G02F 1/39 — для параметрической генерации или усиления инфракрасного или ультрафиолетового излучения

Номер патента: 847

Опубликовано: 26.06.2000

Авторы: Даубер Уильям, Ванг Дзиан, Данн Малькольм Харри, Рае Камерон Фрэнсис

МПК: G02F 1/39, G01N 21/47

Метки: лазерное, устройство

Формула / Реферат:

1. Лазерное устройство, содержащее неколлинеарный оптический параметрический генератор и источник волны накачки, при этом внутри генератора установлен нелинейный кристалл, и средство отражения, образующее резонатор, в котором, по меньшей мере, одна из генерируемых волн является резонансной, при этом относительные ориентации волны накачки и каждой генерируемой волны по отношению к оптической оси нелинейного кристалла являются такими, что на...