнообразующую зону 3100 струны из электропроводного материала податся другим способом. Следующий вариант исполнения волокнообразующего электрода 3 показан на фиг. 6. Волокнообразующие элементы 31 расположены в несущем корпусе 32 так же, как в исполнении по фиг. 5, и содержат приводной блок 313 и натяжной блок 314, обхваченные бесконечной струной 310, прямая часть которой,повернутая к осадительному электроду, образует активную волокнообразующую зону 3100, при этом активные волокнообразующие зоны 3100 всех волокнообразующих элементов 31 одного волокнообразующего электрода 3 расположены в плоскости. Натяжные блоки 314 струн 310 волокнообразующих элементов 31 расположены в несущем корпусе 32 так же, как в примере исполнения, показанном на рис. 5, на натяжных устройствах 3141. Приводные блоки 313 всех волокнообразующих элементов 31, одного волокнообразующего электрода 3 расположены на общем валу 3131 приводных блоков, поворотно расположенном в стационарном резервуаре 373, который частично наполнен жидкой матрицей 38 и неподвижно установлен в несущем корпусе 32. Приводные блоки 313 частью своей окружности, обхваченной струной 310, погружены в жидкую матрицу 38 в стационарном резервуаре 373, который в данном исполнении представляет собой устройство 37 для нанесения жидкой матрицы 38 на струну 310, при этом в активную зону 3100 входит струна 310 с нанеснной жидкой матрицей 38 для формования волокна. На стороне входа возвратной части бесконечной струны 310 в стационарном резервуаре 373 создан сточный резервуар 374, снабжнный раклями 375, через которые направляются струны 310 перед их вхождением на приводной блок 313. При помощи ракли 375 со струны 310 снимаются остатки жидкой матрицы 38, из которой в активной волокнообразующей зоне 3100 не были сформованы волокна. Для лучшего определения направления движения струны 310, перед входом в область стационарного резервуара 373 струна 310 каждого волокнообразующего элемента 31 направляется через направляющий элемент 376, в качестве которого в показанном исполнении служит поворотный направляющий блок, но может быть использовано и другое известное направляющее устройство. В данном исполнении струна 310 постоянно движется, а жидкая матрица 38 выносится из стационарного резервуара 373 струной 310, которая при свом движении опускается ниже уровня жидкой матрицы 38 в стационарном резервуаре 373, так как струна обхватывает приводной блок 313. Покидая окружность приводного блока 313, струна 310 с жидкой матрицей 38 на своей поверхности входит в свою активную волокнообразующую зону 3100, где проходит процесс формования волокна. Активная волокнообразующая зона 3100 струны заканчивается на натяжном блоке 314, который струна 310 обхватывает,а затем через направляющий элемент 376 и раклю 375 возвращается на окружность приводного блока 313. На фиг. 7 изображн один волокнообразующий элемент 31., содержащий отматывающую катушку 311, с которой струна 310 направляется через поворотно расположенный входной направляющий блок 315 и поворотно расположенный выходной направляющий блок 316 на наматывающую катушку 312. Отматывающая катушка 311 соединена с отматывающим приводом 34, а наматывающая катушка 312 соединена с наматывающим приводом 36. Часть струны 310 между входным направляющим блоком 315 и выходным направляющим блоком 316 является активной волокнообразующей зоной 3100. Со стороны напротив осадительного электрода 4 активной волокнообразующей зоне 3100 соответствует устройство 37 для нанесения жидкой матрицы 38 на активную волокнообразующую зону 3100 струны 310, содержащее два капиллярных средства нанесения 3721 жидкой матрицы, которые уложены на балке 371, расположенной с возможностью возвратного перемещения вдоль активной волокнообразующей зоны 3100. Балка 371 снабжена подводом 3711 жидкой матрицы. В случае необходимости нанесения жидкой матрицы 38 на активную волокнообразующую зону 3100 струны 310 балка 371 известным способом приводится в движение вдоль всей активной волокнообразующей зоны 3100, а в капиллярные наносящие средства 3721 податся жидкая матрица 38, которая продавливается через них и наносится на