Способ изготовления основы с маркировкой и основа с маркировкой, изготовленная указанным способом
Формула / Реферат
1. Способ изготовления основы с маркировкой, в котором:
a) наносят на поверхность основы, на которую в одной или более областях поверхности основы нанесена модифицирующая смола, полученная из одного или более полимеризуемых мономеров, отверждаемую композицию предшественника холестерического жидкого кристалла таким путем, чтобы композиция покрывала по меньшей мере часть одной или более областей, на которые нанесена модифицирующая смола, а также покрывала по меньшей мере одну область поверхности, свободную от модифицирующей смолы, причем композиция содержит по меньшей мере одну соль, изменяющую положение полосы селективного отражения, проявляемой отвержденной композицией, по сравнению с положением полосы селективного отражения, проявляемой отвержденной композицией, не содержащей по меньшей мере одну соль;
b) нагревают нанесенную композицию для перевода ее в холестерическое жидкокристаллическое состояние;
c) отверждают композицию в холестерическом жидкокристаллическом состоянии,
причем модифицирующая смола изменяет положение полосы селективного отражения, проявляемой отвержденной композицией, над одной или более областями основы, на которые она нанесена.
2. Способ по п.1, где нагревают композицию до температуры приблизительно от 55 до приблизительно 150°C.
3. Способ по любому из пп.1 и 2, где композицию наносят по меньшей мере одним из следующих способов: нанесение покрытия напылением, нанесение покрытия с помощью ракеля, нанесение покрытия с помощью валка, нанесение покрытия с помощью трафарета, нанесение покрытия поливом, глубокая печать, флексография, трафаретная печать, тампонная печать, непрерывная струйная печать, капельно-импульсная струйная печать и клапанно-струйная печать.
4. Способ по любому из пп.1-3, где композицию наносят в форме по меньшей мере одного из следующих видов: изображения, картинки, логотипа, знаков и узора, представляющего собой код, выбранный из одного или более следующих кодов: одномерного штрих-кода, многоуровневого одномерного штрих-кода, двумерного штрих-кода, трехмерного штрих-кода и матрицы данных.
5. Способ по любому из пп.1-4, где модифицирующая смола находится по меньшей мере в одной из одной или более областей по меньшей мере одного из следующих видов: изображения, картинки, логотипа, знаков и узора, представляющего собой код, выбранный из одного или более следующих кодов: одномерного штрих-кода, многоуровневого одномерного штрих-кода, двумерного штрих-кода, трехмерного штрих-кода и матрицы данных.
6. Способ по любому из пп.1-5, где модифицирующая смола нанесена на основу по меньшей мере одним из следующих способов: нанесение покрытия напылением, нанесение покрытия с помощью ракеля, нанесение покрытия с помощью валка, нанесение покрытия с помощью трафарета, нанесение покрытия поливом, глубокая печать, флексография, офсетная печать, офсетная печать без увлажнения, типографская печать, трафаретная печать, тампонная печать, непрерывная струйная печать, капельно-импульсная струйная печать и клапанно-струйная печать.
7. Способ по любому из пп.1-6, где основа представляет собой один из следующих предметов: этикетку, упаковку, картридж, контейнер или капсулу, содержащие биологически активные добавки, фармацевтические препараты, продукты питания или напитки, банкноту, кредитную карту, печать, акцизную марку, документ, обеспечивающий защиту, паспорт, идентификационную карту, водительское удостоверение, карту доступа, проездной билет, билет на мероприятие, платежный документ, пленку для переноса краски, отражающую пленку, алюминиевую фольгу и коммерческий товар.
8. Способ по любому из пп.1-7, где модифицирующая смола способна к изменению положения полосы селективного отражения, проявляемой отвержденной композицией, включающей по меньшей мере одну соль, нанесенной на основу, по меньшей мере приблизительно на 5 нм.
9. Способ по любому из пп.1-8, где композиция предшественника холестерического жидкого кристалла содержит (i) одно или более нематических соединений А и (ii) одну или более хиральных добавок В, которые способствуют переходу указанной композиции в холестерическое состояние.
10. Способ по п.9, где композиция содержит по меньшей мере два соединения А.
11. Способ по любому из пп.9 и 10, где одно или более нематических соединений А, а также одна или более хиральных добавок В включают по меньшей мере одно соединение, включающее по меньшей мере одну полимеризуемую группу.
12. Способ по п.11, где по меньшей мере одна полимеризуемая группа включает ненасыщенную углерод-углеродную связь.
13. Способ по п.12, где по меньшей мере одна полимеризуемая группа включает группу, имеющую формулу H2C=CH-C(O)-.
14. Способ по любому из пп.9-13, где каждое из одного или более нематических соединений А и каждая из одной или более хиральных добавок В включает по меньшей мере одну полимеризуемую группу.
15. Способ по любому из пп.1-14, где композиция включает по меньшей мере одну хиральную добавку В, имеющую формулу (I)

где каждый из R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 и R8 независимо обозначает C1-С6-алкил и C1-C6-алкокси;
каждый из A1 и А2 независимо обозначает группу, имеющую формулу (i)-(iii):
(i) -[(CH2)y-O]z-C(O)-CH=CH2;
(ii) -C(O)-D1-O-[(CH2)y-O]z-C(O)-CH=CH2;
(iii) -C(O)-D2-O-[(CH2)y-O]z-C(O)-CH=CH2;
D1 обозначает группу, имеющую формулу

D2 обозначает группу, имеющую формулу

каждый из m, n, о, р, q, r, s и t независимо равен 0, 1 или 2;
y равен 0, 1, 2, 3, 4, 5 или 6;
z равен 0, если y равен 0, и z равен 1, если у составляет от 1 до 6.
16. Способ по любому из пп.1-15, где по меньшей мере одна соль выбрана из солей металлов и солей аммония.
17. Способ по п.16, где по меньшей мере одна соль включает по меньшей мере одну соль из перхлората лития, нитрата лития, тетрафторбората лития, бромида лития, хлорида лития, перхлората тетрабутиламмония, хлорида тетрабутиламмония, тетрафторбората тетрабутиламмония, бромида тетрабутиламмония, карбоната натрия, хлорида натрия и нитрата натрия.
18. Способ по п.16, где по меньшей мере одна соль включает соль металла.
19. Способ по п.18, где металл выбран из щелочных и щелочно-земельных металлов.
20. Способ по п.19, где металл выбран из Li и Na.
21. Способ по п.20, где металл включает Li.
22. Способ по любому из пп.1-21, где модифицирующая смола получена из одного или более полимеризуемых мономеров.
23. Способ по п.22, где по меньшей мере один из одного или более полимеризуемых мономеров для получения модифицирующей смолы включает по меньшей мере две ненасыщенные углерод-углеродные связи.
24. Способ по любому из пп.22 и 23, где по меньшей мере один из одного или более полимеризуемых мономеров для получения модифицирующей смолы включает по меньшей мере один гетероатом, выбранный из О, N и S.
25. Способ по п.24, где по меньшей мере один гетероатом включает О.
26. Способ по любому из пп.22-25, где по меньшей мере один из одного или более полимеризуемых мономеров включает по меньшей мере одну группу, имеющую формулу H2C=CH-C(O)- или H2C=C(CH3)-C(O)-.
27. Способ по любому из пп.22-26, где по меньшей мере один из одного или более полимеризуемых мономеров выбран из простых полиэфиракрилатов, модифицированных простых полиэфиракрилатов, сложных полиэфиракрилатов, модифицированных сложных полиэфиракрилатов, гексафункциональных сложных полиэфиракрилатов, тетрафункциональных сложных полиэфиракрилатов, ароматических дифункциональных уретанакрилатов, алифатических дифункциональных уретанакрилатов, алифатических трифункциональных уретанакрилатов, алифатических гексафункциональных уретанакрилатов, уретанмоноакрилатов, алифатических диакрилатов, бисфенол А эпоксиакрилатов, модифицированных бисфенол А эпоксиакрилатов, эпоксиакрилатов, модифицированных эпоксиакрилатов, акриловых олигомеров, углеводородных акрилатных олигомеров, этоксилированных фенолакрилатов, полиэтиленгликольдиакрилатов, пропоксилированных неопентилгликоль-диакрилатов, диакрилированных производных бисфенола А, дипропиленгликольдиакрилатов, гександиолдиакрилатов, трипропиленгликоль-диакрилатов, простых полиэфиртетраакрилатов, дитриметилолпропан-тетраакрилатов, дипентаэритритгексаакрилатов, смесей пентаэритриттри- и тетраакрилатов, дипропиленгликольдиакрилатов, гександиолдиакрилатов, этоксилированных триметилолпропантриакрилатов и трипропиленгликоль-диакрилатов.
28. Способ по любому из пп.1-27, где модифицирующая смола включает смолу, отверждаемую облучением.
29. Способ по п.28, где модифицирующая смола, отверждаемая облучением, включает УФ-отверждаемую смолу.
30. Способ по любому из пп.1-27, где модифицирующая смола включает высушенную смолу на водной основе.
31. Способ изменения положения полосы селективного отражения, проявляемой отвержденной композицией, содержащей предшественник холестерического жидкого кристалла и по меньшей мере одну соль, изменяющую положение полосы селективного отражения, проявляемой отвержденной композицией, по сравнению с положением полосы селективного отражения, проявляемой отвержденной композицией, не включающей по меньшей мере одну соль, где способ включает приведение композиции в контакт с модифицирующей смолой, полученной из одного или более полимеризуемых мономеров и способной к изменению положения полосы селективного отражения, проявляемой отвержденной композицией, содержащей предшественник холестерического жидкого кристалла и по меньшей мере одну указанную соль.
32. Способ по п.31, где композиция содержит (i) одно или более нематических соединений А и (ii) одну или более хиральных добавок В, которые способствуют переходу композиции в холестерическое состояние.
33. Способ по п.31, где по меньшей мере один из одного или более полимеризуемых мономеров для получения модифицирующей смолы содержит по меньшей мере один гетероатом, выбранный из О, N и S.
34. Способ по любому из пп.31-33, где положение полосы селективного отражения изменяется модифицирующей смолой по меньшей мере приблизительно на 5 нм.
35. Основа с маркировкой, изготовленная способом по п.1, маркировка которой представляет собой отвержденную композицию, содержащую по меньшей мере одну соль, изменяющую положение полосы селективного отражения, и предшественник холестерического жидкого кристалла, причем между основой и маркировкой расположена находящаяся в контакте с маркировкой по меньшей мере одна область, содержащая модифицирующую смолу, полученную из одного или более полимеризуемых мономеров, изменяющую положение полосы селективного отражения указанной композиции, контактирующей с ней, так, что над указанной областью со смолой и над областями, свободными от указанной смолы, указанная отвержденная композиция имеет разные положения полосы селективного отверждения.
36. Основа по п.35, где композиция предшественника хирального холестерического жидкого кристалла содержит (i) одно или более нематических соединений А и (ii) одну или более хиральных добавок В, которые способствуют переходу указанной композиции в холестерическое состояние.
37. Основа по п.36, где композиция содержит по меньшей мере два соединения А.
38. Основа по любому из пп.36 и 37, где одно или более нематических соединений А, а также одна или более хиральных добавок В включают по меньшей мере одно соединение, включающее по меньшей мере одну полимеризуемую группу.
39. Основа по п.38, где по меньшей мере одна полимеризуемая группа включает ненасыщенную углерод-углеродную связь.
40. Основа по п.39, где по меньшей мере одна полимеризуемая группа включает группу, имеющую формулу H2C=CH-C(O)-.
41. Основа по любому из пп.36-40, где каждое из одного или более нематических соединений А и каждая из одной или более хиральных добавок В включает по меньшей мере одну полимеризуемую группу.
42. Основа по любому из пп.35-41, где композиция включает по меньшей мере одну хиральную добавку В, имеющую формулу (I)

где каждый из R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 и R8 независимо обозначает C1-C6-алкил и C1-С6-алкокси;
каждый из A1 и А2 независимо обозначает группу, имеющую формулу (i)-(iii):
(i) -[(CH2)y-O]z-C(O)-CH=CH2;
(ii) -C(O)-D1-O-[(CH2)y-O]z-C(O)-CH=CH2;
(iii) -C(O)-D2-O-[(CH2)y-O]z-C(O)-CH=CH2;
D1 обозначает группу, имеющую формулу

D2 обозначает группу, имеющую формулу

каждый из m, n, о, р, q, r, s и t независимо равен 0, 1 или 2;
y равен 0, 1, 2, 3, 4, 5 или 6;
z равен 0, если y равен 0, и z равен 1, если у составляет от 1 до 6.
43. Основа по любому из пп.35-42, где по меньшей мере одна соль выбрана из солей металлов и солей аммония.
44. Основа по п.43, где по меньшей мере одна соль включает по меньшей мере одну соль из перхлората лития, нитрата лития, тетрафторбората лития, бромида лития, хлорида лития, перхлората тетрабутиламмония, хлорида тетрабутиламмония, тетрафторбората тетрабутиламмония, бромида тетрабутиламмония, карбоната натрия, хлорида натрия и нитрата натрия.
45. Основа по п.43, где по меньшей мере одна соль включает соль металла.
