H01L 21/027 — образование маски на полупроводниковой подложке для дальнейшей фотолитографической обработки, не отнесенное к рубрикам
Система и способ для автоматического создания и/или обработки заказа на фотомаску с использованием системы профилирования сценариев
Номер патента: 10259
Опубликовано: 30.06.2008
Авторы: Кахалейн Дэниел Дж., Саттайл Эдвард Дж., Кроук Чарльз И.
МПК: H01L 21/027, G06F 17/50
Метки: создания, использованием, способ, сценариев, автоматического, системы, обработки, профилирования, заказа, фотомаску, система
Формула / Реферат:
1. Способ создания заказа на фотомаску, содержащий стадии создания интерфейса пользователя для общей информации, подсказывающего пользователю ввести общие данные о заказчике, размещающем заказ на фотомаску, создания интерфейса пользователя для пользовательского заказа, подсказывающего пользователю ввести специальные данные, необходимые для завершения заказа на фотомаску, на основе общих данных и/или специальных данных, ранее введенных...