активную волокнообразующую зону 3100 струны 310. После нанесения достаточного количества жидкой матрицы 38 балка 371 останавливается, и процесс нанесения жидкой матрицы 38 прерывается. Как только количество жидкой матрицы 38 на активной волокнообразующей зоне 3100 струны 310 уменьшается до определнного минимума, при котором может осуществляться формование волокна, а процесс формования волокна ещ не завершн из-за недостатка жидкой-9 016331 матрицы 38, но уже может быть прерван, балка 371 устройства 37 для нанесения жидкой матрицы снова приводится в движение. При этом балка 371 может совершать одно или несколько движений между своими мртвыми положениями. Движение балки 371 или же капиллярных наносящих средств 3721 совершается с такой частотой и скоростью, чтобы в области активной волокнообразующей зоны 3100 обеспечивалось достаточное количество жидкой матрицы для формования волокна. На фиг. 8 показан пример исполнения волокнообразующего узла 2 для укладывания нановолокон 8 в линейную волокнистую систему 50 способом, подробное описание которого приведено в CZ PV 2007179. Волокнообразующий элемент 31 волокнообразующего узла 2 образован таким же способом, как в случае исполнения на рис, 7 с той разницей, что здесь применено другое устройство 37 для нанесения жидкой матрицы 38 на активную волокнообразующую зону 3100 струны 310. Параллельно активной волокнообразующей зоне 3100 расположен осадительный электрод 4, а параллельно осадительному электроду 4 направляется и линейная волокнистая система 50, которая перед вхождением в пространство формования волокна между активной волокнообразующей зоной 3100 и осадительным электродом 4 проходит через известное устройство 500 для сообщения волокнам ложной крутки, а за пространством формования волокна отводится оттягивающими валиками 71, 72. Наносящее средство 372 устройства 37 для нанесения жидкой матрицы содержит открытый сверху резервуар 3722 с жидкой матрицей 38, в котором поворотно расположен наносящий валик 3723, соединнный с неизображнным приводом. Верхняя часть наносящего валика 3723 находится в контакте с активной волокнообразующей зоной 3100 струны 310. Резервуар 3722 расположен с возможностью перемещения вдоль активной зоны 3100 струны 310 и соединн с известным, неизображнным приводом, обеспечивающим возвратное непрерывное или прерывистое движение резервуара под активной волокнообразующей зоной 3100. Требования к движению резервуара 3722 с наносящим валиком 3723 одинаковы с приведнными в предыдущем варианте исполнения. На фиг. 9 показано схематическое изображение исполнения волокнообразующего элемента 31 с двумя активными волокнообразующими зонами 3100. Бесконечная струна 310 обхватывает приводной блок 313 и натяжной блок 314. Между ними струна направляется через направляющие блоки 317, при этом направляющие блоки 317 на стороне приводного блока 313 соосны, а их общая ось расположена над приводным блоком 313 параллельно плоскости, проходящей через этот приводной блок 313, и перпендикулярно к направлению оси вращения приводного блока 313. Направляющие блоки 317 на стороне натяжного блока 314 соосны, а их общая ось расположена над натяжным блоком 314 параллельно плоскости, проходящей через этот натяжной блок 314, и перпендикулярно к направлению оси вращения натяжного блока 314. Приводной блок 313 поворотно расположен в первом резервуаре 318 с жидкой матрицей и частью своей окружности погружается ниже уровня. Натяжной блок 314 поворотно расположен во втором резервуаре 319 с жидкой матрицей и частью своей окружности погружается ниже уровня, при этом жидкие матрицы 38 в обоих резервуарах могут различаться. Струна 310 в каждой своей активной волокнообразующей зоне 3100 движется в обратном направлении. Такая компоновка волокнообразующего элемента позволяет получать разные вариантные решения, общим признаком которых являются две активные волокнообразующие зоны 3100, которые преимущественно расположены в одной плоскости, а в случае нескольких волокнообразующих элементов 31, расположенных рядом в волокнообразующем электроде 3, все активные волокнообразующие зоны 3100 всех волокнообразующих элементов