46. Основа по п.45, где металл выбран из щелочных и щелочно-земельных металлов.
47. Основа по п.46, металл выбран из Li и Na.
48. Основа по п.47, где металл представляет собой Li.
49. Основа по любому из пп.35-48, где по меньшей мере один из одного или более полимеризуемых мономеров для получения модифицирующей смолы включает по меньшей мере две ненасыщенные углерод-углеродные связи.
50. Основа по любому из пп.35-49, где по меньшей мере один из одного или более полимеризуемых мономеров для получения модифицирующей смолы включает по меньшей мере один гетероатом, выбранный из O, N и S.
51. Основа по п.50, где по меньшей мере один гетероатом включает O.
52. Основа по любому из пп.35-51, где по меньшей мере один из одного или более полимеризуемых мономеров для получения модифицирующей смолы включает по меньшей мере одну группу, имеющую формулу H2C=CH-C(O)- или H2C=C(CH3)-C(O)-.
53. Основа по любому из пп.35-52, где по меньшей мере один из одного или более полимеризуемых мономеров для получения модифицирующей смолы выбран из простых полиэфиракрилатов, модифицированных простых полиэфиракрилатов, сложных полиэфиракрилатов, модифицированных сложных полиэфиракрилатов, гексафункциональных сложных полиэфиракрилатов, тетрафункциональных сложных полиэфиракрилатов, ароматических дифункциональных уретанакрилатов, алифатических дифункциональных уретанакрилатов, алифатических трифункциональных уретанакрилатов, алифатических гексафункциональных уретанакрилатов, уретанмоноакрилатов, алифатических диакрилатов, бисфенол А эпоксиакрилатов, модифицированных бисфенол А эпоксиакрилатов, эпоксиакрилатов, модифицированных эпоксиакрилатов, акриловых олигомеров, углеводородных акрилатных олигомеров, этоксилированных фенолакрилатов, полиэтиленгликольдиакрилатов, пропоксилированных неопентилгликольдиакрилатов, диакрилированных производных бисфенола А, дипропиленгликольдиакрилатов, гександиолдиакрилатов, трипропиленгликольдиакрилатов, простых полиэфиртетраакрилатов, дитриметилолпропантетраакрилатов, дипентаэритритгексаакрилатов, смесей пентаэритриттри- и тетраакрилатов, дипропиленгликольдиакрилатов, гександиолдиакрилатов, этоксилированных триметилолпропантриакрилатов и трипропиленгликольдиакрилатов.
54. Основа по любому из пп.35-53, где модифицирующая смола включает смолу, отверждаемую облучением.
55. Основа по п.54, где модифицирующая смола, отверждаемая облучением, включает УФ-отверждаемую смолу.
56. Основа по любому из пп.35-48, где модифицирующая смола включает высушенную смолу на водной основе.
57. Основа по любому из пп.35-56, где модифицирующая смола изменяет положение полосы селективного отражения, проявляемой отвержденной композицией, по меньшей мере приблизительно на 5 нм.
58. Основа по любому из пп.35-57, где модифицирующая смола изменяет положение полосы селективного отражения, проявляемой отвержденной композицией, до более коротких длин волн.
59. Основа по любому из пп.35-58, где по меньшей мере часть полосы селективного отражения, проявляемой отвержденной композицией, которая смещена модифицирующей смолой, находится в видимом диапазоне.
60. Основа по любому из пп.35-59, где по меньшей мере одна из одной или более областей, на которые нанесена модифицирующая смола, находится в форме по меньшей мере одного из следующих видов: изображения, картинки, логотипа, знаков и узора, представляющего собой код, выбранный из одного или более следующих кодов: одномерного штрих-кода, многоуровневого одномерного штрих-кода, двумерного штрих-кода, трехмерного штрих-кода и матрицы данных.
61. Основа по любому из пп.35-60, где по меньшей мере часть отвержденной композиции находится в форме по меньшей мере одного из следующих видов: изображения, картинки, логотипа, знаков и узора, представляющего собой код, выбранный из одного или более следующих кодов: одномерного штрих-кода, многоуровневого одномерного штрих-кода, двумерного штрих-кода, трехмерного штрих-кода и матрицы данных.
62. Основа по любому из пп.35-61, где основа представляет собой один из следующих предметов: этикетку, упаковку, картридж, контейнер или капсулу, содержащие биологически активные добавки, фармацевтические препараты, продукты питания или напитки, банкноту, кредитную карту, печать, акцизную марку, документ, обеспечивающий защиту, паспорт, идентификационную карту, водительское удостоверение, карту доступа, проездной билет, билет на мероприятие, платежный документ, пленку для переноса краски, отражающую пленку, алюминиевую фольгу и коммерческий товар.
Текст
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ОСНОВЫ С МАРКИРОВКОЙ И ОСНОВА С МАРКИРОВКОЙ, ИЗГОТОВЛЕННАЯ УКАЗАННЫМ СПОСОБОМ Изобретение относится к способу изготовления основы с маркировкой, включающей отвержденную композицию предшественника хирального жидкого кристалла, где композиция содержит по меньшей мере одну соль, изменяющую положение полосы селективного отражения,проявляемой отвержденной композицией по сравнению с полосой селективного отражения,проявляемой отвержденной композицией, не содержащей по меньшей мере одну соль, и между основой и маркировкой расположена находящаяся в контакте с маркировкой по меньшей мере одна область, содержащая модифицирующую смолу, полученную из одного или более полимеризуемых мономеров, изменяющую положение полосы селективного отражения, проявляемой указанной композицией, так, что над указанной областью со смолой и над областями, свободными от указанной смолы, указанная композиция имеет разные положения полосы селективного отверждения.(71)(73) Заявитель и патентовладелец: СИКПА ХОЛДИНГ СА (CH) Предшествующий уровень техники Область изобретения Настоящее изобретение относится к способу изготовления основы с композиционной маркировкой на основе предшественников хиральных нематических (также называемых холестерическими) жидких кристаллов и, в частности, с маркировкой, в которой модифицирующая смола (модифицирующий полимер) изменяет положение полосы селективного отражения, проявляемой отвержденной композицией предшественника хирального жидкого кристалла в хиральном жидкокристаллическом состоянии. Изобретение также относится к основе, изготовленной указанным способом, к способу изменения полосы селективного отражения, проявляемой отвержденной композицией, содержащей предшественник хирального жидкого кристалла, нанесенной на основу. Обсуждение информации предшествующего уровня техники Подделки в настоящее время составляют не только национальную или региональную проблему, а являются мировой проблемой, которая влияет не только на изготовителей, но также на потребителя. Подделка является значительной проблемой для таких товаров, как одежда и часы, но она становится даже более серьезной, когда это касается медицинских товаров и лекарственных средств. Ежегодно тысячи человек во всем мире умирают из-за поддельных лекарственных средств. Подделка также оказывает влияние на государственные доходы, поскольку воздействует на взимание налогов, например на сигареты и алкоголь, в связи с существованием черного рынка, где невозможно обнаружить и отследить поддельные (контрабандные, отклоненные и т.д.) изделия без действительных акцизных марок. Чтобы сделать подделки невозможными или, по меньшей мере, весьма затруднительными и/или дорогостоящими, предложено множество решений, например решения РЧИД (радиочастотной идентификации) и использования невидимых красок. Совсем в недавнее время для аутентификации подлинного продукта, такого как лекарственное средство, и во избежание подделки появились и применяются средства защиты. Данная технология основана на оптико-переменных красках. Ее принцип основан на различии в наблюдаемом цвете маркировки,выполненной оптико-переменной краской, когда упаковку, документ, обеспечивающий защиту, и т.д.,несущий эту маркировку, наблюдают под различными углами ("цвет, зависимый от угла зрения"). Оптико-переменные краски не только обеспечивают узнаваемость первой линии человеком, но также облегчают машинную читаемость. Во множестве патентов описано данное средство обеспечения безопасности, его композиция и его применение. Одним из примеров множества типов оптикопеременных красок является класс соединений, называемых холестерическими жидкими кристаллами. При освещении белым светом холестерическая жидкокристаллическая структура отражает свет определенного цвета, который зависит от типа используемого материала и обычно смещается в зависимости от угла наблюдения и температуры. Сам по себе холестерический материал бесцветен, и наблюдаемый цвет является результатом эффекта физического отражения от холестерической спиралевидной структуры,которую принимает композиция жидкокристаллического предшественника при данной температуре. См.,например, публикацию J.L. Fergason, Molecular Crystals, Vol. 1, p. 293-307 (1966), содержание которой полностью включено в настоящее описание посредством ссылки. В патентных документах EP-A-1 381520 и EP-A-1 681586, содержания которых полностью включены в настоящее описание посредством ссылки, раскрыта двоякопреломляющая маркировка и способ ее нанесения в форме жидкокристаллического слоя, имеющего неоднородный рисунок областей различной толщины. Нанесенное жидкокристаллическое покрытие или слой могут обеспечить скрытое изображение на отраженной основе, где это изображение невидимо при наблюдении в неполяризованном свете, но становится видимым при поляризованном свете или с помощью поляризационного фильтра. В патенте US 5678863, содержание которого полностью включено в настоящее описание посредством ссылки, раскрыты средства идентификации ценных бумаг, которые включают бумажный или полимерный участок, где этот участок обладает свойством прозрачности и просвечивания. Жидкокристаллический материал наносят на этот участок с получением оптического эффекта, который различается при наблюдении в проходящем и отраженном свете. Этот жидкокристаллический материал находится в жидкой форме при комнатной температуре и должен быть заключен в контейнерные средства, такие как микрокапсулы, чтобы он был пригодным для применения в процессе печати, таком как глубокая, ротационная, аэрографическая или струйная печать. Упорядоченное жидкокристаллическое состояние зависит от присутствия хиральной добавки. Нематические жидкие кристаллы без хиральной добавки проявляют молекулярную структуру, которая характеризуется ее двойным лучепреломлением. Нематические полимеры известны, например, из документов EP-A-0216712, EP-A-0847432 и патента US 6589445, содержания которых полностью включены в настоящее описание посредством ссылки. Как упомянуто выше, средство защиты на основе жидких кристаллов обеспечивает узнаваемость первой линии потребителем, а также операторами розничной торговли и изготовителями товаров и изделий. Как и для многих других средств защиты, которые используют на рынке, всегда существует стремление фальсификаторов воспроизвести эти средства защиты и, следовательно, ввести в заблуждение потребителей и операторов розничной торговли. В свете вышеизложенных фактов продолжает существо-1 024172 вать потребность в улучшении защиты жидкокристаллическими полимерными материалами, основанными на жидкокристаллических предшественниках. Одной из возможностей повышения степени защиты хиральной жидкокристаллической полимерной пленки, по-видимому, является нанесение на жидкокристаллическую полимерную пленку кода в виде узора, знаков или штрих-кода. Тем не менее, всегда имеется вероятность того, что фальсификатор может узнать код и вручную нанести его на жидкокристаллическую полимерную пленку. Вторая возможность преодоления данной проблемы состоит во введении кода внутрь жидкокристаллической полимерной пленки. Например, в патенте US 6207240, содержание которого полностью включено в настоящее описание посредством ссылки, описано нанесение на холестерический жидкокристаллический полимер (CLCP) покрытия с эффектом зависимости отраженного цвета от угла рассмотрения, которое дополнительно включает поглощающие пигменты, которые поглощают волны определенного цветового диапазона. С помощью облучения лазерным светом в CLCP покрытии создают маркировку, например, символ или текст. Облучение лазером обугливает материал CLCP в облучаемой области. В результате цвет основы (подложки), на которую нанесен CLCP, или цвет поглощающих пигментов,находящихся в CLCP в облученной области, становится видимым. Тем не менее, в этом способе для обугливания материала, в результате которого маркировка становится видимой, необходимо применение лазеров с высокой мощностью. Другое решение описано в патентном документе US 2006/0257633 А 1, содержание которого полностью включено в настоящее описание посредством ссылки, и включает применение не только жидкокристаллических полимеров, но и обычных полимеров. Способ состоит в нанесении проникающего вещества на заданный участок поверхности полимерной основы и введении сверхкритической текучей среды в контакт с поверхностью полимерной основы, на которую было нанесено проникающее вещество, в результате чего проникающее вещество просачивается в полимерную основу. Способ позволяет селективно(частично) модифицировать часть поверхности полимера. Тем не менее, для применения в промышленности, где требуется высокая скорость нанесения маркировки на большое количество изделий, этот способ слишком сложен и требует слишком высоких экономических затрат. Одним из недостатков цитируемых выше способов является отсутствие способности к селективной и контролируемой модификации слоя хирального жидкокристаллического полимера и к созданию прочной и надежной маркировки или кодирования, которое трудно, если не невозможно, воспроизвести, а также совместимости с технологической линией (способами изготовления таких предметов, как паспорта, упаковка и т.