Система и способ удаления пленки с внешних границ поверхностей плоских подложек

011698 Притязание на приоритет По настоящей заявке испрашивается приоритет в соответствии с предварительной патентной заявкой США 60/629897 от 23 ноября 2004 г. Область техники, к которой относится изобретение Настоящее изобретение относится к изготовлению фотогальванических элементов. Уровень техники При изготовлении фотогальванических элементов полупроводниковый материал наносится на стеклянную подложку. В результате этого нанесения одна поверхность и края подложки могут покрываться полупроводниковым материалом. Чтобы изготовить фотогальванический элемент, желательно удалить нанесенный полупроводниковый материал с краев подложки и с внешних границ покрытой поверхности подложки. Может быть использована пескоструйная очистка для того, чтобы удалять устойчивое покрытие из полупроводникового материала с внешних границ поверхностей и краев фотогальванического элемента. В общем, система для удаления пленки с множества внешних границ поверхностей практически плоских подложек содержит кожух, первую зону удаления пленки внутри кожуха, вторую зону удаления пленки внутри кожуха рядом с первой зоной удаления пленки, поворотную зону между первой зоной удаления и второй зоной удаления и челнок, сконфигурированный для того, чтобы транспортировать подложку через первую зону удаления пленки к поворотной зоне и от поворотной зоны через вторую зону удаления пленки. Внутри поворотной зоны предусмотрена поворотная установка, содержащая элементы, которые осуществляют поворот подложки. Аналогично, установка удаления пленки, имеющая оборудование, которое удаляет пленку с подложки, предусмотрена в каждой зоне удаления пленки. Установки удаления пленки предназначены для того, чтобы принимать подложку, имеющую покрытую пленкой поверхность, которая является практически плоской. Установки удаления пленки могут быть использованы для того, чтобы обрабатывать поверхности, имеющие незначительные вариации; тем не менее, покрытая пленкой поверхность, которая должна быть обработана, должна быть достаточно плоской для того, чтобы она могла быть принята в установках удаления пленки с тем, чтобы пленка была успешно удалена с подложки. Известные комплексные производственные системы, имеющие несколько конвейеров для транспортировки стеклянной подложки. Эти конвейеры не размещаются коллинеарным способом; т.е. удаление покрытия из полупроводникового материала с соседних внешних границ поверхности и краев подложки требует обработки подложки за несколько нелинейных шагов, требуя значительных производственных площадей и участия человека. Это приводит к нежелательному отсутствию однородности конечных фотогальванических элементов. Нелинейный характер известных систем и обязательное участие человека также приводит к лишним дополнительным затратам вследствие снижения эффективности и больших требований по площадям. Дополнительно нелинейная установка и участие человека не позволяют эффективно изолировать известные системы от рабочей среды. Как результат, обслуживание производственного оборудования требует постоянного управления отходами пескоструйной очистки, и рабочие должны носить защитные респираторы. Краткое изложение существа изобретения Согласно одному аспекту изобретения предложена система удаления пленки с множества внешних границ поверхности практически плоской подложки включает в себя установку подачи, установку выхода и челнок, размещенный между установкой подачи и установкой выхода. Транспортный механизм возвратно-поступательного движения сконфигурирован так, чтобы транспортировать подложку из первой конечной позиции рядом с конвейером подачи и второй конечной позиции на расстоянии от позиции подачи. Первая конечная позиция и вторая конечная позиция задают ось транспортировки. Транспортный механизм возвратно-поступательного движения имеет каркас, предназначенный для того, чтобы поддерживать подложку, первый конец, направленный к первой конечной позиции, и второй конец, направленный ко второй конечной позиции. Система также включает в себя поворотную установку, размещенную между первой конечной позицией и второй конечной позицией, первую установку удаления пленки рядом с первой конечной позицией и вторую установку удаления пленки рядом со второй конечной позицией. Система может включать в себя кожух, практически закрывающий первую установку удаления пленки, поворотную установку и вторую установку удаления пленки. Поворотная