находятся в одной плоскости. Тем не менее, в непоказанном исполнении каждая волокнообразующая зона одного волокнообразующего элемента 31 может располагаться в другой плоскости. В следующем, не показанном здесь примере исполнения волокнообразующий элемент 31 содержит одну струну 310 конечной длины или бесконечную струну 310, имеющую больше двух активных волокнообразующих зон 3100. Конструктивное выполнение такого решения по сравнению с вышеописанными примерами исполнения более сложно, но подпадает под формулу изобретения. В объм изобретения входят также все комбинации описанных исполнений и их варианты, созданные главным образом путм замены частей устройства или частей элементов устройства эквивалентами или подобными частями, или частями, имеющими одинаковую или подобную функцию, что касается главным образом различных возможных вариантов устройств 37 для нанесения жидкой матрицы, стирающих средств 3142 и раклей 375, расположения волокнообразующих элементов 31 и их деталей, их привода и т.п. ФОРМУЛА ИЗОБРЕТЕНИЯ 1. Способ формования нановолокна из жидкой матрицы (38) в электростатическом поле между по крайней мере одним волокнообразующим электродом (3) и противоположно расположенным осадительным электродом (4), при котором формование волокна осуществляют из жидкой матрицы (38) с поверхности струны (310), находящейся напротив осадительного электрода (310) и образующей активную волокнообразующую зону (3100), отличающийся тем, что струну (310) устанавливают неподвижно или с возможностью совершать прерывистое или непрерывное движение в направлении своей длины, при этом жидкую матрицу (38) наносят на струну (310) в направлении длины струны (310) в активной волокнообразующей зоне (3100) подвижным наносящим средством или наносят при движении струны в направлении е длины наносящим средством, установленным неподвижно и расположенным в направлении движения струны перед активной волокнообразующей зоной (3100).- 11016331 2. Способ по п.1, отличающийся тем, что жидкую матрицу (38) наносят на неподвижную струну(310) в активной волокнообразующей зоне (3100) в электростатическом поле в процессе формования волокна, при этом жидкую матрицу (38), обедннную в процессе формования волокна и/или под действием окружающей среды, по мере необходимости стирают со струны (310). 3. Способ по п.2, отличающийся тем, что жидкую матрицу (38) наносят на стоящую струну (310) в активной волокнообразующей зоне (3100) в электростатическом поле через выбираемые интервалы, а в других выбираемых интервалах со струны (310) стирают обедннную жидкую матрицу (38). 4. Способ по п.3, отличающийся тем, что стирание обедннной жидкой матрицы (38) со струны осуществляют перед нанесением жидкой матрицы (38) на струну. 5. Способ по п.4, отличающийся тем, что стирание осуществляют перед каждым нанесением жидкой матрицы (38). 6. Способ по любому из пп.2-5, отличающийся тем, что стирание обедннной жидкой матрицы (38) со струны в активной волокнообразующей зоне (3100) в случае использования волокнообразующих электродов (3), содержащих несколько активных волокнообразующих зон (3100) струн (310), расположенных рядом в одной плоскости, осуществляют одновременно на нескольких активных волокнообразующих зонах (3100) струн, при этом между последовательно расположенными стираемыми активными волокнообразующими зонами (3100) струн всегда находится по крайней мере одна активная волокнообразующая зона (3100) струны с нанеснной жидкой матрицей (38), из которой формуются волокна. 7. Способ по п.1, отличающийся тем, что при прерывистом движении струны (310) жидкую матрицу (38) наносят на струну в активной волокнообразующей зоне (3100) в электростатическом поле в ходе процесса формования волокна. 8. Способ по п.7, отличающийся тем, что жидкую матрицу (38) наносят на струну при движении струны (310) в направлении е длины. 9. Способ по п.7, отличающийся тем, что жидкую матрицу (38) наносят на неподвижную струну. 