Остекление

Изобретение относится к подложке (10), в частности к прозрачной стеклянной подложке,снабженной пакетом тонких слоев, содержащим функциональный слой (40) со свойствами отражения инфракрасного и/или солнечного излучения, в частности металлический слой на основе серебра или содержащего серебро металлического сплава, и два покрытия (20, 60),причем упомянутые покрытия состоят из множества диэлектрических слоев (24, 26; 64),так что функциональный слой (40) расположен между двумя покрытиями (20, 60), причем функциональный слой (40) нанесен на смачивающий слой (30), нанесенный, в свою очередь,непосредственно на нижележащее покрытие (20), отличающейся тем, что нижележащее покрытие(20) содержит по меньшей мере один диэлектрический слой (24) на основе нитрида, в частности нитрида кремния и/или нитрида алюминия, и по меньшей мере один некристаллический сглаживающий слой (26) из смешанного оксида, причем упомянутый сглаживающий слой (26) находится в контакте с упомянутым вышележащим смачивающим слоем (30). 017695 Изобретение относится к прозрачным подложкам, в частности, из жесткого минерального материала, такого как стекло, причем упомянутые подложки покрыты пакетом тонких слоев, содержащим функциональный слой металлического типа, который может воздействовать на солнечное излучение и/или инфракрасное излучение с большой длиной волны. Изобретение относится, более конкретно, к применению таких подложек для изготовления теплоизоляционных и/или солнцезащитных остеклений. Такие остекления могут предназначаться для оснащения как зданий, так и транспортных средств, в частности, с целью уменьшения нагрузки на кондиционирование и/или предотвращения избыточного перегрева (остекления, называемые "солнцезащитными") и/или уменьшения количества энергии, рассеиваемой во внешнюю среду (остекления, называемые "низкоэмиссионными"), что обуславливается постоянно растущей важностью остекленных поверхностей в зданиях и кабинах или салонах транспортных средств. Кроме того, такие остекления могут быть встроены в остекления, обладающие особыми функциональными возможностями, такими как, например, греющиеся стекла или электрохромные стекла. Один известный тип пакета слоев для придания подложкам таких свойств состоит из металлического функционального слоя со свойствами отражения инфракрасного и/или солнечного излучения, в частности металлический функциональный слой на основе серебра или содержащего серебро металлического сплава. Такой металлический функциональный слой наносят в кристаллической форме на также кристаллический смачивающий слой, содействующий надлежащей ориентации кристаллов наносимого сверху металлического слоя. Такой функциональный слой располагается между двумя покрытиями из диэлектрического материала типа оксида или нитрида металла. Пакет слоев получают обычно с помощью последовательности операций нанесения, осуществляемых по вакуумной технологии, такой как катодное распыление, необязательно сопровождаемое воздействием магнитного поля. Также могут быть предусмотрены одно, или даже два, очень тонкое(их) покрытие(я), называемое(ых) "блокирующим покрытием", расположенное(ых) непосредственно под, над или с каждой стороны от каждого металлического функционального слоя на основе серебра, т.е. нижележащее покрытие в качестве покрытия для сцепления, зародышеобразования и/или защиты в ходе возможной последующей термической обработки после нанесения, и вышележащее покрытие в качестве защитного или "расходуемого" покрытия для того, чтобы избежать порчи серебра, если слой, который следует за ним, наносят катодным распылением в присутствии кислорода или азота и/или если пакет слоев после нанесения подвергается последующей термической обработке. Из европейской заявки на патентЕР 803481 также известно использование аморфного слоя на основе смешанного оксида цинка и олова, находящегося непосредственно в контакте с подложкой, под смачивающим слоем на основе оксида