установка может включатьв себя опору, чтобы поворачивать подложку вокруг оси,перпендикулярной оси транспортировки. Опора может включать в себя присоску для прикрепления подложки к опоре. Опора может поворачивать подложку на 90. Кожух может иметь рабочее давление, которое ниже давления, внешнего для кожуха. Часть кожуха может быть прозрачной. Транспортный механизм с возвратно-поступательным движением может включать в себя множество присосок для того, чтобы сохранять позицию подложки на каркасе. Первый конец может быть сконфигурирован так, чтобы удерживать подложку в первой ориентации, а второй конец может быть сконфигурирован так, чтобы удерживать подложку во второй ориентации. Первая установка удаления пленки может включать в себя первую насадку для удаления пленки.-1 011698 Первая насадка для удаления пленки может быть размещена таким образом, чтобы внешняя граница поверхности подложки проходила в пределах зоны удаления пленки первой насадки для удаления пленки по мере того, как транспортный механизм возвратно-поступательного движения перемещается вдоль оси транспортировки, проходя поворотную установку. Вторая установка удаления пленки может включать в себя вторую насадку для удаления пленки. Вторая насадка для удаления пленки может быть размещена таким образом, чтобы внешняя граница поверхности подложки проходила в пределах зоны удаления пленки второй насадки для удаления пленки по мере того, как транспортный механизм возвратнопоступательного движения перемещается вдоль оси транспортировки после прохождения поворотной установки. В определенных случаях каждая установка удаления пленки может включать в себя две насадки для удаления пленки, размещенные так, чтобы каждая из двух внешних границ поверхности плоской подложки проходила в пределах зоны удаления пленки соответствующей насадки для удаления пленки по мере того, как транспортный механизм возвратно-поступательного движения перемещается вдоль оси транспортировки. Каждая насадка удаления пленки, независимо, может быть насадкой для пескоструйной очистки. Система может включать в себя продувочную камеру, закрывающую насадку для пескоструйной очистки. Продувочная камера может включать в себя проход, через который насадка осуществляет доступ к внешней границе поверхности подложки. Продувочная камера может включать в себя выпускное отверстие, чтобы извлекать отходы пескоструйной очистки из продувочной камеры. Каждая установка удаления пленки может включать в себя полировочное колесо для размещения таким образом, чтобы контактировать с внешней границей поверхности подложки по мере того, как транспортный механизм возвратно-поступательного движения перемещается вдоль оси транспортировки. Система также может включать в себя направляющую для размещения подложки на первом конце транспортного механизма возвратно-поступательного движения. Направляющая может включать в себя несколько направляющих колес, направляющих планок, пневматически растяжимых направляющих амортизаторов или любые другие средства обработки поверхности подложки в ходе их подачи к первому концу транспортного механизма возвратно-поступательного движения. Согласно другому аспекту изобретения предложен способ удаления пленки с множества внешних границ поверхности практически плоской подложки, который заключается в том, что подают плоскую подложку в первую область транспортного механизма возвратно-поступательного движения, транспортируют транспортный механизм возвратно-поступательного движения из первой конечной позиции в направлении второй конечной позиции вдоль оси транспортировки так, чтобы первая внешняя граница поверхности подложки проходила в пределах зоны удаления пленки первой установки удаления пленки по мере того, как транспортный механизм возвратно-поступательного движения перемещается вдоль оси транспортировки к поворотной установке, поворачивают подложку в поворотной установке, транспортируют транспортный механизм возвратно-поступательного движения от поворотной установки во вторую конечную позицию так, чтобы вторая внешняя граница поверхности подложки проходила в пределах зоны удаления пленки второй установки удаления пленки по мере того, как транспортный механизм возвратно-поступательного движения перемещается вдоль оси транспортировки ко второй конечной позиции, и удаляют подложку с транспортного механизма возвратно-поступательного движения. В способе поворот подложки в поворотной установке может включать в себя этапы удаления подложки