Патенты с меткой «расстояний»
Способ определения расстояний от устройства до, по меньшей мере, первого и второго слоев в формации
Номер патента: 11963
Опубликовано: 30.06.2009
Авторы: Остермейер Ричард Мартин, Баннинг Эрик Ян, Хагивара Терухико
МПК: G01V 3/38
Метки: формации, слоев, до, второго, мере, меньшей, способ, определения, расстояний, первого, устройства
Формула / Реферат:
1. Способ определения, по меньшей мере, первого и второго расстояний от устройства до, по меньшей мере, первого слоя и второго слоя в формации, при этом по меньшей мере один из первого и второго слоев содержит аномалию электромагнитной индукции, устройство содержит излучатель для излучения электромагнитных сигналов через формацию и приемник для обнаружения откликов, способ содержит этапы, при выполнении которых доставляют устройство внутрь...