цинка. Оказывается, что такой аморфный слой, когда он не нанесен непосредственно на подложку, а размещен между по меньшей мере одним нижележащим диэлектрическим слоем и смачивающим слоем,позволяет модифицировать поверхность раздела между диэлектрическим слоем и расположенным над ним смачивающим слоем и, таким образом, заметно улучшать кристаллизацию смачивающего слоя, а также кристаллизацию металлического функционального слоя. Было неожиданно обнаружено, что внедрение такого аморфного слоя в покрытие, лежащее под функциональным слоем и снабженное по меньшей мере одним диэлектрическим слоем на основе нитрида под таким аморфным слоем, позволяет достигать желаемого улучшения кристаллизации функциональных слоев и, таким образом, желаемого улучшения удельного сопротивления всего пакета слоев. Поэтому задача изобретения состоит в том, чтобы добиться устранения недостатков предшествующего уровня техники, разработав новый тип пакета слоев описанного ранее типа, т.е. такого пакета слоев, который имеет улучшенное удельное сопротивление, меньшее, чем у подобного пакета слоев с эквивалентными толщиной функционального слоя и покрытиями, что этот пакет слоев может подвергаться или не подвергаться одной (или нескольким) термической(им) обработке(ам) при высокой температуре типа изгибания, закалки или отжига, и в том случае, если он подвергается одной (или нескольким) такой(им) обработке(ам), то при этом сохраняется его оптическое качество и его механическая стойкость. Таким образом, в самом широком смысле объектом изобретения является подложка, в частности прозрачная стеклянная подложка, снабженная пакетом тонких слоев, содержащим функциональный слой со свойствами отражения инфракрасного и/или солнечного излучения, в частности металлический функциональный слой на основе серебра или содержащего серебро металлического сплава, и два покрытия,причем упомянутые покрытия состоят из множества диэлектрических слоев, так что функциональный слой расположен между двумя покрытиями, причем функциональный слой нанесен на смачивающий слой, нанесенный, в свою очередь, непосредственно на нижележащее покрытие, отличающаяся тем, что нижележащее покрытие содержит по меньшей мере один диэлектрический слой на основе нитрида, в частности нитрида кремния и/или нитрида алюминия, и по меньшей мере один некристаллический сглаживающий слой из смешанного оксида, причем упомянутый сглаживающий слой находится в контакте с упомянутым вышележащим смачивающим слоем. Таким образом, изобретение заключается в предусматривании некристаллического сглаживающего-1 017695 слоя под смачивающим слоем, который является кристаллическим для обеспечения возможности надлежащего выращивания функционального слоя, располагаемого выше такого смачивающего слоя, непосредственно в контакте со смачивающим слоем или опосредованно через нижележащее блокирующее покрытие. Было выяснено, что в случае, когда нижележащее покрытие содержит по меньшей мере один диэлектрический слой на основе нитрида, в частности нитрида кремния и/или нитрида алюминия, выбор некристаллического сглаживающего слоя из смешанного оксида позволяет получить хорошее удельное сопротивление пакета слоев и оптические свойства, приспособленные к ожиданиям того, что подложка будет подвергаться или не будет подвергаться термической обработке после нанесения. Таким образом, изобретение применяется к так называемым "закаливаемым или незакаливаемым" подложкам, потому что на одном и том же фасаде здания возможно, например, располагать поблизости друг от друга остекления, объединяющие закаленные подложки и незакаленные подложки, так что при простом визуальном наблюдении невозможно отличить одни от других по отраженному цвету и светоотражению. В смысле настоящего изобретения в случае, когда указано, что нанесение слоя или покрытия (содержащего один или несколько слоев) осуществляют непосредственно под другим нанесенным слоем или непосредственно на