10. Устройство для производства нановолокон способом по пп.1-9, содержащее по крайней мере один волокнообразующий электрод (3) и противоположно расположенный осадительный электрод (4),при этом волокнообразующий электрод (3) содержит по крайней мере один волокнообразующий элемент(31), содержащий струну (310), которая имеет прямую часть, параллельную плоскости укладывания нановолокон (5) и/или осадительному электроду (4), и образует активную волокнообразующую зону (3100) струны, отличающееся тем, что струна (310) волокнообразующего элемента (31) установлена неподвижно или с возможностью совершать прерывистое или непрерывное движение в направлении своей длины,при этом устройство снабжено средством (37) для нанесения жидкой матрицы (38) на струну в направлении длины струны (310). 11. Устройство по п.10, отличающееся тем, что струна (310) установлена неподвижно, при этом в активной волокнообразующей зоне (3100) установлено средство (37) для нанесения жидкой матрицы (38) на струну и средство (370) для стирания жидкой матрицы (38) со струны в активной волокнообразующей зоне (3100). 12. Устройство по п.11, отличающееся тем, что средство (37) для нанесения жидкой матрицы (38) на струну (310) и средство (370) для стирания жидкой матрицы (38) со струны (310) установлены в несущем корпусе (32) волокнообразующего электрода (3) с возможностью возвратного перемещения вдоль активной волокнообразующей зоны (3100) струны (310). 13. Устройство по п.11, отличающееся тем, что средство (37) для нанесения жидкой матрицы (38) на струну (310) и средство (370) для стирания жидкой матрицы (38) со струны (310) установлены с возможностью возвратного перемещения в направлении к активной волокнообразующей зоне (3100) струны(310). 14. Устройство по п.11, отличающееся тем, что струна (310) установлена с возможностью движения в направлении е длины. 15. Устройство по п.14, отличающееся тем, что струна (310) волокнообразующего элемента (31) имеет длину, которая в несколько раз превышает длину активной волокнообразующей зоны (3100) струны, начало струны расположено на отматывающей катушке (311), а е конец расположен на наматывающей катушке (312), при этом наматывающая катушка (312) соединена с наматывающим приводом (36). 16. Устройство по п.15, отличающееся тем, что отматывающая катушка (311) соединена с отматывающим приводом (34). 17. Устройство по п.14, отличающееся тем, что струна (310) волокнообразующего элемента (31) образует бесконечную петлю, обхватывающую, по крайней мере, приводной блок (313) и натяжной блок(314). 18. Устройство по любому из пп.14-17, отличающееся тем, что струна (310) волокнообразующего элемента (31) имеет две активные волокнообразующие зоны (3100), расположенные в плоскости, параллельной плоскости укладывания нановолокон и/или осадительному электроду (4), при этом направление движения струны (310) в активных волокнообразующих зонах (3100) противоположно. 19. Устройство по любому из пп.14-18, отличающееся тем, что средство (37) для нанесения жидкой матрицы (38) на струну (310) в активной волокнообразующей зоне (3100) установлено с возможностью- 12016331 возвратного перемещения в несущем корпусе (32) волокнообразующего электрода (3) вдоль активной волокнообразующей зоны (3100) струны (310). 20. Устройство по п.19, отличающееся тем, что средство (37) для нанесения жидкой матрицы (38) на струну в активной волокнообразующей зоне (3100) установлено с возможностью возвратного перемещения в направлении от и к активной волокнообразующей зоне (3100) струны (310). 21. Устройство по любому из пп.10-20, отличающееся тем, что содержит по крайней мере два расположенных рядом волокнообразующих элемента (31), содержащих струны (310), активные волокнообразующие зоны (3100) которых расположены в одной плоскости, параллельной осадительному электроду(4) или плоскости осадительных электродов. 22. Устройство по любому из пп.10-21, отличающееся тем, что средство (37) для нанесения жидкой матрицы (38) на струну в активной волокнообразующей зоне (3100) содержит капиллярное наносящее приспособление (3721). 23. Устройство по любому из пп.10-21, отличающееся тем, что средство (37) для нанесения жидкой матрицы (38) содержит резервуар (3722) для жидкой матрицы (38), в котором установлен с возможностью вращения наносящий валик (3723), способный погружаться частью своей окружности ниже уровня жидкой матрицы (38) в резервуаре (3722) и прикасаться в положении нанесения к струне (310) в активной волокнообразующей зоне (3100). 