C11D 3/18 — углеводороды

Номер патента: 22865

Опубликовано: 31.03.2016

Авторы: Роут Дилип Кумар, Нагараян Арун Кумар, Синха Ритеш Кумар

МПК: C11D 3/02, C11D 3/18, C11D 17/00...

Метки: моющая, композиция

Формула / Реферат:

1. Моющая композиция, представляющая собой микроэмульсию "вода-в-масле", содержащая:a) 20-75 мас.% поверхностно-активной системы;b) 5-20 мас.% водного раствора, имеющего ионную силу 0,01-4 моль/л, содержащего:(i) воду и(ii) электролит, не считая поверхностно-активную систему (а);c) 10-40 мас.% насыщенного масла иd) 0,1-10 мас.% фталоиламинопероксикапроновой кислоты (РАР);при этом данная композиция содержит менее 100 ч./млрд ионов...

Номер патента: 20708

Опубликовано: 30.01.2015

Авторы: Саджи Мая Триза, Перинчери Аравиндакшан, Наяк Калпана Камалакар, Барне Самер Кешав

МПК: C11D 3/20, C11D 3/00, C11D 3/18...

Метки: композиция, твердой, поверхности, обработки

Формула / Реферат:

1. Композиция для обработки твердой поверхности, содержащая:а) полимерный комплекс, включающий в себя:(i) полимер А, выбранный из группы гомополимеров и сополимеров карбоновой кислоты, и(ii) полимер В, выбранный из группы гомополимеров и сополимеров алкиленоксидов, винилпирролидона и/или из группы гомополимеров и сополимеров винилового спирта, сахаридов, гидроксиалкил целлюлозы, где полимеры A и B не относятся к одному классу и где полимер B...

Номер патента: 14005

Опубликовано: 30.08.2010

Авторы: Лакрамп Марк Рене Шарль, Кайджа Стив Пол, Перрин Дарил Олбан, Пауэр Уильям Джеймс

МПК: C11D 3/18, C10G 75/04, C11D 11/00...

Метки: обработки, резервуара, внутреннего, промывки, система, оборудования, способ, используемого, потока, тяжелых, углеводородов

Формула / Реферат:

1. Способ промывки внутреннего оборудования, размещенного в резервуаре, используемом для переработки потока тяжелых углеводородов, включающий введение в резервуар очищающего потока, содержащего ароматические компоненты и/или нафтеновые компоненты, осуществляемый таким образом, что очищающий поток протекает вдоль, по меньшей мере, значительной части поверхности размещенного в резервуаре внутреннего оборудования и смывает с указанного внутреннего...