него, подразумевается, что не может иметь места размещение какого-либо слоя между двумя такими нанесенными слоями. Сглаживающий слой называется "некристаллическим" в том смысле, что он может быть полностью аморфным или частично аморфным и, таким образом, частично кристаллическим, но он не может быть полностью кристаллическим по всей своей толщине. Он не может иметь металлическую природу, поскольку его основу составляет смешанный оксид (смешанный оксид представляет собой оксид по меньшей мере двух химических элементов). Кристаллографическое состояние сглаживающего слоя неизбежно отличается от состояния смачивающего слоя, так как сглаживающий слой является некристаллическим, тогда как смачивающий слой является, по существу, кристаллическим; таким образом, с этой точки зрения их невозможно перепутать. Целесообразность такого сглаживающего слоя состоит в обеспечении возможности получить такую поверхность раздела с лежащим непосредственно над ним смачивающим слоем, которая является малошероховатой. Такую низкую шероховатость можно наблюдать, помимо прочего, под просвечивающим электронным микроскопом. Более того, смачивающий слой лучше текстурируется и имеет, кроме того, более выраженную предпочтительную кристаллографическую ориентацию. Таким образом, каждый сглаживающий слой выполнен из материала, отличающегося как с кристаллографической, так и со стехиометрической точки зрения от материала смачивающего слоя, под которым он непосредственно располагается. Слой на основе нитрида нижележащего покрытия, который дополнительно содержит сглаживающий слой, находится в контакте с подложкой непосредственно или опосредованно через контактный слой, например, на основе оксида титана (TiO2). Показатель преломления такого слоя на основе нитрида предпочтительно составляет менее 2,2. Предпочтительно сглаживающий слой представляет собой слой смешанного оксида на основе оксида одного или нескольких из следующих металлов: Sn, Si, Ti, Zr, Hf, Zn, Ga, In, а более конкретно слой смешанного оксида на основе цинка и олова или смешанного оксида цинка и индия (ITO), нанесенного в холодном состоянии. Показатель преломления сглаживающего слоя предпочтительно составляет менее 2,2. Предпочтительно также сглаживающий слой представляет собой слой смешанного нестехиометрического по кислороду оксида, а еще более конкретно - слой субстехиометрического смешанного оксида на основе цинка и олова, допированного сурьмой (SnZnOx:Sb, где x означает число). Более того, сглаживающий слой предпочтительно имеет геометрическую толщину между 0,1 и 30 нм, а более предпочтительно между 0,2 и 10 нм. В предпочтительном варианте по меньшей мере одно блокирующее покрытие выполнено на основеNi или Ti или выполнено на основе сплава на основе Ni, в частности выполнено на основе сплава NiCr. К тому же, смачивающий слой, лежащий под функциональным слоем, предпочтительно выполнен на основе оксида цинка; в частности, такой смачивающий слой может быть выполнен на основе допированного алюминием оксида цинка. Геометрическая толщина смачивающего слоя предпочтительно составляет в интервале между 2 и 30 нм, а более предпочтительно в интервале между 3 и 20 нм. Остекление по изобретению включает в себя по меньшей мере одну подложку-носитель пакета слоев по изобретению, необязательно объединенную по меньшей мере с одной другой подложкой. Каждая подложка может быть бесцветной или цветной. По меньшей мере одна из подложек может быть, в частности, выполнена из цветного в своей массе стекла. Выбор типа окрашивания зависит от уровня светопропускания и/или колориметрического внешнего вида, искомых для остекления по завершении его изготовления.