24. Устройство по любому из пп.14-18, отличающееся тем, что средство (37) для нанесения жидкой матрицы установлено в направлении движения струны (310) перед активной волокнообразующей зоной(3100) струны (310). 25. Устройство по п.24, отличающееся тем, что средство (37) для нанесения жидкой матрицы (38) содержит отматывающую катушку (311), установленную в резервуаре для жидкой матрицы (38) таким образом, что часть ее окружности, обхваченная струной (310), расположена ниже уровня жидкой матрицы (38) в резервуаре. 26. Устройство по п.24, отличающееся тем, что средство (37) для нанесения жидкой матрицы (38) содержит приводной блок (313), установленный в резервуаре для жидкой матрицы (38) таким образом,что часть его окружности, обхваченная струной (310), расположена ниже уровня жидкой матрицы (38) в резервуаре. 27. Устройство по любому из пп.10-26, отличающееся тем, что активная волокнообразующая зона(3100) струны параллельна направлению отвода создаваемого слоя нановолокон (8). 28. Устройство по любому из пп.10-26, отличающееся тем, что активная волокнообразующая зона(3100) струны перпендикулярна к направлению отвода создаваемого слоя нановолокон (8). 29. Устройство по любому из пп.10-26, отличающееся тем, что активная волокнообразующая зона(3100) струны образует с направлением отвода создаваемого слоя нановолокон (8) острый или тупой угол. 30. Устройство по любому из пп.10-29, отличающееся тем, что струна (310) выполнена из электропроводного материала. 31. Устройство по любому из пп.10-29, отличающееся тем, что струна (310) выполнена из неэлектропроводного материала, при этом электрический ток подводится в жидкую матрицу, с которой струна(310) или, по крайней мере, е активная волокнообразующая зона (3100) находится в постоянном контакте. 32. Волокнообразующий электрод устройства для производства нановолокон электростатическим методом формования волокна из жидкой матрицы по пп.1-31, содержащий по крайней мере один расположенный в несущем корпусе волокнообразующего электрода волокнообразующий элемент, содержащий струну, которая имеет прямую часть, параллельную плоскости укладывания нановолокон и/или осадительному электроду, и образует активную волокнообразующую зону струны, отличающийся тем, что струна (310) установлена неподвижно или с возможностью совершать прерывистое или непрерывное движение в направлении своей длины, а в несущем корпусе (32) волокнообразующего электрода (3) установлено средство (37) для нанесения жидкой матрицы (38) на струну (310) в направлении длины струны (310). 33. Волокнообразующий электрод по п.32 формулы изобретения, отличающийся тем, что струна(310) установлена неподвижно, а в активной волокнообразующей зоне (3100) установлено средство (37) для нанесения жидкой матрицы (38) на струну (310) и средство (370) для стирания обедннной жидкой матрицы (38) со струны (310). 34. Волокнообразующий электрод по п.33, отличающийся тем, что средство (37) для нанесения жидкой матрицы (38) на струну (310) в активной волокнообразующей зоне (3100) и средство (370) для стирания жидкой матрицы (38) со струны (310) установлены в несущем корпусе (32) волокнообразующего электрода (3) с возможностью возвратного перемещения в направлении длины активной волокнообразующей зоны (3100) струны (310). 35. Волокнообразующий электрод по п.34, отличающийся тем, что средство (37) для нанесения жидкой матрицы (38) на струну (310) и средство (370) для стирания жидкой матрицы (38) со струны(310) установлены в несущем корпусе (32) волокнообразующего электрода (3) с возможностью возврат- 13016331 ного перемещения в направлении к активной волокнообразующей зоне (3100) струны (310). 36. Волокнообразующий электрод по п.32, отличающийся тем, что струна (310) установлена в несущем корпусе (32) волокнообразующего электрода (3) с возможностью движения в направлении е длины. 