д.). Краткое изложение сущности изобретения В настоящем изобретении предложена основа, на которой имеются маркировка или слой, включающие отвержденную композицию хирального жидкокристаллического предшественника (находящуюся в жидкокристаллическом состоянии). Композиция хирального жидкокристаллического предшественника включает по меньшей мере одну соль, которая изменяет (обычно зависимым от концентрации путем) положение полосы селективного отражения (max), проявляемой отвержденной композицией (в хиральном жидкокристаллическом состоянии), по сравнению с положением полосы селективного отражения, проявляемой (идентичной во всем остальном) отвержденной композицией, не содержащей по меньшей мере одну соль. Кроме того, между основой и маркировкой или слоем расположена модифицирующая смола (модифицирующий полимер), полученная из одного или более полимеризуемых мономеров и находящаяся в контакте с одной или более областей маркировки или слоя. Эта модифицирующая смола изменяет положение полосы селективного отражения, проявляемой отвержденной композицией хирального жидкокристаллического предшественника, содержащей по меньшей мере одну соль (при нахождении в хиральном жидкокристаллическом состоянии) в одной или более областей основы. В настоящем изобретении также предложены маркировка или слой, локально модифицированные модифицирующей смолой как таковой (т.е. в отсутствие основы). Термин "модифицирующая смола" при использовании в настоящем описании и в прилагаемой формуле изобретения включает отвержденные смолы, как описано ниже, а также включает смолы на водной основе, такие как, например, полиамидные смолы (например,CAS175893-71-7, CAS303013-12-9, CAS393802-62-5, CAS122380-38-5, CAS9003-39-8),алкидные смолы (например, полиэфирного типа) и полиакрилаты. В одном из аспектов композиция хирального жидкокристаллического предшественника может включать (i) одно или более (например, два, три, четыре, пять или более и, в частности, по меньшей мере два) различных нематических соединения А и (ii) одну или более (например, две, три, четыре, пять или более) различных хиральных добавок В, способствующих образованию холестерического состояния композиции хирального жидкокристаллического предшественника при нагревании. Дополнительно, как одно или более нематических соединений А, так и одна или более хиральная добавка В могут включать по меньшей мере одно соединение, которое включает по меньшей мере одну полимеризуемую группу. Например, каждое из одного или более нематических соединений А и каждая из одной или более хиральных добавок В могут включать по меньшей мере одну полимеризуемую группу. По меньшей мере одна полимеризуемая группа может, например, включать группу, способную участвовать в свободнорадикальной полимеризации и, в частности, (предпочтительно активированную) ненасыщенную углерод-2 024172 углеродную связь, такую как, например, группа, имеющая формулу H2C=CH-C(O)-. В другом аспекте основы и маркировки по настоящему изобретению композиция хирального жидкокристаллического предшественника может включать по меньшей мере одну хиральную добавку В,имеющую формулу (I) где каждый из R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 и R8 независимо обозначает С 1-С 6-алкил и С 1-С 6-алкокси; каждый из A1 и А 2 независимо обозначает группу, имеющую формулу (i)-(iii):z равен 0, если y равен 0, и z равен 1, если у составляет от 1 до 6. Еще в одном другом аспекте основы и маркировки по настоящему изобретению по меньшей мере одна соль (например, одна, две, три или более различных солей), которая изменяет положение полосы селективного отражения, проявляемое отвержденной композицией хирального жидкокристаллического предшественника (независимо от того, нанесен ли полимер на основу) может быть выбрана из солей металлов и солей (предпочтительно четвертичного) аммония. Например, по меньшей мере одна соль может включать по меньшей мере одну соль металла, такого как щелочной или щелочно-земельный металл (например, Li, Na), например одну или более соль из перхлората лития, нитрата лития, тетрафторбората лития, бромида лития, хлорида лития, карбоната натрия, хлорида натрия, нитрата натрия и/или одну или более (замещенную органической группой) солей аммония, таких как соли тетраалкиламмония, например одну или более соль из перхлората тетрабутиламмония, хлорида тетрабутиламмония, тетрафторбората тетрабутиламмония и бромида тетрабутиламмония. В следующем аспекте основы/маркировки по настоящему изобретению по меньшей мере один из одного или более полимеризуемых мономеров для получения модифицирующей смолы, изменяющей положение полосы селективного отражения, проявляемой отвержденной композицией хирального жидкокристаллического предшественника, может включать по меньшей мере две ненасыщенные углеродуглеродные связи и/или по меньшей мере один из одного или более полимеризуемых мономеров может включать по меньшей мере один гетероатом, предпочтительно выбранный из О, N и S, и, в частности, О и/или N. Например, по меньшей мере один из одного или более полимеризуемых мономеров для получения модифицирующей смолы может включать одну или более групп (например, одну, две, три, четыре,пять, шесть или более групп), имеющих формулу Н 2 С=СН-C(O)- или Н 2 С=С(СН 3)-C(O)-. Неограничивающие примеры соответствующих мономеров включают простые полиэфиракрилаты, модифицированные простые полиэфиракрилаты (такие как, например, модифицированные аминами простые полиэфиракрилаты), сложные полиэфиракрилаты, модифицированные сложные полиэфиракрилаты (такие как,например, модифицированные аминами сложные полиэфиракрилаты), гексафункциональные сложные полиэфиракрилаты, тетрафункциональные сложные полиэфиракрилаты, ароматические дифункциональные уретанакрилаты, алифатические дисфункциональные уретанакрилаты, алифатические трифункциональные уретанакрилаты, алифатические гексафункциональные уретанакрилаты, уретанмоноакрилаты,алифатические диакрилаты, бисфенол А эпоксиакрилаты, модифицированные бисфенол А эпоксиакрилаты, эпоксиакрилаты, модифицированные эпоксиакрилаты (такие как, например, эпоксиакрилаты, модифицированные жирными кислотами), акриловые олигомеры, углеводородные акрилатные олигомеры,этоксилированные фенолакрилаты, полиэтиленгликольдиакрилаты, пропоксилированные неопентилгликоль-диакрилаты, диакрилированные производные бисфенола А, дипропиленгликольдиакрилаты, гександиолдиакрилаты, трипропиленгликоль-диакрилаты, простые полиэфиртетраакрилаты, дитриметилолпропантетра-акрилаты, дипентаэритритгексаакрилаты, смеси пентаэритриттри- и тетраакрилатов, дипропиленгликольдиакрилатов, гександиолдиакрилатов, этоксилированных триметилолпропантриакрилатов и трипропиленгликоль-диакрилатов. В другом аспекте основы/маркировки по настоящему изобретению модифицирующая смола, применяемая для изменения положения полосы селективного отражения, проявляемой (содержащей соль) отвержденной композицией хирального жидкокристаллического предшественника, может включать смолу, отверждаемую облучением, например, смолу, отверждаемую ультрафиолетовым облучением. Другим типом смол, которые можно применять согласно настоящему изобретению, являются смолы на водной основе, такие как полиамидные смолы, например, CAS175893-71-7, CAS303013-12-9, CAS393802-62-5, CAS122380-38-5, CAS9003-39-8. В другом аспекте модифицирующая смола может изменять положение полосы селективного отражения, проявляемой содержащей соль отвержденной композицией хирального жидкокристаллического предшественника, по меньшей мере приблизительно на 5 нм и/или может изменять положение до более коротких длин волн и/или смещенное положение полосы селективного отражения может находиться в видимом диапазоне. В этой связи отмечено, что "изменение положения полосы селективного отражения", как используют в настоящем описании и в прилагаемой формуле изобретения, означает изменениеmax, как измерено с использованием аналитического спектрального устройства, которое измеряет отражение образца в инфракрасном - ближнем инфракрасном - видимом - УФ-диапазоне спектра, такого как устройство LabSpec Pro, изготовленное фирмой Analytical Spectral Devices Inc., Boulder, Colorado. Еще в одном другом аспекте по меньшей мере одна из одной или более областей основы, на которую нанесена модифицирующая смола, может находиться в форме по меньшей мере одного из следующих видов: изображения, картинки, логотипа, знаков и узора, представляющего собой код, выбранный из одного или более следующих кодов: одномерного штрих-кода, многоуровневого одномерного штрихкода, двумерного штрих-кода, трехмерного штрих-кода и матрицы данных, и/или по меньшей мере часть отвержденной композиции хирального жидкокристаллического предшественника может находиться в форме по меньшей мере одного из следующих видов: изображения, картинки, логотипа, знаков и узора,представляющего собой код, выбранный из одного или более следующих кодов: одномерного штрихкода, многоуровневого одномерного штрих-кода, двумерного штрих-кода, трехмерного штрих-кода и матрицы данных. В следующем аспекте основа по настоящему изобретению может представлять собой или включать по меньшей мере один из следующих предметов: этикетку, упаковку, картридж, контейнер или капсулу,содержащую фармацевтические препараты, биологические активные добавки, продукты питания или напиток (такой как, например, кофе, чай, молоко, шоколад и т.д.), банкноту, кредитную карту, печать,акцизную марку, документ, обеспечивающий защиту, паспорт, идентификационную карту, водительское удостоверение, карту доступа, проездной билет, билет на мероприятие, платежный документ, пленку для переноса краски, отражающую пленку, алюминиевую фольгу и коммерческий товар. Маркировка согласно настоящему изобретению может быть также создана на основе, такой как пленка или лист полиэтилентерефталата (PET) или полиолефина, такого как полиэтилен, для последующего перенесения на постоянную основу (например, на одну из основ, описанных выше в предыдущем предложении). Далее в настоящем изобретении предложен способ нанесения маркировки на основу. Этот способ включает нанесение отверждаемой композиции хирального жидкокристаллического предшественника на поверхность основы, где на одну или более областей поверхности основы нанесена модифицирующая смола, полученная из одного или более полимеризуемых мономеров. Отверждаемая композиция хирального жидкокристаллического предшественника содержит по меньшей мере одну соль, изменяющую положение полосы селективного отражения, проявляемой отвержденной композицией хирального жидкокристаллического предшественника (при нахождении в хиральном жидкокристаллическом состоянии), по сравнению с положением полосы селективного отражения, проявляемой отвержденной композицией хирального жидкокристаллического предшественника, не содержащей по меньшей мере одну соль. Кроме того, модифицирующая смола способна к изменению положения полосы селективного отражения,проявляемой содержащей соль отвержденной композицией хирального жидкокристаллического предшественника, в одной или более областей основы, в которых она присутствует. Отверждаемую композицию хирального жидкокристаллического предшественника наносят таким путем, что композиция покрывает по меньшей мере часть одной или более областей, на которые нанесена модифицирующая смола, а также покрывает по меньшей мере одну область поверхности основы, на которую не нанесена модифицирующая смола. Способ дополнительно включает нагревание нанесенной композиции хирального жидкокристаллического предшественника для ее перевода в хиральное жидкокристаллическое состояние и отверждение композиции в хиральном жидкокристаллическом состоянии (например, под действием излучения, такого как УФ-излучение). В одном из аспектов способа по настоящему изобретению композицию хирального жидкокристаллического предшественника можно нагревать до температуры приблизительно от 55 до приблизительно 150C для перевода композиции хирального жидкокристаллического предшественника в хиральное жидкокристаллическое состояние. В другом аспекте способа композицию хирального жидкокристаллического предшественника можно наносить на основу путем по меньшей мере одного из следующих действий: нанесения покрытия напылением, нанесения покрытия с помощью ракеля, нанесения покрытия с помощью валка, нанесение покрытия с помощью трафарета, нанесения покрытия поливом, глубокой печати, флексографии, трафаретной печати, тампонной печати и струйной печати (например, непрерывной струйной печати, капельно-импульсной струйной печати, клапанно-струйной печати) и/или его можно наносить в форме по меньшей мере одного из следующих видов: изображения, картинки, логотипа, знаков и узора, представляющего собой код, выбранный из одного или более следующих кодов: одномерного штрих-кода, многоуровневого одномерного штрих-кода, двумерного штрих-кода, трехмерного штрих-кода и матрицы данных. Еще в одном другом аспекте модифицирующая смола может присутствовать по меньшей мере в одной из одной или более областей в форме по меньшей мере одного из следующих видов: изображения,картинки, логотипа, знаков и узора, представляющего собой код, выбранный из одного или более следующих кодов: одномерного штрих-кода, многоуровневого одномерного штрих-кода, двумерного штрих-кода, трехмерного штрих-кода и матрицы данных и/или может быть нанесена на основу путем по меньшей мере одного из следующих действий: нанесения покрытия напылением, нанесения покрытия с помощью ракеля, нанесения покрытия с помощью валка, нанесения покрытия с помощью трафарета, нанесения покрытия поливом, глубокой печати, флексографии, трафаретной печати, тампонной печати и струйной печати. Еще в одном следующем аспекте основа может представлять собой или включать по меньшей мере один из следующих предметов: этикетку, упаковку, картридж, контейнер или капсулу, содержащую фармацевтические препараты, биологические активные добавки, продукты питания или напиток (такой как, например, кофе, чай, молоко, шоколад и т.