A61K 8/35 — кетоны, например хиноны, бензофенон

Номер патента: 24856

Опубликовано: 31.10.2016

Авторы: Раут Джанхави Санджай, Дуггал Чару

МПК: A61Q 17/04, A61K 8/06, A61K 8/35...

Метки: солнцезащитная, фотостабильная, композиция

Формула / Реферат:

1. Фотостабильная солнцезащитная композиция в форме жидкой эмульсии или микроэмульсии, содержащая:a) 0,1-10 мас.% дибензоилметана или его производное;b) 10-40 мас.% эмульгатора;c) 5-40 мас.% вспомогательного эмульгатора, выбираемого из группы, состоящей из спирта с прямой или разветвленной цепью от C2 до C8, многоатомного спирта и низкомолекулярной жирной кислоты с длиной цепи от C5 до C8.d) 10-60 мас.% гидрофобной жидкости, имеющей значение log...

Номер патента: 24835

Опубликовано: 31.10.2016

Авторы: Ваидиа Ашиш Анант, Чаван Мохан Виджайкумар, Кунджупиллай Балу

МПК: A61K 8/35, A61Q 17/04, A61K 8/37...

Метки: композиция, стабильная, солнцезащитная

Формула / Реферат:

1. Светостойкая солнцезащитная композиция, включающая:(a) 0,1-10 мас.% дибензоилметана или его производного 4-трет-бутил-4'-метоксидибензоилметана;(b) 0,1-10 мас.% р-метоксикоричной кислоты или ее производного - 2-этилгексил-4-метокси­циннамата;(c) 0,5-5 мас.% цингерона и(d) косметически приемлемую основу, содержащую смесь стеариновой кислоты и пальмитиновой кислоты или силиконовый эластомер,где массовое соотношение цингерона к дибензоилметану...

Номер патента: 24306

Опубликовано: 30.09.2016

Авторы: Чаван Мохан Виджайкумар, Ваидья Ашиш Анант, Мхасаваде Дипак Рамачандра

МПК: A61K 8/894, A61K 8/49, A61K 8/35...

Метки: гигиены, личной, композиция

Формула / Реферат:

1. Фотозащитная композиция для личной гигиены, содержащая:i) 4-t-бутил-4'-метоксидибензоилметан;ii) от 0,1 до 30 мас.% водного экстракта черного чая, содержащего теафлавин; иiii) косметически приемлемую основу, представляющую собой эмульсию вода-в-масле.2. Композиция по п.1, содержащая от 0,3 до 10% теафлавина.3. Композиция по п.1, содержащая от 0,1 до 10% 4-t-бутил-4'-метоксидибензоилметана в расчете на массу композиции.4. Композиция по любому...

Номер патента: 23008

Опубликовано: 29.04.2016

Авторы: Гаурав Кумар, Дуггал Чару, Раут Джанхави Санджай

МПК: A61K 8/35, A61K 8/37, A61K 8/40...

Метки: композиция, солнцезащитная

Формула / Реферат:

1. Солнцезащитная композиция с высоким SPF, содержащая меньше чем 8% от общего веса органических солнцезащитных соединений, содержащих:a) от 0,1 до 5 вес.% дибензоилметана или его производного 4-терт-бутил-4'-метоксибензоилметана;b) от 0,1 до 7 вес.% жирорастворимого органического солнцезащитного соединения UV-B;c) от 0,1 до 5 вес.% неионного ПАВ, выбранного из класса алкилфенолэтоксилатов, имеющих HLB выше чем 15, выбранных из Тритона X 165,...

Номер патента: 22660

Опубликовано: 29.02.2016

Авторы: Саджи Мая Триза, Перинчери Аравиндакшан, Барне Самер Кешав, Наяк Калпана Камалакар

МПК: A61K 8/35, A61K 8/34, A61K 8/31...

Метки: антибактериальной, кожи, способ, обработки

Формула / Реферат:

1. Способ антибактериальной обработки кожи, включающий следующие стадии:(i) нанесение на кожу композиции, содержащей:a) полимер А, выбираемый из группы, состоящей из полиакриловой кислоты и полиалкиленоксидов, причем полиалкиленоксиды имеют молекулярную массу более 2´104 Да, иb) по меньшей мере два эфирных масла, выбираемых из эвгенола, тимола и терпинеола, и(ii) выдерживание композиции на коже в течение по меньшей мере 15 с.2. Способ по...

Номер патента: 22305

Опубликовано: 30.12.2015

Автор: Полонка Джек

МПК: A61K 8/88, A61K 8/02, A61K 8/35...

Метки: частицы, композитные, защиты, уф-а, солнцезащитные, уф-b

Формула / Реферат:

1. Солнцезащитная композитная частица, содержащая:a) солнцезащитное средство от УФ-А, способное к кетоенольной таутомеризации;b) смолу, полученную путем конденсации, где указанная смола представляет собой полиамид или сложный полиэфир; иc) растворитель, в котором солнцезащитное средство от УФ-А способно растворяться, с диэлектрической проницаемостью приблизительно от 5,5 до 9,где указанная частица обеспечивает солнцезащитное действие от УФ-А и...