-2 017695 Так, для остеклений, предназначенных для оснащения транспортных средств, некоторыми нормами предписывается, чтобы ветровое стекло имело светопропускание TL в примерно 75%, а другими нормами предписывается светопропускание TL в примерно 65%; такой уровень светопропускания не требуется,например, для боковых стекол или крыши автомобиля. Окрашенные стекла, которые можно принять во внимание, представляют собой, например, те, которые при толщине 4 мм имеют TL от 65 до 95%, энергопропускание TE от 40 до 80%, доминантную длину волны на пропускание от 470 до 525 нм в сочетании с чистотой пропускания от 0,4 до 6% под источником света D65, что можно "перевести" в колориметрическую систему (L, а, b) значениями а и b при пропускании, соответственно составляющими между -9 и 0 и между -8 и +2. В случае остеклений, предназначенных для оснащения зданий, остекление предпочтительно имеет светопропускание TL по меньшей мере в 75% или больше для "низкоэмиссионных" применений и светопропускание TL по меньшей мере в 40% или больше для "солнцезащитных" применений. Остекление по изобретению может иметь ламинированную (клееную) структуру, в частности, объединяющую по меньшей мере две жесткие подложки типа стекла по меньшей мере с одной пленкой(фольгой) термопластичного полимера, с образованием структуры типа "стекло/пакет тонких слоев/пленка(и)/стекло". Полимер может представлять собой, в частности, полимер на основе поливинилбутираля (ПВБ), этиленвинилацетата (ЭВА), полиэтилентерефталата (ПЭТ) и поливинилхлорида (ПВХ). Остекление также может иметь структуру ламинированного остекления, называемого асимметричным и объединяющего жесткую подложку типа стекла по меньшей мере с одной пленкой полимера типа полиуретана со свойствами поглотителя энергии, необязательно сочетающегося с другим слоем полимеров с "самозаживляющимися" свойствами. За более подробной информацией о таком типе остекления можно обратиться, в частности, к патентам ЕР-0132198, ЕР-0131523, ЕР-0389354. Таким образом, остекление может иметь структуру типа "стекло/пакет тонких слоев/пленка(и) полимера". Остекления по изобретению способны выдерживать термическую обработку без ущерба для пакета тонких слоев. Поэтому они возможно являются изогнутыми и/или закаленными. Остекление может быть изогнуто и/или закалено, будучи состоящим из одной единственной подложки, снабженной пакетом слоев. В данном случае речь идет об остеклении, называемом "монолитным". В случае, когда их изгибают, в частности, с целью изготовления стекол для транспортных средств,пакет тонких слоев предпочтительно находится, по меньшей мере, на частично неплоской стороне. Остекление также может представлять собой многослойное остекление (многослойный стеклопакет), в частности однокамерный стеклопакет, причем, по меньшей мере, подложка-носитель пакета слоев может быть изогнута и/или закалена. В конфигурации многослойного остекления предпочтительным является, чтобы пакет слоев был расположен обращенным в сторону промежуточной газовой прослойки. В ламинированной структуре подложка-носитель пакета слоев предпочтительно находится в контакте с пленкой полимера. В случае, когда остекление является монолитным или многослойным типа однокамерного стеклопакета или ламинированного остекления, по меньшей мере, подложка-носитель пакета слоев может быть выполнена из изогнутого или закаленного стекла, причем эта подложка может быть изогнута или закалена до или после нанесения пакета слоев. Изобретение относится также к способу изготовления подложек по изобретению, который состоит в нанесении пакета тонких слоев на подложку по вакуумной технологии типа катодного распыления, необязательно сопровождаемого воздействием магнитного поля (магнетронного распыления), с последующим осуществлением термической обработки покрытой подложки изгибанием/закалкой или отжигом без ухудшения ее оптического и/или механического качества. Тем не менее, не исключается, что первый слой или первые слои пакета слоев может(могут) быть нанесен(ы) по другой технологии, например по технологии термического разложения типа пиролиза. Подробности и преимущественные признаки изобретения поясняются приведенными далее неограничительными примерами, проиллюстрированными с помощью