37. Волокнообразующий электрод по п.36, отличающийся тем, что струна (310) волокнообразующего элемента (31) имеет длину, которая в несколько раз превышает длину активной волокнообразующей зоны (3100) струны, при этом начало струны расположено на отматывающей катушке (311), установленной с возможностью вращения в несущем корпусе (32), а е конец расположен на наматывающей катушке (312), установленной с возможностью вращения в несущем корпусе (32), при этом наматывающая катушка (312) соединена с наматывающим приводом (36). 38. Волокнообразующий электрод по п.37, отличающийся тем, что отматывающая катушка (311) соединена с отматывающим приводом (34). 39. Волокнообразующий электрод по п.36, отличающийся тем, что струна (310) волокнообразующего элемента (31) образует бесконечную петлю, обхватывающую, по крайней мере, приводной блок(313) и натяжной блок (314), установленные с возможностью вращения в несущем корпусе (32). 40. Волокнообразующий электрод по любому из пп.36-39, отличающийся тем, что струна (310) волокнообразующего элемента (31) имеет две активные волокнообразующие зоны (3100), которые расположены в плоскости, параллельной плоскости укладывания нановолокон и/или осадительному электроду(4), при этом направления движения струны (310) в активных волокнообразующих зонах (3100) противоположны. 41. Волокнообразующий электрод по любому из пп.36-40, отличающийся тем, что средство (37) для нанесения жидкой матрицы (38) на струну в активной волокнообразующей зоне (3100) установлено с возможностью возвратного перемещения в несущем корпусе (32) волокнообразующего электрода (3) вдоль активной волокнообразующей зоны (3100) струны. 42. Волокнообразующий электрод по п.41, отличающийся тем, что средство (37) для нанесения жидкой матрицы (38) на активную волокнообразующую зону (3100) струны установлено с возможностью возвратного перемещения в направлении от и к активной волокнообразующей зоне (3100) струны. 43. Волокнообразующий электрод по любому из пп.36-42, отличающийся тем, что содержит по крайней мере два рядом расположенных волокнообразующих элемента (31), содержащих струны (310),активные волокнообразующие зоны (3100) которых расположены в одной плоскости. 44. Волокнообразующий электрод по любому из пп.32-43, отличающийся тем, что средство (37) для нанесения жидкой матрицы (38) на струну (310) в активной волокнообразующей зоне (3100) содержит капиллярное наносящее приспособление (3721). 45. Волокнообразующий электрод по любому из пп.32-43, отличающийся тем, что средство (37) для нанесения жидкой матрицы (38) содержит резервуар (3722) для жидкой матрицы (38), в котором установлен с возможностью вращения наносящий валик (3723), способный погружаться частью своей окружности ниже уровня жидкой матрицы (38) в резервуаре (3722) и в положении нанесения соприкасаться со струной в активной волокнообразующей зоне (3100). 46. Волокнообразующий электрод по любому из пп.36-40, отличающийся тем, что средство (37) для нанесения жидкой матрицы расположено в направлении движения струны перед активной волокнообразующей зоной (3100) струны. 47. Волокнообразующий электрод по п.46, отличающийся тем, что средство (37) для нанесения жидкой матрицы (38) содержит отматывающую катушку (311), которая установлена в резервуаре для жидкой матрицы (38), расположенном в несущем корпусе (32) таким образом, что часть ее окружности,обхваченная струной (310), расположена ниже уровня жидкой матрицы (38) в резервуаре. 48. Волокнообразующий электрод по п.46, отличающийся тем, что средство (37) для нанесения жидкой матрицы (38) содержит приводной блок (313), который установлен в резервуаре для жидкой матрицы (38), расположенном в несущем корпусе (32) таким образом, что часть его окружности, обхваченная струной (310), расположена ниже уровня жидкой матрицы (38) в резервуаре. 49. Волокнообразующий электрод по любому из пп.32-48, отличающийся тем, что струна (310) выполнена из электропроводного материала. 50. Волокнообразующий электрод по любому из пп.32-48, отличающийся тем, что струна (310) выполнена из неэлектропроводного материала, при этом электрический ток подводится в полимерный раствор, с которым струна (310) или, по крайней мере, е активная волокнообразующая зона (3100) находится в постоянном контакте.