из первой области транспортного механизма возвратно-поступательного движения, изменения ориентации подложки относительно оси транспортировки, перемещения подложки в позицию второй области транспортного механизма возвратно-поступательного движения, чтобы принимать подложку, и позиционирования плоской подложки во второй области транспортного механизма возвратнопоступательного движения. Подача плоской подложки может включать в себя этап перемещения подложки с помощью конвейера подачи. Удаление подложки может включать в себя этап перемещения подложки с помощью конвейера выхода. Первая установка удаления пленки и вторая установка удаления пленки могут быть заключены в атмосферу с регулируемыми параметрами. Способ может включать в себя этап снижения давления атмосферы с регулируемыми параметрами до давления ниже давления, внешнего по отношению к атмосфере с регулируемыми параметрами. Например, для кожуха может быть предусмотрен выпуск или система такая, чтобы воздух откачивался из внутренней атмосферы, приводя к меньшему давлению внутри кожуха, чем вне кожуха. Это обеспечивает эффективную герметизацию отходов внутри кожуха, формируемых в процессе удаления пленки. Аналогично, выпускные отверстия могут размещаться рядом с точками в кожухе, где формируются отходы, предоставляя более локализованное управление отходами, которые могут транспортироваться посредством выпускной системы от компонентов системы. Способ может включать в себя этап, на котором позиционируют плоскую подложку на челноке. Предлагаемые система и способ имеют преимущества в сравнении с известными способами удаления покрытия из полупроводникового материала с внешних границ покрытой поверхности и краев. Система и способ удаления пленки с фотогальванического элемента на внешних границах покрытой поверхности и краях предусматривает поточную обработку и конечные преимущества, такие как снижение интенсивности обслуживания, более безопасные условия труда, более высокая однородность-2 011698 продуктов и повышение эффективности. Краткое описание чертежей В дальнейшем изобретение поясняется описанием предпочтительных вариантов осуществления со ссылками на сопровождающие чертежи, на которых фиг. 1 изображает верхнюю поверхность фотогальванического элемента после производственного этапа по удалению пленки с внешних границ верхней поверхности согласно изобретению; фиг. 2 - разрез фотогальванического элемента по линии II-II на фиг. 1 согласно изобретению; фиг. 3 - вид сверху системы удаления пленки с внешних границ поверхности и краев подложки на начальной стадии процесса удаления пленки согласно изобретению; фиг. 4 - вид спереди системы на фиг. 3 согласно изобретению; фиг. 5 - вид сверху системы на промежуточной стадии удаления пленки согласно изобретению; фиг. 6 - вид спереди системы на стадии после стадии на фиг. 5 согласно изобретению; фиг. 7 - вид спереди системы удаления пленки согласно изобретению; фиг. 8 - вид сверху системы на стадии после стадии на фиг. 6 согласно изобретению; фиг. 9 - вид сверху системы на стадии после стадии на фиг. 8 согласно изобретению; фиг. 10 - вид сверху системы на стадии после стадии на фиг. 9 согласно изобретению; фиг. 11 - вид сверху системы на стадии после стадии на фиг. 10 согласно изобретению; фиг. 12 - вид спереди системы на фиг. 11 согласно изобретению; фиг. 13 - вид сверху системы на стадии после стадии, изображенной на фиг. 11 согласно изобретению. Подробное описание предпочтительных вариантов воплощения изобретения На фиг. 1 и 2 показан фотогальванический элемент 10, где материал, нанесенный на поверхность подложки 11, например полупроводниковый материал, такой как сульфид кадмия или теллурид кадмия,удален на внешних границах 12 поверхности подложки 11, формируя траекторию без покрытия на поверхности подложки 11. Полупроводниковый материал также удален с кромок 16 подложки 11. На фиг. 3 и 4 представлена система 100 для удаления материала с внешних границ поверхности и краев подложки, такой как стеклянная подложка. Система содержит транспортный механизм 20 возвратно-поступательного движения, который перемещается вдоль салазок 22 транспортного механизма возвратно-поступательного движения между установкой 30 подачи и установкой 40 вывода. Элементы системы 100 между установкой 30 подачи и установкой 40 вывода заключены в кожух 19, который может быть, по меньшей мере, частично прозрачным, так чтобы система 100 могла визуально отслеживаться извне кожуха. Различные элементы также