прилагаемых чертежей: на фиг. 1 показано изменение перед термической обработкой поверхностного сопротивления пакета слоев с одним функциональным слоем, снабженным покрытием с одним вышележащим блокирующим слоем, без сглаживающего слоя и со сглаживающим слоем, в зависимости от толщины расположенного под ним диэлектрического слоя; на фиг. 2 - изменение после термической обработки поверхностного сопротивления того же пакета слоев с одним функциональным слоем, что и на фиг. 1, без сглаживающего слоя и со сглаживающим слоем, в зависимости от толщины расположенного под ним диэлектрического слоя; на фиг. 3 - изменение перед термической обработкой поверхностного сопротивления пакета слоев с одним функциональным слоем, снабженным покрытием с одним вышележащим блокирующим слоем, в зависимости от толщины сглаживающего слоя; на фиг. 4 - изменение после термической обработки поверхностного сопротивления того же пакета слоев с одним функциональным слоем, что и на фиг. 3, в зависимости от толщины сглаживающего слоя; на фиг. 5 - пакет слоев по изобретению с одним функциональным слоем, причем функциональный-3 017695 слой снабжен вышележащим блокирующим покрытием, но без нижележащего блокирующего покрытия; на фиг. 6 - пакет слоев по изобретению с одним функциональным слоем, причем функциональный слой снабжен нижележащим блокирующим покрытием, но без вышележащего блокирующего покрытия; и на фиг. 7 - пакет слоев по изобретению с одним функциональным слоем, причем функциональный слой снабжен нижележащим блокирующим покрытием и вышележащим блокирующим покрытием. На чертежах, иллюстрирующих пакеты слоев, пропорции между толщинами различных материалов не соблюдены строго для облегчения чтения чертежей. Кроме того, во всех приведенных далее примерах пакет тонких слоев нанесен на подложку 10 из натриево-кальциево-силикатного стекла толщиной 2 мм. Во всех случаях, где к подложке была применена термическая обработка, речь идет об отжиге в течение примерно 5 мин при температуре примерно 660C с последующим охлаждением на окружающем воздухе (примерно 20 С). Фиг. 1-4 приведены с целью иллюстрации значимости наличия сглаживающего слоя в пакете слоев типа того, что показан на фиг. 5, на которой показан пакет слоев по изобретению. В примере под номером 1 пакет слоев с одним функциональным слоем по изобретению представляет собой пакет слоев типа: подложка/Si3N4/SnZnOx:Sb/ZnO/Ag/Ti/ZnO/Si3N4 переменная/переменная/8 нм/10 нм/2 нм/8 нм/20 нм. Кривые С 1 и С 11 на фиг. 1 и 2 показывают изменение поверхностного сопротивления (в Ом) пакета слоев в зависимости от толщины диэлектрического слоя на основе нитрида кремния (е Si3N4), находящегося в контакте с подложкой, соответственно перед термической обработкой (ВНТ) и после нее (АНТ) в случае, когда пакет слоев не снабжен сглаживающим слоем. Кривые С 2 и С 12 показывают изменение поверхностного сопротивления (в Ом) пакета слоев в зависимости от толщины диэлектрического слоя на основе нитрида кремния (е Si3N4), находящегося в контакте с подложкой, соответственно перед термической обработкой и после нее в случае, когда пакет слоев снабжен сглаживающим слоем из SnZnOx:Sb толщиной 6 нм (х означает число, отличающееся от нуля). Кривые С 3 и С 13 показывают изменение поверхностного сопротивления (в Ом) пакета слоев в зависимости от толщины диэлектрического слоя на основе нитрида кремния (е Si3N4), находящегося в контакте с подложкой, соответственно перед термической обработкой и после нее в случае, когда пакет слоев снабжен сглаживающим слоем на основе SnZnOx:Sb толщиной 20 нм. Как можно видеть на фиг. 1 и 2, для той же толщины диэлектрического слоя, находящегося в контакте с подложкой (например, 20 нм), поверхностное сопротивление пакета слоев на кривых С 2, С 3, С 12 и С 13 всегда меньше и, следовательно, лучше в случае, когда пакет слоев содержит сглаживающий слой на основе SnZnOx:Sb между диэлектрическим слоем на основе нитрида