д.), банкноту, кредитную карту, печать, акцизную марку,документ, обеспечивающий защиту, паспорт, идентификационную карту, водительское удостоверение,карту доступа, проездной билет, билет на мероприятие, платежный документ, пленку для переноса краски, отражающую пленку, алюминиевую фольгу и коммерческий товар. В другом аспекте модифицирующая смола может обладать способностью к изменению положения полосы селективного отражения, проявляемой (содержащей соль) отвержденной композицией хирального жидкокристаллического предшественника, нанесенной на основу, по меньшей мере приблизительно на 5 нм. В другом аспекте способа по настоящему изобретению композиция хирального жидкокристаллического предшественника может включать (i) одно или более (например, два, три, четыре, пять или более и,в частности, по меньшей мере два) из различных нематических соединений А и (ii) одну или более (например, две, три, четыре, пять или более) из различных хиральных добавок В, которые способствуют переходу композиции хирального жидкокристаллического предшественника в холестерическое состояние при нагревании. Кроме того, как одно или более чем одно из нематических соединений А, так и одна или более из хиральных добавок В может включать по меньшей мере одно соединение, включающее по меньшей мере одну полимеризуемую группу. Например, каждое из одного или более из нематических соединений А и каждая из одной или более из хиральных добавок В могут включать по меньшей мере одну полимеризуемую группу. По меньшей мере одна полимеризуемая группа может, например, включать группу, которая способна участвовать в свободнорадикальной полимеризации и, в частности, (предпочтительно активированную) ненасыщенную углерод-углеродную связь, такую как, например, группа, имеющая формулу Н 2 С=СН-C(O)-. В другом аспекте способа по настоящему изобретению композиция хирального жидкокристаллического предшественника может содержать по меньшей мере одну хиральную добавку В, имеющую формулу (I) где каждый из R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 и R8 независимо обозначает С 1-С 6-алкил и С 1-С 6-алкокси; каждый из А 1 и А 2 независимо обозначает группу, имеющую формулу (i)-(iii):z равен 0, если y равен 0, и z равен 1, если у составляет от 1 до 6. Еще в одном другом аспекте способа по настоящему изобретению по меньшей мере одна соль (например, одна, две, три или более различных солей), которая изменяет положение полосы селективного отражения, проявляемое отвержденной композицией предшественника хирального жидкокристаллического полимера, может быть выбрана из солей металлов и солей аммония (предпочтительно четвертичного). Например, по меньшей мере одна соль может включать по меньшей мере одну соль металла, такого как щелочной или щелочно-земельный металл (например, Li, Na), например одну или более соль из перхлората лития, нитрата лития, тетрафторбората лития, бромида лития, хлорида лития, карбоната натрия, хлорида натрия, нитрата натрия и/или одну или более (замещенную органической группой) солей аммония, таких как соли тетраалкиламмония, например, одну или более солей из перхлората тетрабутиламмония, хлорида тетрабутиламмония, тетрафторбората тетрабутиламмония и бромида тетрабутиламмония. В одном аспекте одна или более солей могут содержать металл, такой как, например, щелочной металл и/или щелочно-земельный металл. Например, металл может быть выбран из одного или более металла из Li и Na. В следующем аспекте способа по настоящему изобретению по меньшей мере один из одного или более полимеризуемых мономеров для получения модифицирующей смолы для изменения положения полосы селективного отражения, проявляемой отвержденной (содержащей соль) композицией хирального жидкокристаллического предшественника, может включать по меньшей мере две ненасыщенные углерод-углеродные связи и/или по меньшей мере один из одного или более полимеризуемых мономеров может включать по меньшей мере один гетероатом, выбранный из О, N и S, и, в частности, О и/или N. Например, по меньшей мере один из одного или более полимеризуемых мономеров для получения модифицирующей смолы может включать одну или более групп (например, одну, две, три, четыре, пять,шесть или более групп), имеющих формулу Н 2 С=СН-C(O)- или Н 2 С=С(СН 3)-C(O)-. Неограничивающие примеры соответствующих мономеров включают простые полиэфиракрилаты, модифицированные простые полиэфиракрилаты (такие как, например, модифицированные аминами простые полиэфиракрилаты), сложные полиэфиракрилаты, модифицированные сложные полиэфиракрилаты (такие как, например,модифицированные аминами сложные полиэфиракрилаты), гексафункциональные сложные полиэфиракрилаты, тетрафункциональные сложные полиэфиракрилаты, ароматические дифункциональные уретанакрилаты, алифатические дифункциональные уретанакрилаты, алифатические трифункциональные уре-6 024172 танакрилаты, алифатические гексафункциональные уретанакрилаты, уретанмоноакрилаты, алифатические диакрилаты, бисфенол А эпоксиакрилаты, модифицированные бисфенол А эпоксиакрилаты, эпоксиакрилаты, модифицированные эпоксиакрилаты (такие как, например, эпоксиакрилаты, модифицированные жирными кислотами), акриловые олигомеры, углеводородные акрилатные олигомеры, этоксилированные фенолакрилаты, полиэтиленгликольдиакрилаты, пропоксилированные неопентилгликольдиакрилаты, диакрилированные производные бисфенола А, дипропиленгликольдиакрилаты, гександиолдиакрилаты, трипропиленгликоль-диакрилаты, простые полиэфиртетраакрилаты, дитриметилолпропантетраакрилаты, дипентаэритритгексаакрилаты, смеси пентаэритриттри- и тетраакрилатов, дипропиленгликольдиакрилатов, гександиолдиакрилатов, этоксилированных триметилолпропантриакрилатов и трипропиленгликольдиакрилатов. Другим типом смол, которые можно применять согласно настоящему изобретению, являются смолы на водной основе, такие как полиамидные смолы, например, CAS175893-71-7, CAS303013-12-9, CAS393802-62-5, CAS122380-38-5, CAS9003-39-8. В другом аспекте способа по настоящему изобретению модифицирующая смола может включать смолу, отвержденную облучением, например, смолу, отвержденную ультрафиолетовым облучением. В другом аспекте способа по настоящему изобретению модифицирующая смола может включать смолу на водной основе, которая может быть высушена традиционными способами, например, путем нагревания. Далее в настоящем изобретении предложена основа, на которую нанесена маркировка, где эта основа может быть получена способом по настоящему изобретению, как описано выше (включая его различные аспекты). В настоящем изобретении также предложен способ изменения положения полосы селективного отражения, проявляемого хиральным жидкокристаллическим предшественником, полученным из композиции, включающей (i) одно или более (например, два, три, четыре, пять или более и, в частности, по меньшей мере два) из различных нематических соединений А и (ii) одну или более (например, две, три,четыре, пять или более) из различных хиральных добавок В, которые способствуют переходу хирального жидкокристаллического предшественника в холестерическое состояние, и (iii) по меньшей мере одну соль, которая изменяет положение полосы селективного отражения, проявляемой отвержденной композицией, по сравнению с положением полосы селективного отражения, проявляемой отвержденной композицией, не содержащей по меньшей мере одну соль. Этот способ включает приведение композиции хирального жидкокристаллического предшественника в контакт с модифицирующей смолой, полученной из одного или более полимеризуемых мономеров, где по меньшей мере один из мономеров содержит гетероатом, выбранный из О, N и S, и способной к изменению положения полосы селективного отражения, проявляемой отвержденной композицией хирального жидкокристаллического предшественника. Затем композицию хирального жидкокристаллического предшественника нагревают до температуры приблизительно от 55 до приблизительно 150C для перевода ее в хиральное жидкокристаллическое состояние. Затем композицию хирального жидкокристаллического предшественника отверждают. В одном аспекте способа положение полосы селективного отражения может быть смещено по меньшей мере приблизительно на 5 нм. Другие аспекты способа, такие как аспекты, относящиеся к компонентам (i), (ii) и (iii), включают аспекты, описанные выше по отношению к основе/маркировке по настоящему изобретению. Краткое описание графических материалов Ниже настоящее изобретение описано в следующем подробном описании со ссылкой на прилагаемые графические материалы в качестве неограничивающих примеров иллюстративных форм осуществления настоящего изобретения: фиг. 1 представляет собой график, на котором показано положение полосы селективного отражения(max) отвержденной композиции хирального жидкокристаллического предшественника, подходящей для использования в настоящем изобретении, в зависимости от концентрации содержащейся в ней хиральной добавки на основе сухого вещества; фиг. 2 представляет собой график, на котором показано положение полосы селективного отражения(max) отвержденной композиции хирального жидкокристаллического предшественника, подходящей для использования в настоящем изобретении, в зависимости от количества миллимоль соли на грамм сухого вещества; на фиг. 3 показана фотография и соответствующий график, где проиллюстрировано действие первой модифицирующей смолы (отвержденной) на полосу селективного отражения (max) первой содержащей соль отвержденной композиции хирального жидкокристаллического предшественника, подходящей для применения в настоящем изобретении (пример 1); на фиг. 4 показана фотография и соответствующий график, где проиллюстрировано действие второй модифицирующей смолы на положение полосы селективного отражения (max) первой отвержденной композиции хирального жидкокристаллического предшественника, используемой в примере 1(пример 2); на фиг. 5 показана фотография и соответствующий график, где проиллюстрировано действие первой модифицирующей смолы, используемой в примере 1, на положение полосы селективного отражения(max) второй содержащей соль отвержденной композиции хирального жидкокристаллического предшественника (пример 3); на фиг. 6 показана фотография и соответствующий график, где проиллюстрировано действие второй модифицирующей смолы, используемой в примере 2, на положение полосы селективного отражения(max) второй содержащей соль отвержденной композиции хирального жидкокристаллического предшественника, используемой в примере 3 (пример 4); на фиг. 7 показан объект настоящего изобретения, в котором применяют модифицирующую смолу для создания точного совмещения по сравнению с другими существующими технологиями. Сведения, подтверждающие возможность осуществления изобретения Приведенное ниже подробное описание дано лишь для примера и иллюстрации примеров осуществления настоящего изобретения, и оно составляет, как полагают изобретатели, полезное и понятное описание принципов и концептуальных аспектов настоящего изобретения. По этой причине, структурные особенности настоящего изобретения не описаны более подробно, чем это требуется для общего понимания настоящего изобретения, поскольку предлагаемое описание, сопровождаемое прилагаемыми графическими материалами, должно быть достаточным для того, чтобы специалист в данной области техники смог реализовать некоторые примеры осуществления настоящего изобретения на практике. Выбор основы, применяемой согласно настоящему изобретению, по существу, не ограничен, и для осуществления изобретения могут быть использованы основы разных типов. Основа может, например,состоять (по существу) или включать одно или более из следующих веществ: металл (например, в виде контейнера, такого как банка, коробка или закрытый картридж, для вмещения различных веществ, таких как, например, биологически активные добавки, фармацевтические препараты, напитки или продукты питания, тканое полотно, покрытие и их эквиваленты, стекло (например, в виде контейнера, такого как бутылка, для вмещения различных веществ, таких как, например, биологически активные добавки, фармацевтические препараты, напитки или продукты питания (например, шоколад, кофе молоко, либо их смеси, картон (например, в форме упаковки), бумагу и полимерный материал, такой как, например, PET или полиэтилен (например, в виде контейнера или в виде части документа, обеспечивающего защиту). Следует отметить, что перечисленные материалы основы названы исключительно в качестве примеров,не ограничивающих объем изобретения. В целом любая основа (которая может быть необязательно плоской и может быть неоднородной), поверхность которой является нерастворимой или только слаборастворимой в растворителе (растворителях), используемых в композиции предшественника хирального жидкокристаллического полимера, является подходящей основой для целей настоящего изобретения. Основа может предпочтительно иметь темную или черную поверхность или фон, на который должна быть нанесена композиция предшественника. Не прибегая к какой-либо теории, можно предположить,что в случае темного или черного фона большая часть света, пропущенного холестерическим жидкокристаллическим материалом, поглощается фоном, и при этом остаточное обратное отражение от фона не мешает восприятию собственного отражения холестерического жидкокристаллического материала невооруженным глазом. Напротив, на основе со светлой или белой поверхностью или фоном, из-за сильного отражения от фона, отраженный цвет холестерического жидкокристаллического материала менее заметен по сравнению с черным или темным фоном. Тем не менее, даже в случае светлого или белого фона холестерический жидкокристаллический материал может быть всегда идентифицирован при помощи кругового поляризационного фильтра, поскольку благодаря своей хиральной спиралевидной структуре такой материал селективно отражает только одну из двух возможных компонент света, прошедшего круговой поляризационный фильтр. Основа по настоящему изобретению может дополнительно содержать дополнительные элементы, обеспечивающие защиту, такие как органические и/или неорганические пигменты, красители, пластинки, оптико-переменные элементы, магнитные пигменты и т.д. Композиция хирального жидкокристаллического предшественника, применяемая для получения маркировки согласно настоящему изобретению и наносимая (например, осаждаемая) по меньшей мере на часть по меньшей мере одной поверхности основы (и по меньшей мере по часть модифицирующей смолы по меньшей мере по одной поверхности основы) предпочтительно включает смесь (i) одного или более нематических соединений А и (ii) одного или более холестерических соединений В (т.