могут быть установлены на поверхности 18, например на полу,или могут быть подняты с помощью стола или другого монтажного уступа. Предпочтительно установка 30 подачи, транспортный механизм 20 возвратно-поступательного движения и установка 40 вывода размещаются коллинеарным способом, предоставляя возможность поточной обработки фотогальванического элемента (PV-устройства) 10. Подложка 11, фиг. 3, 4, покрытая полупроводниковым материалом, подается на транспортный механизм 20 возвратно-поступательного движения в установку 30 подачи, которой может быть ленточный конвейер, роликовый конвейер или любое другое соответствующее устройство транспортировки. Подложка 11 подается в первую область 24 транспортного механизма 20 возвратнопоступательного движения рядом с первой конечной позицией 31. Предпочтительно подложка 11 имеет квадратную форму, когда она помещается в первую область 24 транспортного механизма 20 возвратнопоступательного движения. Затем подложка 11 крепится к транспортному механизму 20 возвратнопоступательного движения посредством активирования приспособлений 28 крепления, таких как присоски. Затем транспортный механизм 20 (фиг. 5, 6 и 7) перемещается вдоль салазок 22. Траектория транспортного механизма 20 возвратно-поступательного движения между установкой 30 подачи и установкой 40 вывода задает ось 23 транспортировки системы 100. На фиг. 5 показан транспортный механизм 20,транспортирующий подложку 11, прикрепленную к первой области 24 так, чтобы транспортный механизм 20 перемещался вдоль салазок 22 транспортного механизма в направлении второй конечной позиции 33 и установки 40 вывода. Транспортный механизм 20 возвратно-поступательного движения транспортирует подложку 11, которая проходит через первую установку 50 удаления пленки рядом с первой конечной позицией 31. Первая установка 50 (фиг. 5) удаления пленки может включать в себя блок 52 пескоструйной очистки, имеющий насадку 56 для пескоструйной очистки, направленную к внешней границе покрытой поверхности подложки 11. Покрытая поверхность может смотреть вверх или вниз. Когда подложка 11 проходит насадку 56, которая находится в эффективной области удаления пленки с подложки 11, пленка удаляется с внешних границ покрытой поверхности, оставляя очищенную часть 58 внешней границы поверхности подложки 11, практически не имея остатков полупроводникового материала в очищенной части 58 внешней границы поверхности. Установка 50 удаления пленки также может содержать полировочное колесо 54, чтобы предоставить дополнительную возможность для удаления пленки с края подложки 11. Установка 50 удаления пленки может включать в себя два блока пескоструйной очистки для удаления пленки с противополож-3 011698 ных внешних границ покрытой поверхности подложки 11 на том же этапе и практически одновременно(фиг. 5). Ширина очищенных частей 58 внешней границы поверхности может регулироваться на основе конструкции насадки, размещения и давления, а также других важных факторов. Ширина части 58 может быть меньше 50 мм, предпочтительно 14 мм, для изготовления PV-устройств, хотя ширина может регулироваться в пределах большего диапазона значений согласно потребностям и предпочтениям пользователей. На фиг. 6 и 7 показан транспортный механизм 20 возвратно-поступательного движения во второй конечной позиции 33 системы 100, так чтобы вторая область 26 транспортного механизма 20 возвратнопоступательного движения находилась рядом с установкой 40 вывода. На этой стадии покрытие из полупроводникового материала удалено по длине краев и очищенных внешних границ поверхности подложки 11, при этом подложка 11 находится практически над поворотной установкой 70, имеющей опору 72 с крепежными приспособлениями 74, такими как присоски. После того как транспортный механизм 20 возвратно-поступательного движения переместился во вторую конечную позицию 33, опора 72 выдвигается через транспортный механизм 20, при этом крепежные приспособления 74 опоры зацепляются с подложкой 11. Когда крепежные приспособления 28 транспортного механизма расцепляются с подложкой 11 и опора 72 продолжает выдвижение, подложка 11 поддерживается над первой областью 24 транспортного механизма 20. На фиг. 6 и 8 показана опора 72, вращающая подложку 11 в поворотной установке 70 над транспортным механизмом 20 возвратно-поступательного движения во второй ориентации по сравнению с ориентацией подложки 11, транспортируемой мимо первой установки 50 удаления пленки, и при этом поддерживаемой