кремния, находящимся в контакте с подложкой, и смачивающим слоем на основе оксида цинка ZnO, лежащим под функциональным слоем на основе серебра Ag, и при этом поверхностное сопротивление пакета слоев всегда меньше при толщине сглаживающего слоя в 20 нм (кривые C3 и С 13). Было подтверждено, что сглаживающий слой из смешанного оксида является аморфным по всей его толщине, тогда как смачивающий слой и металлический функциональный слой, оба, являются кристаллическими по всей их толщине. Следовательно, наличие сглаживающего слоя существенным образом улучшает поверхностное сопротивление пакета слоев со сравнимой толщиной нижележащего диэлектрического слоя, и такое улучшение тем больше, чем больше толщина сглаживающего слоя. Кривые на фиг. 3 и 4 показывают изменение поверхностного сопротивления (в Ом) пакета слоев в зависимости от толщины сглаживающего слоя на основе оксида цинка и олова, допированного сурьмой(е SnZnOx:Sb), соответственно перед термической обработкой (ВНТ) и после нее (АНТ) в случае, когда пакет слоев снабжен слоем на основе нитрида кремния Si3N4 толщиной 20 нм между подложкой и слоем на основе SnZnOx:Sb. Также было подтверждено, что сглаживающий слой из смешанного оксида является аморфным по всей его толщине, тогда как смачивающий слой и металлический функциональный слой, оба, являются кристаллическими по всей их толщине. Как можно видеть также и на фиг. 3 и 4, наличие сглаживающего слоя существенным образом улучшает поверхностное сопротивление пакета слоев при сглаживающем слое толщиной в интервале между 0 и 4 нм, и такое улучшение тем больше, чем больше толщина сглаживающего слоя. Подобные выводы могут быть сделаны и в отношении пакета слоев с одним функциональным слоем, снабженным нижележащим блокирующим покрытием и без вышележащего блокирующего покрытия или снабженным нижележащим блокирующим покрытием и вышележащим блокирующим покрытием. Также была выполнена другая серия испытаний. Три примера под номерами 2, 3 и 4 были осуществлены на базе, показанной на фиг. 5 структуры пакета слоев с одним функциональным слоем, в которой функциональный слой 40 был снабжен выше-4 017695 лежащим блокирующим покрытием 45. В приведенной далее табл. 1 представлены толщины каждого из слоев в нанометрах. Таблица 1 Результаты по удельному сопротивлению, оптическим и энергетическим характеристикам в этих примерах представлены в приведенной далее табл. 2. Таблица 2 Таким образом, удельное сопротивление пакета слоев как до термической обработки, так и после нее в примере 4 по изобретению всегда меньше соответствующих значений в сравнительных примерах 3 и 2. К тому же, светоотражение RL, светопропускание TL, измеренные с источником света D65, и цвета при отражении а и b в системе LAB, измеренные с источником света D65 со стороны этих слоев, не различаются действительно существенным образом между примерами по изобретению и сравнительными примерами 3 и 2. При сравнении оптических и энергетических характеристик перед термической обработкой с такими же характеристиками после термической обработки какое-либо значительное ухудшение отмечено не было. Другие испытания были также осуществлены на базе, показанной на фиг. 6 структуры пакета слоев с одним функциональным слоем, в которой функциональный слой 40 был снабжен вышележащим блокирующим покрытием 45, но без нижележащего блокирующего покрытия 35. Другие испытания были также осуществлены на базе, показанной на фиг. 7 структуры пакета слоев с одним функциональным слоем, в которой функциональный слой 40 был снабжен нижележащим блокирующим покрытием 35 и вышележащим блокирующим покрытием 45. Все испытания позволили прийти к аналогичным выводам. Кроме того, были проведены испытания, позволившие измерить шероховатость слоев. В приведенной далее табл. 3 представлены шероховатости, измеренные рентгеновской рефлектометрией и выраженные в нм (шероховатость подложки составляет примерно 0,4). Таблица 3-5 017695 Как можно видеть