е. хиральных добавок) (включающих холестерин), которые способствуют переходу композиции в холестерическое состояние. Шаг спирали получаемого холестерического состояния зависит от относительного отношения количеств нематического и холестерического соединений. Обычно (общая) концентрация одного или более нематических соединений А в композиции хирального жидкокристаллического предшественника,применяемой согласно настоящему изобретению, составляет приблизительно от четырех до приблизительно пятидесяти (общих) концентраций одного или более холестерических соединений В. Получение композиции предшественника с высокой концентрацией холестерических соединений обычно нежелательно (и, тем не менее, во многих случаях возможно), поскольку одно или более холестерическое соединение имеет тенденцию кристаллизоваться, что делает невозможным получение нужного жидкокристаллического состояния с определенными оптическими свойствами. Нематические соединения А, подходящие для введения в композицию хирального жидкокристаллического предшественника, известны в данной области техники; при использовании их как таковых (т.е. в отсутствие холестерических соединений), они образуют структуру, характеризующуюся двойным лучепреломлением. Неограничивающие примеры нематических соединений А, подходящих для применения согласно настоящему изобретению, описаны, например, в патентных публикациях WO 93/22397,WO 95/22586, EP 0847432 B, в патенте US 6589445, патентных публикациях US 2007/0224341 A1 иJP 2009300662 А. Содержание всех перечисленных документов полностью включено в настоящее описание посредством ссылки. Предпочтительный класс нематических соединений, применяемых согласно настоящему изобретению, содержит в одной молекуле одну или более (например, 1, 2 или 3) полимеризуемых группы, одинаковых или отличающихся друг от друга. Примеры полимеризуемых групп включают группы, способные участвовать в свободнорадикальной полимеризации и, в частности, группы, включающие углеродуглеродную двойную или тройную связь, такие как акрилатный фрагмент, винильный фрагмент или ацетиленовый фрагмент. В частности, предпочтительными полимеризуемыми группами являются акрилатные фрагменты. Нематические соединения, применяемые согласно настоящему изобретению, дополнительно могут включать одну или более (например, 1, 2, 3, 4, 5 или 6) необязательно замещенные ароматические группы, предпочтительно фенильные группы. Примеры необязательно присутствующих заместителей ароматических групп включают заместители, указанные в качестве примеров групп заместителей фенильных колец хиральных добавок, имеющих формулу (I), например алкильные и алкоксигруппы. Примеры групп, которые могут необязательно присутствовать для связывания полимеризуемых групп и арильных (например, фенильных) групп нематических соединений А, включают группы, примеры которых приведены при описании хиральных добавок В, имеющих формулу (I) (включающих добавки, имеющие формулу (IA) и формулу (IB), приведенные ниже). Например, нематические соединения А могут включать одну или более групп, имеющих формулы (i)-(iii), рассмотренных выше в качестве группировок A1 и А 2 в формуле (I) (и формулах (IA) и (IB, обычно связанных с необязательно замещенными фенильными группами. Конкретные неограничивающие примеры нематических соединений, подходящих для применения согласно настоящему изобретению, рассмотрены ниже в примере. Одно или более холестерическое соединение B (т.е. хиральная добавка), применяемое согласно настоящему изобретению, предпочтительно включает по меньшей мере одну полимеризуемую группу. Как указано выше, подходящие примеры одной или более хиральных добавок В включают добавки,имеющие формулу (I) где каждый из R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 и R8 независимо обозначает C1-С 6-алкил и C1-С 6-алкокси; каждый из А 1 и А 2 независимо обозначает группу, имеющую формулу (i)-(iii):z равен 0, если y равен 0, и z равен 1, если у составляет от 1 до 6. В одном из аспектов одна или более хиральных добавок В может включать одно или более производных изоманнида, имеющих формулу (IA) где каждый из R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 и R8 независимо обозначает С 1-С 6-алкил и С 1-С 6-алкокси; каждый из A1 и А 2 независимо обозначает группу, имеющую формулу (i)-(iii):z равен 0, если y равен 0, и z равен 1, если у составляет от 1 до 6. В одном из примеров осуществления соединений, имеющих формулу (IA) (и соединений, имеющих формулу (I, каждый из R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 и R8 независимо обозначает С 1-С 6-алкил. В альтернативном примере осуществления каждый из R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 и R8 в формуле (IA) (и в формуле (I независимо обозначает C1-С 6-алкокси. В другом примере осуществления соединений, имеющих формулу (I) и имеющих формулу (IA), каждый из А 1 и А 2 независимо обозначает группу, имеющую формулу-[(CH2)y-O]z-C(O)-CH=CH2; каждый из R1, R2, R3 и R4 независимо обозначает С 1-С 6-алкил и каждый из m,n, о и p независимо равен 0, 1 или 2. В другом примере осуществления каждый из A1 и А 2 в формуле (I) и формуле (IA) независимо обозначает группу, имеющую формулу -[(CH2)y-O]z-C(O)-CH=CH2; каждый изR1, R2, R3 и R4 независимо обозначает C1-C6-алкокси и каждый из m, n, о и р независимо равен 0, 1 или 2. В другом примере осуществления соединений, имеющих формулу (IA) (и имеющих формулу (I, каждый из A1 и А 2 независимо обозначает группу, имеющую формулу-C(O)-D1-O-[(CH2)y-O]z-C(O)-CH=CH2 и/или имеющую формулу -C(O)-D2-O-[(CH2)y-O]z-C(O)-CH=CH2; и каждый из R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 и R8 независимо обозначает С 1-С 6-алкил. В альтернативном примере осуществления каждый из A1 и А 2 в формуле (IA) (и в формуле (I независимо обозначает группу, имеющую формулу -C(O)-D1-O-[(CH2)y-O]z-C(O)-CH=CH2, и/или группу, имеющую формулу В другом аспекте одна или более хиральных добавок В может включать одно или более производных изосорбида, имеющих формулу (IB) где каждый из R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 и R8 независимо обозначает C1-C6-алкил и С 1-С 6-алкокси; каждый из A1 и А 2 независимо обозначает группу, имеющую формулу (i)-(iii):z равен 0, если y равен 0, и z равен 1, если у составляет от 1 до 6. В одном из примеров осуществления соединений, имеющих формулу (IB), каждый из R1, R2, R3, R4,R5, R6, R7 и R8 независимо обозначает С 1-С 6-алкил. В альтернативном примере осуществления каждый изR1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 и R8 в формуле (IB) независимо обозначает С 1-С 6-алкокси. В другом примере осуществления соединений, имеющих формулу (IB), каждый из A1 и А 2 независимо обозначает группу, имеющую формулу -[(CH2)y-O]z-C(O)-СН=СН 2; каждый из R1, R2, R3 и R4 независимо обозначает С 1-С 6-алкил; и каждый из m, n, о и р независимо равен 0, 1 или 2. В другом примере осуществления каждый из A1 и А 2 в формуле (IB) независимо обозначает группу, имеющую формулу[(CH2)y-O]z-C(O)-CH=CH2; каждый из R1, R2, R3 и R4 независимо обозначает С 1-С 6-алкокси и каждый изm, n, o и p независимо равен 0, 1 или 2. В другом примере осуществления соединений, имеющих формулу (IB), каждый из A1 и А 2 независимо обозначает группу, имеющую формулу -C(O)-D1-O-[(CH2)y-O]z-C(O)-CH=CH2 и/или имеющую формулу -C(O)-D2-O-[(CH2)y-O]z-C(O)-СН=СН 2; и каждый из R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 и R8 независимо обозначает С 1-С 6-алкил. В альтернативном примере осуществления каждый из A1 и А 2 в формуле (IB) независимо обозначает группу, имеющую формулу -C(O)-D1-O-[(CH2)y-O]z-C(O)-СН=СН 2, и/или группу,имеющую формулу -C(O)-D2-O-[(CH2)y-O]z-C(O)-СН=СН 2; и каждый из R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 и R8 независимо обозначает С 1-С 6-алкокси. В предпочтительном примере осуществления алкильная и алкоксигруппы R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 и 4,4-диметилпент-1-окси, 2,3-диметилпент-1-окси, 2,3-диметилпент-2-окси, 2,3-диметилпент-3-окси,2,3-диметилпент-4-окси и 3,4-диметилпент-1-окси. Конкретные неограничивающие примеры хиральных добавок В, имеющих формулу (I), применяемых согласно настоящему изобретению, приведены ниже в примерах. Обычно общая концентрация одной или более хиральных добавок В в композиции предшественника составляет приблизительно от 0,1 до приблизительно 30 мас.%, например приблизительно от 0,1 до приблизительно 25% или приблизительно от 0,1 до приблизительно 20 мас.% от общей массы композиции. Например, в случае струйной печати наилучшие результаты часто получают при концентрациях от 3 до 10 мас.% например от 5 до 8 мас.% от общей массы композиции полимера. Концентрация одного или более нематических соединений А часто составляет приблизительно от 30 до приблизительно 50 мас.% от общей массы композиции полимера. Одним из компонентов композиции хирального жидкокристаллического предшественника, применяемой согласно настоящему изобретению, является соль и, в частности, соль, способная к изменению положения полосы селективного отражения, проявляемого отвержденной композицией хирального жидкокристаллического предшественника (в хиральном жидкокристаллическом состоянии) по сравнению с положением полосы селективного отражения, проявляемой отвержденной композицией без соли. Для пояснения, касающегоиеся полосы селективного отражения, проявляемой хиральным жидкокристаллическим предшественником, можно сослаться на патент US 7742136 или на US 20100025641, причем содержание данных документов полностью включено в настоящее описание посредством ссылки. Степень, до которой может быть изменено положение полосы селективного отражения, проявляемой данной отвержденной композицией хирального жидкокристаллического предшественника за счет присутствия соли, зависит от различных факторов, среди прочего, от катиона соли, от аниона соли и от концентрации соли на грамм сухого экстракта. В связи с эти можно сослаться на приведенные ниже примеры. Обычно предпочтительно, чтобы концентрация соли, присутствующей в хиральном жидкокристаллическом предшественнике, была такой, чтобы положение полосы селективного отражения, проявляемой отвержденной композицией хирального жидкокристаллического предшественника, было изменено по меньшей мере приблизительно на 5 нм, например по меньшей мере приблизительно на 10 нм, по меньшей мере приблизительно на 20 нм, по меньшей мере приблизительно на 30 нм, по меньшей мере приблизительно на 40 нм или по меньшей мере приблизительно на 50 нм. Подходящие (общие) концентрации соли часто находятся в интервале от приблизительно 0,01 до приблизительно 10 мас.%, например от приблизительно 0,1 до приблизительно 5 мас.% от массы содержания твердых веществ композиции хирального жидкокристаллического предшественника. Неограничивающие примеры подходящих солей включают соли, которые содержат катион металла(металлов главной группы, переходных металлов, лантаноидов и актиноидов). Например, металл может представлять собой щелочной или щелочно-земельный металл, такой как, например, Li и Na. Дополнительные неограничивающие примеры подходящих солей включают соли четвертичного аммония, такие как соли тетраалкиламмония. Примеры подходящих анионов включают "регулярные" ионы, такие как,например, галогенид (например, фторид, хлорид, бромид, йодид), перхлорат, нитрат, нитрит, сульфат,сульфонат, сульфит, карбонат, бикарбонат, цианид, цианат и тиоцианат, а также комплексные ионы, такие как, например, тетрафторборат. Конечно, можно также использовать смеси двух или более солей(например, двух, трех, четырех или более солей). Если присутствуют две или более соли, они могут содержать одинаковые или не одинаковые катионы и/или одинаковые или не одинаковые анионы. Модифицирующая смола, применяемая согласно настоящему изобретению, по существу, не ограничена, если она в значительной степени обладает способностью к изменению положения полосы селективного отражения, проявляемой отвержденной композицией хирального жидкокристаллического предшественника, нанесенной на основу. В связи с этим предпочтительно, чтобы смола обладала способностью к изменению полосы селективного отражения по меньшей мере приблизительно на 5 нм, например по меньшей мере приблизительно на 10 нм, по меньшей мере приблизительно на 20 нм, по меньшей мере приблизительно на 30 нм, по меньшей мере приблизительно на 40 нм или по меньшей мере приблизительно на 50 нм. Эта способность зависит от различных факторов, таких как среди прочего типы компонентов, содержащихся в композиции хирального жидкокристаллического предшественника, например соли (солей) и хиральной добавки (хиральных добавок), и присутствие или отсутствие функциональных групп в модифицирующей смоле (и, следовательно, на ее поверхности). Примеры модифицирующих смол, которые подходят для применения согласно настоящему изобретению, включают смолы, полученные из (двух, трех, четырех или более) полимеризуемых мономеров,включающих один или более (например, два или три) гетероатомов, выбранных, например, из О, N илиS. В связи с этим понятно, что полимеризуемые мономеры не ограничены мономерами, которые полимеризуются путем свободнорадикальной полимеризации. Эти мономеры, вероятнее, включают, например,мономеры, которые полимеризуются путем катионной и/или анионной полимеризации и/или путем поликонденсации. Соответственно, неограничивающие примеры смол, подходящих для целей настоящего изобретения, включают органические смолы, такие как полиакрилаты, полиметакрилаты, простые поливиниловые эфиры, сложные поливиниловые эфиры, сложные полиэфиры, простые полиэфиры, полиами- 12024172 ды, полиуретаны, поликарбонаты, полисульфоны, фенольные смолы, эпоксидные смолы и смешанные формы этих смол. Также подходят смешанные неорганические/органические смолы, такие как силиконы(например, полиорганосилоксаны). Одним из конкретных типов смолы, которые можно применять согласно настоящему изобретению, являются водные