в первой области 24 транспортного механизма 20. В определенных вариантах осуществления подложка 11 может поворачиваться на 90 от своей ориентации в первой области 24. После того как подложка 11 поддерживается над транспортным механизмом 20 и, необязательно, при этом поворачивается на опоре 72 в поворотной установке 70, транспортный механизм 20 перемещается обратно к первой конечной позиции 31 рядом с установкой 30 подачи (фиг. 8). В это время вторая подложка 85 может быть помещена в установку 30 подачи. Транспортный механизм 20 (фиг. 9) переводится в первую конечную позицию 31, а вторая подложка 85 подается в первую область 24 транспортного механизма 20 таким же образом, что и подложка 11 была подана в первую область 24 и закреплена посредством крепежных приспособлений 28. Когда транспортный механизм 20 помещен в первую конечную позицию 31 так, что первая область 24 находится рядом с установкой 30 подачи, вторая область 26 транспортного механизма 20 помещается в поворотную установку 70, чтобы поворачиваемая подложка 11 поддерживалась посредством опоры 70 над второй областью 26. На этой стадии опора 72 задвигается в направлении второй области 26 подложки 20,крепежные приспособления 74 разъединяются, и подложка 11 закрепляется посредством крепежных приспособлений 28 транспортного механизма во второй области 26. Транспортный механизм 20 (фиг. 10) возвратно-поступательного движения затем перемещается обратно в направлении второй конечной позиции 33 вдоль оси 23 транспортировки и установки 40 вывода,транспортируя первую подложку 11 во вторую область 26 и вторую подложку 85 в первую область 24. По мере того как транспортный механизм 20 перемещается вдоль оси транспортировки, вторая подложка 85 проходит через первую установку 50 удаления так же, как и первая подложка 11 прошла через первую установку 50 удаления, как описано выше. Кроме этого, когда транспортный механизм 20 перемещается обратно во вторую конечную позицию 33, первая подложка 11 проходит через вторую установку 60 удаления пленки, ориентированную рядом со второй конечной позицией 33 и коллинеарную с первой установкой 50 удаления пленки. Вторая установка 60 удаления пленки может включать в себя блок 62 пескоструйной очистки с насадкой 66 для пескоструйной очистки. Поскольку подложка 11 теперь повернута на 90, вторая внешняя граница поверхности подложки 11 подвергается действию насадки 66 в установке 60 удаления пленки. На фиг. 11 и 12 показан транспортный механизм 20 движением во второй конечной позиции 33, где вторая подложка 85 прошла через первую установку 50 удаления пленки тем же образом, что и первая подложка 11 прошла через первую установку 50 удаления пленки до поворота. Аналогично, на этой стадии первая подложка 11 прошла через вторую установку 60 удаления пленки, имея очищенные части 59 внешних участков поверхности. Как и в случае с первой установкой 50 удаления пленки, вторая установка 60 удаления пленки может включать в себя несколько блоков 62 пескоструйной очистки и насадок 66. Полировочные колеса 64 могут быть использованы для полирования кромок подложки 11. Кроме того, система содержит продувочную камеру 80, которая практически закрывает блок 62 пескоструйной очистки и каждую насадку 66. Продувочная камера 80 показана только в одной части второй установки 60 удаления пленки для простоты. Продувочная камера может быть предусмотрена для каждого блока 52, 62 пескоструйной очистки и насадки 56, 66. Полировочные колеса 54, 64 необязательно могут быть помещены в продувочные камеры. Продувочная камера 80 (фиг. 12) содержит проход 68 для внешней границы поверхности подложки 11, чтобы подложка 11 проходила через установки 50, 60 удаления пленки, частично размещенной в продувочной камере 80. Как показано на виде сверху на фиг.-4 011698 11, продувочная камера 80 перекрывает подложку 11, внешняя граница поверхности которой проходит через проход 68. Отходы продувки, формируемые в системе 100, могут влиять на окружающую среду и здоровье и также могут негативно влиять на эффективность системы 100, если не будут удалены эффективным способом. Поэтому продувочная камера 80 может включать в себя выпускное отверстие 82 и выпускной рукав 84 для сбора и удаления отходов пескоструйной очистки из системы 100. Кожух 19 может иметь отрицательное давление относительно окружающей атмосферы, которое может создаваться путем откачивания воздуха из кожуха 19, фактически содержит отходы пескоструйной очистки из кожуха 19. Во