в данной таблице, шероховатость слоя на основе нитрида кремния Si3N4, нанесенного только на стекло, является высокой, а конечная шероховатость пакета слоев, содержащего слой на основе оксида олова и индия SnInOx (ITO) или слой на основе смешанного оксида цинка и оловаSnZnOx:Sb, нанесенный на слой на основе нитрида кремния, является менее высокой. Смачивающий слой на основе смешанного оксида позволяет, таким образом, улучшить шероховатость поверхности раздела в контакте со смачивающим слоем, уменьшая данную шероховатость. Настоящее изобретение было описано выше в качестве примера. Разумеется, что специалист в данной области техники в состоянии реализовать различные варианты изобретения, не выходя при этом за рамки заявленного объема, определяемые формулой изобретения. ФОРМУЛА ИЗОБРЕТЕНИЯ 1. Остекление, включающее в себя подложку (10), снабженную пакетом тонких слоев, содержащим металлический функциональный слой (40) со свойствами отражения инфракрасного и/или солнечного излучения на основе серебра или содержащего серебро металлического сплава, и два покрытия (20, 60),причем упомянутые покрытия состоят из множества диэлектрических слоев (24, 64), а функциональный слой (40) расположен между двумя покрытиями (20, 60), причем функциональный слой (40) нанесен на смачивающий слой (30), нанесенный, в свою очередь, непосредственно на нижележащее покрытие (20),отличающееся тем, что нижележащее покрытие (20) содержит по меньшей мере один диэлектрический слой (24) на основе нитрида, в частности нитрида кремния и/или нитрида алюминия, и по меньшей мере один некристаллический сглаживающий слой (26) из смешанного оксида, причем упомянутый сглаживающий слой (26) находится в контакте с упомянутым вышележащим смачивающим слоем (30) и представляет собой слой смешанного оксида на основе цинка и олова. 2. Остекление по предыдущему пункту, отличающееся тем, что сглаживающий слой (26) смешанного оксида на основе цинка и олова является допированным. 3. Остекление по любому из предыдущих пунктов, отличающееся тем, что сглаживающий слой (26) представляет собой слой оксида с нестехиометрическим количеством кислорода. 4. Остекление по любому из предыдущих пунктов, отличающееся тем, что сглаживающий слой (26) имеет геометрическую толщину между 0,1 и 30 нм, а предпочтительно между 0,2 и 10 нм. 5. Остекление по любому из предыдущих пунктов, отличающееся тем, что функциональный слой(40) расположен непосредственно по меньшей мере на одном нижележащем блокирующем покрытии(35) и/или непосредственно под по меньшей мере одним вышележащим блокирующим покрытием (45). 6. Остекление по предыдущему пункту, отличающееся тем, что по меньшей мере одно блокирующее покрытие (35, 45) выполнено на основе Ni или Ti или выполнено на основе сплава на основе Ni, в частности на основе сплава NiCr. 7. Остекление по любому из предыдущих пунктов, отличающееся тем, что смачивающий слой (30),лежащий под функциональным слоем (40), выполнен на основе оксида цинка. 8. Остекление по любому из предыдущих пунктов, отличающееся тем, что подложка (10) представляет собой прозрачную стеклянную подложку. 9. Остекление по любому из предыдущих пунктов, отличающееся тем, что оно содержит по меньшей мере одну дополнительную подложку, необязательно объединенную с упомянутой подложкой. 10. Остекление по предыдущему пункту, отличающееся тем, что оно смонтировано как монолитное или как многослойное остекление типа однокамерного стеклопакета или ламинированного остекления,при этом, по меньшей мере, подложка-носитель пакета слоев изогнута или закалена. 11. Способ изготовления остекления по любому из пп.1-8, отличающийся тем, что наносят пакет тонких слоев на подложку по вакуумной технологии типа катодного распыления, необязательно магнетронного распыления, и тем, что затем осуществляют термическую обработку типа изгибания, закалки или отжига упомянутой подложки без ухудшения ее оптического и/или механического качества.