смолы, такие как, например, полиамидные смолы(например, CAS175893-71-7, CAS303013-12-9, CAS393802-62-5, CAS122380-38-5, CAS9003-39-8). Неограничивающие примеры модифицирующих смол, применяемых согласно настоящему изобретению, дополнительно включают смолы, полученные из одного или более мономеров, выбранных из простых полиэфиракрилатов, модифицированных простых полиэфиракрилатов (таких как, например,модифицированные аминами простые полиэфиракрилаты), сложных полиэфиракрилатов, модифицированных сложных полиэфиракрилатов (таких как, например, модифицированные аминами сложные полиэфиракрилаты), гексафункциональных сложных полиэфиракрилатов, тетрафункциональных сложных полиэфиракрилатов, ароматических дифункциональных уретанакрилатов, алифатических дифункциональных уретанакрилатов, алифатических трифункциональных уретанакрилатов, алифатических гексафункциональных уретанакрилатов, уретанмоноакрилатов, алифатических диакрилатов, бисфенол А эпоксиакрилатов, модифицированных бисфенол А эпоксиакрилатов, эпоксиакрилатов, модифицированных эпоксиакрилатов (таких как, например, эпоксиакрилаты, модифицированные жирными кислотами),акриловых олигомеров, углеводородных акрилатных олигомеров, этоксилированных фенолакрилатов,полиэтиленгликольдиакрилатов, пропоксилированных неопентилгликоль-диакрилатов, диакрилированных производных бисфенола А, дипропиленгликольдиакрилатов, гександиолдиакрилатов, трипропиленгликоль-диакрилатов, простых полиэфиртетраакрилатов, дитриметилолпропан-тетраакрилатов, дипентаэритритгексаакрилатов, смесей пентаэритриттри- и тетраакрилатов, дипропиленгликольдиакрилатов, гександиолдиакрилатов, этоксилированных триметилолпропантриакрилатов и трипропиленгликольдиакрилатов (необязательно в комбинации с одним или более мономеров, отличающихся от вышеописанных мономеров). Понятно, что модифицирующая смола, применяемая согласно настоящему изобретению, не должна быть полностью отверждена (полимеризована) или высушена перед приведением ее в контакт с композицией хирального жидкокристаллического предшественника, если она способна выдерживать компоненты и, в частности, растворитель, который может присутствовать (и обычно присутствует) в (неотвержденной) композиции хирального жидкокристаллического предшественника (например, чтобы модифицирующая смола не растворялась в существенной степени). Отверждение частично отвержденной модифицирующей смолы может быть выполнено, например, вместе с отверждением хирального жидкокристаллического предшественника (например, под действием УФ-излучения). Другим огромным преимуществом по сравнению с существующим уровнем техники (проиллюстрированным, например, посредством WO 2001/024106, WO 2008/127950, содержания которых полностью включены в настоящее описание посредством ссылки) является возможность создания точного совмещения без применения метода масок в распознавании изображений. Под точным совмещением подразумевают возможность получить всего лишь за несколько этапов и/или стадий способа (способов) отдельный слой жидкокристаллического полимера, две или более зоны которого одновременно обладают различными свойствами смещения цвета и/или различными положениями полосы селективного отражения, и где эти зоны могут точно примыкать друг к другу без какого-либо перерыва или перекрывания между ними, как показано на фиг. 7. Данное преимущество следует из того факта, что композицию жидкокристаллического предшественника наносят за один этап, и ее свойства локально модифицируются модифицирующей смолой. Чтобы получить подобный результат в отсутствие настоящего способа, пришлось бы наносить и подвергать отверждению две или более композиций жидкокристаллического предшественника на последовательных этапах, соблюдая крайне высокую точность в порядке их нанесения, чтобы они покрывали примыкающие области без перерывов или перекрывания (как показано на фиг. 7). Настоящий способ позволяет несложным путем создавать логотип, маркировку, кодирование, штрих-код, узор, матрицу данных, где все они содержат различную информацию и/или цвет одновременно. Возможности,предоставляемые настоящим способом, включают применение смесей модифицирующих смол (например, смесей двух, трех, четырех или более модифицирующих смол), как в виде отвержденных физических смесей двух или более модифицирующих смол, так и в виде двух или более различных модифицирующих смол, которые (отдельно) находятся в различных положениях поверхности основы. Альтернативно или дополнительно, можно также применять две или более различные композиции хирального жидкокристаллического предшественника, различающихся, например, концентрацией содержащейся в них соли (солей), и/или различающихся содержанием различных солей. В результате,на поверхности одной основы может находиться большое число возможных комбинаций композиций хирального жидкокристаллического предшественника и модифицирующих смол. Это большое число возможных комбинаций среди прочего дает возможность создания специфичного кода и/или маркировки, которые трудно подделать, поскольку желающим воспроизвести их пришлось бы знать точный состав композиции хирального жидкокристаллического предшественника, тип, количество и концентрацию содержащейся в них соли (солей) и природу модифицирующей смолы (смол). Включение дополни- 13024172 тельных специфических элементов защиты, таких как ближние инфракрасные, инфракрасные и/или ультрафиолетовые элементы защиты (известные исключительно изготовителю маркировки), в композицию жидкокристаллического предшественника и/или в модифицирующую смолу еще в большей степени затрудняет подделку. Соответственно, в настоящем изобретении также рассмотрено и включено в его объем применение композиций хирального жидкокристаллического предшественника и модифицирующих смол, содержащих такие дополнительные специфические элементы защиты. Кроме того, в некоторых случаях может быть желательным преднамеренно, сначала, по существу,полностью, покрывать поверхность (или по меньшей мере ее значительную часть) основы материалом(модифицирующей) смолы с модифицирующими свойствами, а затем наносить на одну или более областей этой покрытой поверхности вторую модифицирующую смолу (или даже две или более различных модифицирующих смол на различные области), где первая и вторая (и третья и т.д.) смолы различаются по их способности к изменению положения полосы селективного отражения, проявляемой отвержденной композицией хирального жидкокристаллического предшественника (или двумя или более различными отвержденными композициями хирального жидкокристаллического предшественника). Также понятно, что настоящее изобретение не ограничено видимым диапазоном электромагнитного спектра. Например, модифицирующая смола может смещать всю полосу селективного отражения или ее часть, проявляемую отвержденной композицией хирального жидкокристаллического предшественника, с инфракрасного (ИК) диапазона до видимого диапазона, либо от видимого диапазона до ультрафиолетового (УФ) диапазона, либо с ИК-диапазона до УФ-диапазона. Композицию хирального жидкокристаллического предшественника можно наносить на поверхность основы любым подходящим способом, таким как, например, нанесение покрытия напылением,нанесение покрытия с помощью ракеля, нанесение покрытия с помощью валка, нанесение покрытие с помощью трафарета, нанесение покрытия поливом, глубокая печать, флексография, офсетная печать,офсетная печать без увлажнения, типографская печать, трафаретная печать, тампонная печать и струйная печать (например, непрерывная струйная печать, капельно-импульсная струйная печать, клапанноструйная печать). В одном из примеров осуществления настоящего изобретения нанесение (например,осаждением) композиции для получения маркировки или слоя и/или композиции для получения модифицирующей смолы выполняют с помощью печати, такой как, например, струйная печать (непрерывная,капельно-импульсная и т.д.), флексография, тампонная печать, ротационная глубокая печать, трафаретная печать и т.д. Конечно, можно также использовать другие виды печати, известные специалистам в области печати. В одном из предпочтительных примеров осуществления изобретения флексографическую печать применяют как для нанесения смолы, так и для нанесения композиции хирального жидкокристаллического предшественника. В другом предпочтительном примере осуществления изобретения струйную печать применяют как для нанесения модифицирующей смолы, так и для нанесения композиции хирального жидкокристаллического предшественника. В настоящем изобретении также рассмотрена возможность применения двух различных способов соответственно для нанесения модифицирующей смолы и композиции хирального жидкокристаллического предшественника. Для этой цели особенно подходят промышленные струйные принтеры, широко используемые для нумерации, кодирования и маркировки на линиях паспортизации и печатных прессах. Предпочтительные струйные принтеры включают струйные принтеры непрерывной печати с одной дюзой (соплом) (также называемые растровыми или многоуровневыми принтерами с дефлектором) и капельно-импульсные струйные принтеры, в частности, принтеры с клапанным управлением дюз (valve-jet printers). Толщина слоя нанесенной композиции жидкокристаллического полимера после отверждения описанными выше методами нанесения обычно составляет по меньшей мере приблизительно 1 мкм, например по меньшей мере приблизительно 3 мкм или по меньшей мере приблизительно 4 мкм, и обычно составляет не более чем приблизительно 20 мкм, например не более чем приблизительно 15 мкм, не более чем приблизительно 10 мкм или не более чем приблизительно 6 мкм. Толщина слоя нанесенной модифицирующей смолы после отверждения описанными выше методами нанесения обычно составляет по меньшей мере приблизительно 1 мкм, например по меньшей мере приблизительно 3 мкм или по меньшей мере приблизительно 5 мкм, но обычно составляет не более чем приблизительно 10 мкм. В частности, если композиция полимера, применяемая согласно настоящему изобретению (т.е. композиция для получения хирального жидкокристаллического предшественника или композиция для получения модифицирующей смолы) должна быть нанесена способом печати, указанным выше, например, струйной печатью, композиция обычно включает растворитель, позволяющий устанавливать значение вязкости чернил (краски), подходящее для выбранной методики нанесения (печати). Характерные значения вязкости чернил для флексографической печати находятся в диапазоне от приблизительно 40 до приблизительно 120 с при использовании, например, чашки стандарта DIN номер 4. Подходящие растворители известны специалистам в данной области техники. Неограничивающие примеры таких растворителей включают слабополярные апротонные органические растворители с низкой вязкостью, например, метилэтилкетон (МЭК), ацетон, циклогексанон, этилацетат, этил-3-этоксипропионат и смеси двух или более из перечисленных веществ. Дополнительно, в особенности, если композиция полимера, применяемая согласно настоящему изобретению (т.е. композиция для получения хирального жидкокристаллического предшественника или композиция для получения модифицирующей смолы) должна быть нанесена способом (непрерывной) струйной печати, эта композиция полимера также обычно включает по меньшей мере один агент, обеспечивающий электропроводность, известный специалистам в данной области техники. Если композиция хирального жидкокристаллического предшественника и/или композиция для получения модифицирующей смолы, применяемая согласно настоящему изобретению, предназначена для отверждения/полимеризации под действием УФ излучения, то композиция также будет включать по меньшей мере один фотоинициатор. Неограничивающие примеры множества подходящих фотоинициаторов включают: -гидроксикетоны, например 1-гидроксициклогексилфенилкетон и смесь (например,приблизительно 1:1) 1-гидроксициклогексилфенилкетона и одного или более из следующих соединений: бензофенона, 2-гидрокси-2-метил-1-фенил-1-пропанона и 2-гидрокси-1-[4-(2-гидроксиэтокси)фенил]-2 метил-1-пропанона; фенилглиоксилаты, например метилбензоилформат и смесь 2-[2-оксо-2 фенилацетоксиэтокси]этилового эфира оксифенилуксусной кислоты и 2-[2-гидроксиэтокси]этилового эфира оксифенилуксусной кислоты; бензилдиметилкетали, например альфа, альфа-диметокси-альфафенилацетофенон; -аминокетоны, например 2-бензил-2-(диметиламино)-1-[4-(4-морфолинил)фенил]-1 бутанон и 2-метил-1-[4-(метилтио)фенил]-2-(4-морфолинил)-1-пропанон; фосфиноксид и производные фосфиноксида,например дифенил-(2,4,6-триметилбензоил)фосфиноксид; фенил-бис-(2,4,6-триметилбензоил), поставляемый Ciba; а также производные тиоксантона, например,Speedcure ITX (CAS 142770-42-1), Speedcure DETX (CAS 82799-44-8), Speedcure CPTX (CAS 5495-84-1-2 или CAS 83846-86-0), поставляемые Lambson. Если композиция полимера, применяемая согласно настоящему изобретению (т.е. композиция для получения хирального жидкокристаллического предшественника или композиция для получения модифицирующей смолы), предназначена для отверждения способом, отличающимся от облучения УФ-светом, например, под действием частиц с высокой энергией (например, электронного пучка), рентгеновских лучей, гамма-лучей и т.д., то применение фотоинициатора не требуется. Может быть также возможным или даже желательным термическое отверждение композиции, особенно композиции для получения модифицирующей смолы. В этом случае композиция обычно включает по меньшей мере один инициатор термической полимеризации, такой как, например, пероксид или азосоединение. Другие примеры термической полимеризации хорошо известны специалистам в данной области техники. Композиция хирального жидкокристаллического предшественника и композиция для получения модифицирующей смолы, применяемые согласно настоящему изобретению, могут также включать множество других необязательных компонентов, подходящих и/или нужных для получения конкретного требуемого свойства композиции и, в общем, могут включать любые компоненты/вещества, не оказывающие существенного отрицательного влияния на целевое свойство композиции. Неограничивающие примеры таких необязательных компонентов включают полимеры (смолы), производные силана, сенсибилизирующие агенты для фотоинициаторов (если таковые присутствуют) и т.