второй конечной позиции 33 (фиг. 12) вторая подложка 85 размещается практически в поворотной установке 70. Как и для вышеописанной подложки 11, вторая подложка 85 поддерживается над транспортным механизмом 20 посредством выступающей опоры 72. После того как вторая подложка 85 (фиг. 13) закреплена на опоре и после того как первая подложка 11 выходит из системы 100 в установке 40 вывода, транспортный механизм 20 перемещается обратно в направлении первой конечной позиции 31. Вторая подложка 85 поворачивается для размещения во второй области 26 транспортного механизма 20, а третья подложка 87 помещается в установку 30 подачи для размещения в первой области 24 транспортного механизма 20 после того, как транспортный механизм 20 перемещается в первую конечную позицию 31. После размещения третьей подложки 87 в первой области 24 транспортного механизма 20, транспортный механизм возвращается во вторую конечную позицию 33 и проводит вторую подложку 85 через вторую установку 60 удаления пленки и проводит третью подложку 87 через первую установку 50 удаления пленки. Таким образом, способ удаления пленки не прекращается за счет одновременной обработки нескольких подложек. Хотя способ и система описаны со ссылкой на удаление покрытия из полупроводникового материала с фотогальванического элемента, должно быть очевидно, что способ и система могут быть использованы для обработки других практически плоских подложек, имеющих пленочное покрытие практически плоских поверхностей. По существу, область применения формулы изобретения не должна ограничиваться исключительно на основе вышеприведенного описания. ФОРМУЛА ИЗОБРЕТЕНИЯ 1. Система удаления пленки с множества периферийных участков поверхности практически плоской подложки, содержащая установку подачи,установку вывода,транспортный механизм возвратно-поступательного движения, размещенный между установкой подачи и установкой вывода и сконфигурированный так, чтобы транспортировать подложку из первой конечной позиции рядом с установкой подачи и второй конечной позиции на расстоянии от установки подачи, причем первая конечная позиция и вторая конечная позиция задают ось транспортировки, и при этом транспортный механизм содержит каркас для поддерживания подложки, первый конец которого направлен к первой конечной позиции, а второй конец направлен ко второй конечной позиции,поворотную установку, размещенную между первой конечной позицией и второй конечной позицией,первую установку удаления пленки рядом с первой конечной позицией и вторую установку удаления пленки рядом со второй конечной позицией. 2. Система по п.1, отличающаяся тем, что поворотная установка содержит опору для поворота подложки вокруг оси, перпендикулярной оси транспортировки. 3. Система по п.2, отличающаяся тем, что опора содержит присоску для прикрепления подложки к опоре. 4. Система по п.2, отличающаяся тем, что опора обеспечивает поворот подложки на 90. 5. Система по п.1, отличающаяся тем, что дополнительно содержит кожух, практически закрывающий первую установку удаления пленки, поворотную установку и вторую установку удаления пленки. 6. Система по п.5, отличающаяся тем, что кожух находится под рабочим давлением, которое ниже давления, внешнего для кожуха. 7. Система по п.5, отличающаяся тем, что часть кожуха выполнена прозрачной. 8. Система по п.1, отличающаяся тем, что транспортный механизм содержит множество присосок,расположенных так, чтобы сохранять положение подложки на каркасе. 9. Система по п.1, отличающаяся тем, что первый конец транспортного механизма предназначен для удерживания подложки в первой ориентации, а второй конец транспортного механизма предназначен для удерживания подложки во второй ориентации. 10. Система по п.1, отличающаяся тем, что первая установка удаления пленки содержит первую насадку для удаления пленки. 11. Система по п.10, отличающаяся тем, что первая насадка для удаления пленки размещена так,что внешняя граница поверхности подложки проходит в пределах зоны удаления пленки первой насадки для удаления пленки по мере того, как транспортный механизм перемещается вдоль оси транспортиров-5 011698 ки, проходя поворотную установку. 12. Система по п.10, отличающаяся тем, что вторая установка удаления пленки содержит вторую насадку для удаления пленки. 13. Система по п.12, отличающаяся тем, что вторая насадка для удаления пленки размещена так,что внешняя граница поверхности подложки проходит в пределах зоны удаления пленки второй насадки для удаления пленки по мере того, как транспортный механизм перемещается вдоль оси транспортировки после прохождения поворотной установки. 