д. Например, особенно композиция хирального жидкокристаллического предшественника, применяемая согласно настоящему изобретению, может включать одно или более производных силана. Неограничивающие примеры подходящих производных силана включают необязательно полимеризуемые силаны, например силаны, имеющие формулу R1R2R3-Si-R4, где R1, R2, и R3 независимо представляют собой алкокси- и алкоксиалкоксигруппы, включающие всего от 1 до приблизительно 6 атомов углерода, и R4 представляет собой винил,аллил, (С 1-10)алкил, (мет)акрилокси(С 1-6)алкил и глицидилокси(С 1-6)алкил, например винилтриэтоксисилан,винилтриметоксисилан,винилтрис-(2-метоксиэтокси)силан,3-метакрилоксипропилтриметоксисилан, октилтриэтоксисилан и 3-глицидилоксипропилтриэтоксисилан, относящиеся к семейству Dynasylan, поставляемые фирмой Evonik. Концентрация одного или более производных силана, если таковые содержатся в композиции жидкокристаллического предшественника, обычно составляет приблизительно от 0,5 до приблизительно 5 мас.% от общей массы композиции. Для повышения степени защиты маркировки или слоя согласно настоящему изобретению композиция для получения модифицирующей смолы и/или композиция для получения хирального жидкокристаллического предшественника, применяемые согласно настоящему изобретению, могут дополнительно включать один или более пигментов и/или красителей, которые поглощают свет видимой или невидимой области электромагнитного спектра, и/или может дополнительно включать один или более люминесцентных пигментов и/или красителей и/или один или более магнитных пигментов. Неограничивающие примеры подходящих пигментов и/или красителей, которые поглощают свет видимой или невидимой области электромагнитного спектра, включают производные фталоцианина. Неограничивающие примеры подходящих люминесцентных пигментов и/или красителей включают производные лантаноидов. Неограничивающие примеры подходящих магнитных пигментов включают частицы оксидов переходных металлов, таких как оксиды железа и хрома. Присутствие пигмента (пигментов) и/или красителя (краси- 15024172 телей) повышает и усиливает устойчивость маркировки к фальсификации. После нанесения (например, осаждением) композиции хирального жидкокристаллического предшественника согласно настоящему изобретению на основу композицию полимера переводят в хиральное жидкокристаллическое состояние, обладающее специфическими оптическими свойствами. Термин "специфические оптические свойства" следует понимать как жидкокристаллическое состояние с определенным шагом спирали, который отражает длины волн определенного диапазона (полоса селективного отражения). Для этого композицию хирального жидкокристаллического предшественника нагревают, испаряют растворитель, если он содержится в композиции, и происходит перестройка в требуемое хиральное жидкокристаллическое состояние. Температура, используемая для испарения растворителя и перехода в жидкокристаллическое состояние, зависит от типа компонентов композиции хирального жидкокристаллического предшественника, и во многих случаях может составлять приблизительно от 55C до приблизительно 150C, например, приблизительно от 55C до приблизительно 100C, предпочтительно приблизительно от 60C до приблизительно 100C. Примеры подходящих источников нагревания включают традиционные средства нагревания, такие как нагревательная плита, печь, поток горячего воздуха и, в частности, источники излучения, например, инфракрасную лампу. Требуемая продолжительность нагревания зависит от нескольких факторов, например, типа компонентов в композиции полимера, типа нагревательного устройства и интенсивности нагревания (энергетического выхода нагревательного устройства. Во многих случаях достаточной является продолжительность нагревания, составляющая приблизительно от 0,1 с, приблизительно от 0,5 с или приблизительно от 1 до приблизительно 30 с, например не более приблизительно 20 с, не более приблизительно 10 с или не более приблизительно 5 с. Получение маркировки согласно настоящему изобретению завершается отверждением и/или полимеризацией (всей) композиции в хиральном жидкокристаллическом состоянии. Фиксацию или отверждение часто выполняют облучением УФ светом, вызывающим полимеризацию полимеризуемых групп,находящихся в композиции предшественника. Соответственно, весь способ получения маркировки по настоящему изобретению может включать выполняемые в следующем порядке этапы: нанесение модифицирующей смолы на основу; отверждение и/или высушивание нанесенной модифицирующей смолы по меньшей мере частично,например, полностью; нанесение включающей соль композиции хирального жидкокристаллического предшественника на часть поверхности основы, на которую нанесена модифицирующая смола; нагревание нанесенной композиции жидкокристаллического предшественника для ее приведения в холестерическое состояние; отверждение нагретой композиции жидкокристаллического предшественника (и необязательно завершение отверждения и/или высушивания модифицирующей смолы) с получением маркировки согласно настоящему изобретению. Маркировка согласно настоящему изобретению может быть введена, например, в качестве элемента защиты, элемента аутентификации, элемента идентификации или элемента обнаружения и отслеживания. Приведенные ниже примеры предназначены для иллюстрации изобретения без его ограничения. Описание примеров осуществления изобретения Получение композиции хирального жидкокристаллического предшественника. Композицию (I) хирального жидкокристаллического предшественника получали следующим образом, причем указаны проценты от общей массы композиции. Хиральную добавку В, имеющую формулу (I), представленную выше (4,75%), нематическое соединение А 1 (14%), нематическое соединение А 2 (14%) и циклогексанон (66,45%) помещали в колбу, которую затем нагревали до получения раствора. К этому раствору добавляли 2-метил-1[4-(метилтио)фенил]2-морфолинопропан-1-он (Irgacure 907, поставляемый Ciba, фотоинициатор, 0,6%) и изопропилтиоксантон (фотоинициатор, 0,2%). Полученную смесь перемешивали до полного растворения, получая в результате композицию (I) хирального жидкокристаллического предшественника. Получение слоя отвержденной композиции хирального жидкокристаллического предшественника. Вышеописанную композицию (I) наносили в виде покрытия на основу (прозрачную пленку PET,толщина 125 мкм) и полученный в результате слой нагревали приблизительно до 80C в течение приблизительно 30 с до испарения растворителя и перехода в холестерическую жидкокристаллическую фазу,т.е. состояние, которое проявляет специфичную полосу отражения, положение которой зависит от концентрации хиральной добавки В в композиции. Затем композицию отверждали облучением УФ-лампой(ртутной лампой низкого давления, имеющей интенсивность УФ-излучения 10 мВт/см 2) приблизительно в течение 1 с для затвердевания холестерической жидкокристаллической фазы посредством сополимеризации полимеризуемых групп соединений А 1, А 2 и В. После отверждения композиция, по существу, не содержала растворитель (присутствовали лишь следовые количества циклогексанона) и содержала вышеуказанные компоненты (в полимеризованной форме) в приведенных ниже массовых процентах от общей массы композиции: Концентрация хиральной добавки В в холестерическом жидкокристаллическом предшественнике позволяет контролировать положение полосы селективного отражения и, в результате, контролировать цвет слоя отвержденного хирального жидкокристаллического предшественника. Это проиллюстрировано на фиг. 1, которая представляет собой график длины волны максимума нормального отражения в зависимости от концентрации хиральной добавки В в сухой композиции. Если концентрация хиральной добавки В составляет 14,16%, длина волны максимума нормального отражения композиции находится около 510 нм, образуя зеленовато-синий цвет соответствующего слоя. Как показано на фиг. 1, повышение(снижение) концентрации хиральной добавки В в композиции приводит в результате к снижению (повышению) длины волны максимума нормального отражения. Добавление соли к композиции хирального жидкокристаллического предшественника. Две различные соли, т.е. LiClO4 и LiBr, добавляли к вышеописанной композиции (I) хирального жидкокристаллического предшественника. На фиг. 2 проиллюстрировано действие молярной концентрации соли на 1 г сухого вещества на длину волны максимума нормального отражения отвержденной композиции. Как видно из фиг. 2, обе соли LiClO4 и LiBr обладают сильным воздействием на положение полосы нормального отражения. Получение комбинаций отвержденный хиральный жидкокристаллический предшественник/модифицирующая смола.(1) Получение композиций, включающих соль. Вышеописанную композицию (I) модифицировали добавлением к ней двух различных солей, т.е.,LiClO4 и LiBr, в следующих массовых процентах (от общей массы композиции, содержащей растворитель, где процентное содержание растворителя, указанное выше, соответствующим образом уменьшено на процентное содержание добавленной соли): Вышеуказанные процентные содержания отражают различные молекулярные массы солей и приводят в результате приблизительно к одному и тому же молярному процентному содержанию каждой соли в композициях (Ia) и (Ib). Затем получали приведенные ниже композиции для получения модифицирующей смолы (в мас.% от общей массы композиции): Композиция (IIa):(Ebecryl 83 представляет собой полифункциональный акрилат, модифицированный амином, с низкой вязкостью). Композиция (IIb):(Ebecryl 1608 представляет собой очищенный бисфенол А эпоксидиакрилат, разведенный пропоксилированным глицерилтриакрилатом).(2) Общий метод получения маркировки. На одну сторону основы (прозрачной пленки PET толщиной 125 мкм) наносят каплю 2 мкл композиции (IIa) или (IIb), используя микропипетку. Основу помещают на нагревательную плиту (80C) для быстрого испарения растворителя, присутствующего в композиции смолы, отверждаемой УФ-излучением. Приблизительно после 30 с нагревания растворитель испаряется, и нанесенную смолу отверждают,используя УФ-лампу (ртутную лампу низкого давления, имеющей интенсивность УФ-излучения 10 мВт/см 2) приблизительно в течение 1 с. Затем одну сторону основы локально покрывают отвержденной УФ-смолой на участке в форме окружности диаметром приблизительно от 5 до 10 мм в зависимости от вязкости композиции смолы, отверждаемой УФ-излучением. На одну сторону основы, на которую нанесена смола, отверждаемая УФ-излучением, наносят слой одной из вышеописанных композиций жидкокристаллических предшественников (композиции (Ia) или(Ib на всю поверхность основы, используя ручное устройство для нанесения покрытия. Затем образец с покрытием быстро помещают на нагревательную плиту (80C) до испарения растворителя и перехода в холестерическую жидкокристаллическую фазу. Приблизительно после 30 с нагревания растворитель испаряется, и композицию жидкокристаллического предшественника отверждают, используя УФ-лампу (ртутную лампу низкого давления, имеющую интенсивность УФ-излучения 10 мВт/см 2) приблизительно в течение 1 с. Толщина полученного в результате слоя отвержденного холестерического жидкокристаллического полимера составляет приблизительно 3,3 мкм. Использовали следующие комбинации композиций: На фиг. 3-6 на фотографии сверху показан образец пленки PET в натуральную величину, где на приблизительно круговую область была нанесена модифицирующая смола, полученная из композиции(IIa) или композиции (IIb) (сзади образца находится черная бумага, которая обеспечивает черный фон и лучшую визуализацию цветовых различий). График внизу картинки показывает относительное отражение в зависимости от длины волны как для области с нанесенной модифицирующей смолой, полученной из композиции (IIa) или композиции (IIb) (покрытой отвержденным хиральным жидкокристаллическим предшественником, полученным из композиции (Ia) или композиции (Ib, так и для области, на которую нанесен только отвержденный хиральный жидкокристаллическим предшественник. На фиг. 7 представлен график, соответствующий графикам на фиг. 3-6 (без фотографии). Как видно из фиг. 3 (пример 1), положение полосы селективного отражения в области 2 соответствует положению полосы селективного отражения, которое могло быть предсказано на основании графика на фиг. 2 (кривая LiClO4), т.е. приблизительно 660 нм. Однако в области 1 расположенная ниже модифицирующая смола, полученная из композиции (IIa), значительно изменяет положение полосы селективного отражения до более короткого диапазона длин волн (506 нм), что приблизительно соответствует положению полосы селективного отражения слоя, полученного из композиции (Ia) без добавления соли(концентрацию хиральной добавки В, составляющую 14,16 мас.