14. Система по п.1, отличающаяся тем, что каждая установка удаления пленки содержит две насадки для удаления пленки, размещенные так, что каждая из двух внешних границ поверхности плоской подложки проходит в пределах зоны удаления пленки соответствующей насадки для удаления пленки по мере перемещения транспортного механизма вдоль оси транспортировки. 15. Система по п.10, отличающаяся тем, что насадкой для удаления пленки является насадка для пескоструйной очистки. 16. Система по п.15, отличающаяся тем, что дополнительно содержит продувочную камеру, имеющую насадку для пескоструйной очистки, при этом продувочная камера содержит проход, через который осуществляется доступ насадки к внешней границе поверхности подложки. 17. Система по п.16, отличающаяся тем, что продувочная камера дополнительно содержит выпускное отверстие для извлечения отходов пескоструйной очистки из продувочной камеры. 18. Система по п.1, отличающаяся тем, что каждая установка удаления пленки содержит полировочное колесо, размещенное так, чтобы контактировать с внешней границей поверхности подложки при перемещении транспортного механизма вдоль оси транспортировки. 19. Система по п.1, отличающаяся тем, что дополнительно содержит направляющую для размещения подложки на первом конце транспортного механизма. 20. Способ удаления пленки с множества периферийных участков поверхности практически плоской подложки, заключающийся в том, что подают плоскую подложку в первую область транспортного механизма,перемещают транспортный механизм из первой конечной позиции в направлении второй конечной позиции вдоль оси транспортировки, при этом первая внешняя граница поверхности подложки проходит в пределах зоны удаления пленки первой установки удаления пленки по мере перемещения транспортного механизма вдоль оси транспортировки к поворотной установке,поворачивают подложку в поворотной установке,перемещают транспортный механизм от поворотной установки во вторую конечную позицию, при этом вторая внешняя граница поверхности подложки проходит в пределах зоны удаления пленки второй установки удаления пленки по мере перемещения транспортного механизма вдоль оси транспортировки ко второй конечной позиции, и удаляют подложку с транспортного механизма. 21. Способ по п.20, отличающийся тем, что для поворота подложки в поворотной установке удаляют подложку из первой области транспортного механизма,меняют ориентацию подложки относительно оси транспортировки,перемещают подложку в позицию второй области транспортного механизма, чтобы принимать подложку, и позиционируют плоскую подложку во второй области транспортного механизма. 22. Способ по п.20, отличающийся тем, что для подачи плоской подложки перемещают подложку с помощью конвейера подачи. 23. Способ по п.20, отличающийся тем, что для удаления подложки перемещают подложку с помощью конвейера выхода. 24. Способ по п.20, отличающийся тем, что используют первую установку удаления пленки, содержащую насадку для пескоструйной очистки. 25. Способ по п.24, отличающийся тем, что используют вторую установку удаления пленки, содержащую насадку для пескоструйной очистки. 26. Способ по п.24, отличающийся тем, что дополнительно содержит этап, на котором удаляют отходы пескоструйной очистки из первой установки удаления пленки. 27. Способ по п.20, отличающийся тем, что размещают первую установку удаления пленки и вторую установку удаления пленки в атмосфере с регулируемыми параметрами. 28. Способ по п.27, отличающийся тем, что дополнительно содержит этап, на котором снижают регулируемое давление до величины ниже давления, внешнего по отношению к регулируемому давлению. 29. Способ по п.20, отличающийся тем, что дополнительно содержит этап, на котором размещают плоскую подложку на транспортном механизме возвратно-поступательного движения. 30. Система удаления пленки с множества периферийных участков поверхности практически плоской подложки, содержащая кожух,первую зону удаления пленки внутри кожуха,-6 011698 вторую зону удаления пленки внутри кожуха, находящуюся рядом с первой зоной удаления пленки,поворотную зону между первой зоной удаления и второй зоной удаления и транспортный механизм возвратно-поступательного движения для транспортирования подложки через первую зону удаления пленки к поворотной зоне и от поворотной зоны через вторую зону удаления пленки.