%, см. на фиг. 1). Соответственно, в этом случае расположенная ниже модифицирующая смола (полученная из композиции (IIa практически устраняет действие соли LiClO4, присутствующей в композиции, на положение полосы селективного отражения (цвет) слоя отвержденного хирального жидкокристаллического предшественника. Как видно из фиг. 4 (пример 2), по сравнению с фиг. 3 модифицирующая смола, полученная из композиции (IIa), более эффективна в отношении ее модифицирующих свойств, чем модифицирующая смола, полученная из композиции (IIb), хотя данная смола все же вызывает значительное изменение положения полосы селективного отражения слоя отвержденного хирального жидкокристаллического предшественника (приблизительно до 580 нм). Что касается примеров 3 и 4, в случае включения LiBr расположенная ниже модифицирующая смола, полученная из композиции (IIa), эффективна в отношении ее модифицирующих свойств и более эффективна в случае включения LiClO4, но предшествующая соль все же создает значительное изменение в направлении более коротких длин волн (фиг. 5). То же, по существу, применимо к смоле, полученной из композиции (IIb), см. фиг. 6. Приведенные выше примеры демонстрируют, что добавление соли в композицию хирального жидкокристаллического предшественника можно применять для контролируемого изменения положения полосы селективного отражения соответствующего отвержденного полимера и что оба типа соли и их концентрации могут влиять на смещающий эффект соли (в дополнение к изменению концентрации хиральной добавки). Приведенные выше примеры также показывают, что смещающий эффект соли может быть частично или полностью возвращен к исходному состоянию (контролируемым путем) за счет приведения в контакт композиции хирального жидкокристаллического предшественника с отвержденной(акрилатной) смолой перед отверждением жидкокристаллического предшественника. В качестве хиральной добавки В, имеющей формулу (I), в приведенных выше примерах можно, например, применять следующие соединения: Следует отметить, что представленные выше примеры приведены для разъяснения и никоим образом не ограничивают объем настоящего изобретения. Несмотря на то что настоящее изобретение было описано при помощи иллюстративного примера осуществления, следует понимать, что приведенное описание дано для иллюстрации и объяснения, а не для ограничения. В настоящее описание могут быть внесены изменения, не выходящие за пределы объема настоящего изобретения, включающего все его аспекты, ограничиваемого прилагаемой формулой изобретения. Несмотря на то что в описании настоящего изобретения были упомянуты конкретные средства, материалы и примеры осуществления, изобретение не ограничено указанными конкретными параметрами; напротив, настоящее изобретение включает все функционально эквивалентные структуры, способы и применение, не выходящие за пределы объема изобретения, ограничиваемого прилагаемой формулой изобретения. Полное описание одновременно поданной предварительной заявки на патент США под названием"Simplified control of color shifting properties of a chiral liquid crystal polymer" (Attorney docket: V38990) включено в настоящее описание посредством ссылки. ФОРМУЛА ИЗОБРЕТЕНИЯ 1. Способ изготовления основы с маркировкой, в котором:a) наносят на поверхность основы, на которую в одной или более областях поверхности основы нанесена модифицирующая смола, полученная из одного или более полимеризуемых мономеров, отверждаемую композицию предшественника холестерического жидкого кристалла таким путем, чтобы композиция покрывала по меньшей мере часть одной или более областей, на которые нанесена модифицирующая смола, а также покрывала по меньшей мере одну область поверхности, свободную от модифицирующей смолы, причем композиция содержит по меньшей мере одну соль, изменяющую положение полосы селективного отражения, проявляемой отвержденной композицией, по сравнению с положением полосы селективного отражения, проявляемой отвержденной композицией, не содержащей по меньшей мере одну соль;b) нагревают нанесенную композицию для перевода ее в холестерическое жидкокристаллическое состояние;c) отверждают композицию в холестерическом жидкокристаллическом состоянии,причем модифицирующая смола изменяет положение полосы селективного отражения, проявляемой отвержденной композицией, над одной или более областями основы, на которые она нанесена. 2. Способ по п.1, где нагревают композицию до температуры приблизительно от 55 до приблизительно 150C. 3. Способ по любому из пп.1 и 2, где композицию наносят по меньшей мере одним из следующих способов: нанесение покрытия напылением, нанесение покрытия с помощью ракеля, нанесение покрытия с помощью валка, нанесение покрытия с помощью трафарета, нанесение покрытия поливом, глубокая печать, флексография, трафаретная печать, тампонная печать, непрерывная струйная печать, капельноимпульсная струйная печать и клапанно-струйная печать. 4. Способ по любому из пп.1-3, где композицию наносят в форме по меньшей мере одного из следующих видов: изображения, картинки, логотипа, знаков и узора, представляющего собой код, выбранный из одного или более следующих кодов: одномерного штрих-кода, многоуровневого одномерного штрих-кода, двумерного штрих-кода, трехмерного штрих-кода и матрицы данных. 5. Способ по любому из пп.1-4, где модифицирующая смола находится по меньшей мере в одной из одной или более областей по меньшей мере одного из следующих видов: изображения, картинки, логотипа, знаков и узора, представляющего собой код, выбранный из одного или более следующих кодов: одномерного штрих-кода, многоуровневого одномерного штрих-кода, двумерного штрих-кода, трехмерного штрих-кода и матрицы данных. 6. Способ по любому из пп.1-5, где модифицирующая смола нанесена на основу по меньшей мере одним из следующих способов: нанесение покрытия напылением, нанесение покрытия с помощью ракеля, нанесение покрытия с помощью валка, нанесение покрытия с помощью трафарета, нанесение покрытия поливом, глубокая печать, флексография, офсетная печать, офсетная печать без увлажнения, типографская печать, трафаретная печать, тампонная печать, непрерывная струйная печать, капельноимпульсная струйная печать и клапанно-струйная печать. 7. Способ по любому из пп.1-6, где основа представляет собой один из следующих предметов: этикетку, упаковку, картридж, контейнер или капсулу, содержащие биологически активные добавки, фармацевтические препараты, продукты питания или напитки, банкноту, кредитную карту, печать, акцизную марку, документ, обеспечивающий защиту, паспорт, идентификационную карту, водительское удостоверение, карту доступа, проездной билет, билет на мероприятие, платежный документ, пленку для переноса краски, отражающую пленку, алюминиевую фольгу и коммерческий товар. 8. Способ по любому из пп.1-7, где модифицирующая смола способна к изменению положения полосы селективного отражения, проявляемой отвержденной композицией, включающей по меньшей мере одну соль, нанесенной на основу, по меньшей мере приблизительно на 5 нм. 9. Способ по любому из пп.1-8, где композиция предшественника холестерического жидкого кристалла содержит (i) одно или более нематических соединений А и (ii) одну или более хиральных добавок В, которые способствуют переходу указанной композиции в холестерическое состояние. 10. Способ по п.9, где композиция содержит по меньшей мере два соединения А. 11. Способ по любому из пп.9 и 10, где одно или более нематических соединений А, а также одна или более хиральных добавок В включают по меньшей мере одно соединение, включающее по меньшей мере одну полимеризуемую группу. 12. Способ по п.11, где по меньшей мере одна полимеризуемая группа включает ненасыщенную углерод-углеродную связь. 13. Способ по п.12, где по меньшей мере одна полимеризуемая группа включает группу, имеющую формулу H2C=CH-C(O)-. 14. Способ по любому из пп.9-13, где каждое из одного или более нематических соединений А и каждая из одной или более хиральных добавок В включает по меньшей мере одну полимеризуемую группу. 15. Способ по любому из пп.1-14, где композиция включает по меньшей мере одну хиральную добавку В, имеющую формулу (I) где каждый из R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 и R8 независимо обозначает C1-С 6-алкил и C1-C6-алкокси; каждый из A1 и А 2 независимо обозначает группу, имеющую формулу (i)-(iii):z равен 0, если y равен 0, и z равен 1, если у составляет от 1 до 6. 16. Способ по любому из пп.1-15, где по меньшей мере одна соль выбрана из солей металлов и солей аммония. 17. Способ по п.16, где по меньшей мере одна соль включает по меньшей мере одну соль из перхлората лития, нитрата лития, тетрафторбората лития, бромида лития, хлорида лития, перхлората тетрабутиламмония, хлорида тетрабутиламмония, тетрафторбората тетрабутиламмония, бромида тетрабутиламмония, карбоната натрия, хлорида натрия и нитрата натрия. 18. Способ по п.16, где по меньшей мере одна соль включает соль металла. 19. Способ по п.18, где металл выбран из щелочных и щелочно-земельных металлов. 20. Способ по п.19, где металл выбран из Li и Na. 21. Способ по п.20, где металл включает Li. 22. Способ по любому из пп.1-21, где модифицирующая смола получена из одного или более полимеризуемых мономеров. 23. Способ по п.22, где по меньшей мере один из одного или более полимеризуемых мономеров для получения модифицирующей смолы включает по меньшей мере две ненасыщенные углерод-углеродные связи. 24. Способ по любому из пп.22 и 23, где по меньшей мере один из одного или более полимеризуемых мономеров для получения модифицирующей смолы включает по меньшей мере один гетероатом,выбранный из О, N и S. 25. Способ по п.24, где по меньшей мере один гетероатом включает О. 26. Способ по любому из пп.22-25, где по меньшей мере один из одного или более полимеризуемых мономеров включает по меньшей мере одну группу, имеющую формулу H2C=CH-C(O)- илиH2C=C(CH3)-C(O)-. 27. Способ по любому из пп.22-26, где по меньшей мере один из одного или более полимеризуемых мономеров выбран из простых полиэфиракрилатов, модифицированных простых полиэфиракрилатов,сложных полиэфиракрилатов, модифицированных сложных полиэфиракрилатов, гексафункциональных сложных полиэфиракрилатов, тетрафункциональных сложных полиэфиракрилатов, ароматических дифункциональных уретанакрилатов, алифатических дифункциональных уретанакрилатов, алифатических трифункциональных уретанакрилатов, алифатических гексафункциональных уретанакрилатов, уретанмоноакрилатов, алифатических диакрилатов, бисфенол А эпоксиакрилатов, модифицированных бисфенол А эпоксиакрилатов, эпоксиакрилатов, модифицированных эпоксиакрилатов, акриловых олигомеров,углеводородных акрилатных олигомеров, этоксилированных фенолакрилатов, полиэтиленгликольдиакрилатов, пропоксилированных неопентилгликольдиакрилатов, диакрилированных производных бисфенола А, дипропиленгликольдиакрилатов, гександиолдиакрилатов, трипропиленгликольдиакрилатов, простых полиэфиртетраакрилатов, дитриметилолпропантетраакрилатов, дипентаэритритгексаакрилатов,смесей пентаэритриттри- и тетраакрилатов, дипропиленгликольдиакрилатов, гександиолдиакрилатов,этоксилированных триметилолпропантриакрилатов и трипропиленгликоль-диакрилатов. 28. Способ по любому из пп.1-27, где модифицирующая смола включает смолу, отверждаемую облучением. 29. Способ по п.28, где модифицирующая смола, отверждаемая облучением, включает УФ-отверждаемую смолу. 30. Способ по любому из пп.1-27, где модифицирующая смола включает высушенную смолу на водной основе. 31. Способ изменения положения полосы селективного отражения, проявляемой отвержденной композицией, содержащей предшественник холестерического жидкого кристалла и по меньшей мере одну соль, изменяющую положение полосы селективного отражения, проявляемой отвержденной композицией, по сравнению с положением полосы селективного отражения, проявляемой отвержденной композицией, не включающей по меньшей мере одну соль, где способ включает приведение композиции в контакт с модифицирующей смолой, полученной из одного или более полимеризуемых мономеров и способной к изменению положения полосы селективного отражения, проявляемой отвержденной композицией, содержащей предшественник холестерического жидкого кристалла и по меньшей мере одну указанную соль. 32. Способ по п.31, где композиция содержит (i) одно или более нематических соединений А и(ii) одну или более хиральных добавок В, которые способствуют переходу композиции в холестерическое состояние. 33. Способ по п.31, где по меньшей мере один из одного или более полимеризуемых мономеров для получения модифицирующей смолы содержит по меньшей мере один гетероатом, выбранный из О, N и S. 34. Способ по любому из пп.31-33, где положение полосы селективного отражения изменяется модифицирующей смолой по меньшей мере приблизительно на 5 нм. 35. Основа с маркировкой, изготовленная способом по п.1, маркировка которой представляет собой отвержденную композицию, содержащую по меньшей мере одну соль, изменяющую положение полосы селективного отражения, и предшественник холестерического жидкого кристалла, причем между основой и маркировкой расположена находящаяся в контакте с маркировкой по меньшей мере одна область,содержащая модифицирующую смолу, полученную из одного или более полимеризуемых мономеров,изменяющую положение полосы селективного отражения указанной композиции, контактирующей с ней, так, что над указанной областью со смолой и над областями, свободными от указанной смолы, указанная отвержденная композиция имеет разные положения полосы селективного отверждения. 36. Основа по п.35, где композиция предшественника хирального холестерического жидкого кристалла содержит (i) одно или более нематических соединений А и (ii) одну или более хиральных добавок В, которые способствуют переходу указанной композиции в холестерическое состояние. 37. Основа по п.36, где композиция содержит по меньшей мере два соединения А. 38. Основа по любому из пп.36 и 37, где одно или более нематических соединений А, а также одна или более хиральных добавок В включают по меньшей мере одно соединение, включающее по меньшей мере одну полимеризуемую группу. 39. Основа по п.38, где по меньшей мере одна полимеризуемая группа включает ненасыщенную углерод-углеродную связь. 40. Основа по п.39, где по меньшей мере одна полимеризуемая группа включает группу, имеющую формулу H2C=CH-C(O)-. 41. Основа по любому из пп.36-40, где каждое из одного или более нематических соединений А и каждая из одной или более хиральных добавок В включает по меньшей мере одну полимеризуемую группу. 42. Основа по любому из пп.35-41, где композиция включает по меньшей мере одну хиральную добавку В, имеющую формулу (I)
МПК / Метки
МПК: C09K 19/54, C09K 19/58
Метки: изготовленная, основы, маркировкой, способ, основа, указанным, изготовления, способом
Код ссылки
<a href="https://eas.patents.su/30-24172-sposob-izgotovleniya-osnovy-s-markirovkojj-i-osnova-s-markirovkojj-izgotovlennaya-ukazannym-sposobom.html" rel="bookmark" title="База патентов Евразийского Союза">Способ изготовления основы с маркировкой и основа с маркировкой, изготовленная указанным способом</a>
Предыдущий патент: Ингибиторы вируса гепатита с
Следующий патент: Ингибиторы вируса гепатита с
Случайный патент: Полиморфные формы стимулятора секреции гормона роста